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フステンの英語
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英訳・英語 Husten
ライフサイエンス辞書での「フステン」の英訳 |
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フステン
*
ふすてん
クロルフェニラミンを参照 (薬剤商品名→成分)
ジヒドロコデインを参照 (薬剤商品名→成分)
メチルエフェドリンを参照 (薬剤商品名→成分)
シソーラス
Scholar,
Entrez,
Google,
WikiPedia
同義語（異表記）
Aller-Chlor
Antihistaminico Lloren
Chlo-Amine
Chlocodemin
Chlophedrin
Chlor-100
Chlor-Tripolon
chlorpheniramine polistirex
Chlorpro
Chlorspan 12
Chlortab-4
Cloro-Trimeton
d-クロルフェニラミンマレイン酸塩
Efidac 24
Huscobron
Huscode
Husten
Kloromin
Neomallermin
Neomallermin-TR
Neorestamin
Nichicode
Piriton
Teldrin
アストーマ
アニミング
アプシラジン
アレルギン
エンペラシン
クロール・トリメトン
クロコデミン
クロダミン
クロフェドリン
クロルフェナミン
クロルフェニラミンポリスチレクス
クロルフェニラミンマレイン酸塩
コーヒス
サクコルチン
セレスターナ
ニチコデ
ネオベナコン
ネオマレルミン
ネオマレルミンTR
ネオレスタール
ネオレスタミン
ヒスタール
ヒスタブロック
ビスミラー
ビヘルス
フスコデ
フスコブロン
フステン
プラコデ
プラデスミン
プロダミン
ベタセレミン
ポラジット
マゴチミン
マレラミン
ムコブロチン
ライトゲン
「フステン」を含む例文一覧
該当件数 : 1件
例文
>>例文の一覧を見る
ＰＭＧＩ層２８上にフォトレジスト層が形成され、ＧＭＲ層２６の上方において均一な高さに２層リフトオフステンシルマスク（左右対象なオーバーハング部分を含む）が形成される。例文帳に追加
A photoresist layer is formed on the PMGI layer 28, and a two-layer lift-off stencil mask (a laterally symmetric overhang part is included) is formed with its uniform height upward of the GMR layer 26. - 特許庁
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