五酸化タンタル薄膜の英語

この誘電層は窒素膜と酸化膜の二層構造とするか、或いは酸化膜・窒化膜・酸化膜の三層構造とするか、或いはその他の高誘電薄膜、例えば五酸化二タンタルで形成する。例文帳に追加

The dielectric layer has a double layer structure of nitride film and oxide film or a three layer structure of oxide film, nitride film and oxide film, or is formed of the other thin film of high dielectric constant, e.g. tantalum pentaoxide. - 特許庁

ファラデー回転子４は、基板１の上に二酸化ケイ素SiO_2と五酸化タンタルTa_2O_5とからなる第１の周期的誘電体多層膜３ａが形成され、その上には磁気光学薄膜７が形成され、さらにその上に五酸化タンタルTa_2O_5と二酸化ケイ素SiO_2とからなる第２の周期的誘電体多層膜３ｂとが形成されている。例文帳に追加

In the Faraday rotator 4, a first periodic dielectrics multiplayer film 3a consisting of silicon dioxide SiO_2 and tantalum pentoxide Ta_2O_5 is formed on a substrate 1, a magneto-optical thin film 7 is formed thereon and further a second periodic dielectrics multiplayer film 3b consisting of tantalum pentoxide Ta_2O_5 and silicon dioxide SiO_2 is formed thereon. - 特許庁

ＮＤフィルタ１０は、平面形状が略円形のガラスである透明基板１１と、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２ ）で形成された低屈折率誘電体薄膜１２と、ニクロム（ＮｉＣｒ）で形成された金属薄膜１３と、五酸化タンタル（Ｔａ_２ Ｏ_５ ）で形成された高屈折率誘電体薄膜１４とで構成されている。例文帳に追加

The ND filter 10 is constituted of a transparent substrate 11 of a glass having almost circularity in a plane section, a low refractive index dielectric thin film 12 formed of magnesium fluoride (MgF_2), a metallic thin film 13 formed of nichrome (NiCr), and a high refractive index dielectric thin film 14 formed of tantalum pentaoxide (Ta_2O_5). - 特許庁