中心線内底板の英語

内槽の底面の幅方向および奥行き方向において当該底面からの気泡の離脱を中心線に対して対称的に行わせることにより、内槽内で処理される被処理基板について、当該内槽の幅方向および奥行き方向における処理の対称性を得ることができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate processing apparatus capable of obtaining symmetry of processings for a substrate to be processed, in the inner tank in the width direction and the depth direction of the inner tank, by symmetrically releasing bubbles generated from the bottom surface of the inner tank, with respect to the center line in the width direction and depth direction of the inner tank. - 特許庁