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不純物領域の英語
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「不純物領域」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 3093件
不純物拡散領域41の不純物濃度は、ドレイン領域35の不純物濃度よりも高い。例文帳に追加
The impurity concentration of the impurity diffusion area 41 is higher than the impurity concentration of the drain area 35. - 特許庁
半導体層には、第1不純物領域8、第2不純物領域9、第3不純物領域10、第4不純物領域11、第5不純物領域12および第6不純物領域13が形成されている。例文帳に追加
In a semiconductor layer, a first impurity region 8, a second impurity region 9, a third impurity region 10, a fourth impurity region 11, a fifth impurity region 12 and a sixth impurity region 13 are formed. - 特許庁
第3の不純物領域は、第4の不純物領域よりも不純物濃度を低くし、第1の不純物領域は、第2の不純物領域よりも不純物濃度を低くする。例文帳に追加
The impurity concentration of the third impurity region is set lower than that of the fourth impurity region, and the impurity concentration of the first impurity region is set lower than that of the second impurity region. - 特許庁
低濃度不純物領域36の不純物濃度はPウェル2の不純物濃度よりも低い。例文帳に追加
The impurity concentration of the low-concentration impurity region 36 is lower than that of the P well 2. - 特許庁
ボックス型の不純物プロファイルをもつ不純物領域を形成する。例文帳に追加
To form an impurity area having a box type impurity profile. - 特許庁
半導体層には、第1不純物領域5、第2不純物領域6、第3不純物領域7、第4不純物領域8および第5不純物領域9が形成されている。例文帳に追加
A first impurity region 5, a second impurity region 6, a third impurity region 7, a fourth impurity region 8 and a fifth impurity region 9 are formed in a semiconductor layer. - 特許庁
チャネル領域27は、相対的に不純物濃度が小さい1対の低濃度不純物領域25と、低濃度不純物領域25に挟まれて位置し、相対的に不純物濃度が大きい高濃度不純物領域26とを含む。例文帳に追加
The channel region 27 includes a pair of low-concentration impurity regions 25 with relatively smaller impurity concentration, and a high-concentration impurity region 26 that is located while being held between the low-concentration impurity regions 25 and has relatively large impurity concentration. - 特許庁
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「不純物領域」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 3093件
p^-半導体基板1及びp^+不純物領域4は、p^+不純物領域6及びn^+不純物領域45よりも低い電位が与えられる。例文帳に追加
A potential applied to the p^- semiconductor substrate 1 and the p^+ impurity region 4 is lower than that of the p^+ impurity region 6 and the n^+ impurity region 45. - 特許庁
第5不純物領域12および第6不純物領域13は、第2不純物領域9と接続されている。例文帳に追加
The fifth impurity region 12 and the sixth impurity region 13 are connected to the second impurity region 9. - 特許庁
第1主面の第3不純物領域は第1不純物領域との間で第2不純物領域を挟んでいる。例文帳に追加
The third impurity region on the first main surface and the first impurity region sandwich the second impurity region. - 特許庁
第2主面の第4および第5不純物領域は第2不純物領域との間で第1不純物領域を挟んでいる。例文帳に追加
The fourth and fifth impurity regions and the second impurity region sandwich the first impurity region on a second main surface. - 特許庁
第1不純物と第2不純物とを導入してなる第1不純物領域と、第2不純物のみを導入してなる第2不純物領域とを自己整合的に形成し、第1不純物領域と第2不純物領域とを高精度に隣接して形成する。例文帳に追加
To form a first impurity region, provided by introducing first impurities and second impurities, and a second impurity region, provided by introducing only the second impurities, in a self-alignment manner, and to form the first impurity region and the second impurity region adjacently at a high accuracy. - 特許庁
ソース領域3は、p^-不純物領域3aと、n^+不純物領域3bとを有し、ドレイン領域4は、p^-不純物領域4aと、n^+不純物領域4bとを有する。例文帳に追加
The source region 3 has a p- impurity region 3a and an n+ impurity region 3b, and the drain region 4 has a p- impurity region 4a and an n+ impurity region 4b. - 特許庁
N^−型不純物拡散領域21の不純物濃度はN^+型不純物拡散層22の不純物濃度よりも低い。例文帳に追加
Impurity concentration of the n^--type impurity diffusing region 21 is lower than that of the n^+-type impurity diffusing layer 22. - 特許庁
そして、不純物イオンを打ち込み、セルアレイ領域に埋込型不純物拡散領域を形成する。例文帳に追加
Then, impurity ions are implanted, and the embedded type impurity diffused region is formed in the cell array region. - 特許庁
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