フォトレジスト膜の英語

フォトレジスト材料、及びフォトレジスト膜の形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST FILM - 特許庁

下層フォトレジスト膜をベーキングし、更に下層フォトレジスト膜上に光透過率の高いポジ型の上層フォトレジスト膜５２を成膜する。例文帳に追加

Then the film 50 is baked and a positive upper-layer photoresist film 52 having high light transmittance is formed on the film 50. - 特許庁

フォトレジスト下層膜材料、フォトレジスト下層膜基板及びパターン形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST UNDERLAY FILM MATERIAL, PHOTORESIST UNDERLAY FILM SUBSTRATE, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン化されたフォトレジスト膜の形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERNED PHOTORESIST FILM USING THE SAME - 特許庁

フォトレジスト膜３０が蒸着膜上に塗布される。例文帳に追加

A photoresist film 30 is applied on the deposition film. - 特許庁

ビアホール内を埋め込むように層間絶縁膜上に第１のフォトレジスト膜を塗布し、少なくともビアホール内の第１のフォトレジスト膜を露光した後、第１のフォトレジスト膜上に第２のフォトレジスト膜を塗布する。例文帳に追加

After an inter-layer insulating film is coated with a 1st photoresist film to fill the via hole and at least the 1st photoresist film in the via hole is exposed, the 1st photoresist film is coated with a 2nd photoresist film. - 特許庁

フォトレジスト用反射防止膜材料組成物例文帳に追加

ANTIREFLECTION FILM MATERIAL COMPOSITION FOR PHOTORESIST - 特許庁

光反射膜の上にフォトレジストを形成する。例文帳に追加

A photoresist is formed on the light reflective film. - 特許庁