光リトグラフィの英語

マイクロリトグラフィー用光学素子の作製方法、同方法により得られるレンズ系、及び同レンズ系の使用方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL ELEMENT FOR MICROLITHOGRAPHY, LENS SYSTEM OBTAINED BY THE METHOD AND USING METHOD OF THE LENS SYSTEM - 特許庁

２００ｎｍ以下の波長で行われるマイクロリトグラフィー用の液浸光学器械において用いられる前面レンズは本発明に従った光学素子の好ましい一例である。例文帳に追加

A front lens used in immersion optics for microlithography at a wavelength of 200 nm or less is an example of a preferred optical element according to the present invention. - 特許庁

特にマイクロリトグラフィーでの紫外線照射に用いる光学素子を立方晶グラナタイト、立方晶スピネル、立方晶ペロブスカイト、立方晶Ｍ（ＩＩ）酸化物及び／またはＭ（ＩＶ）酸化物から作製する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of optical element for microlithography in which an optical element used for ultraviolet irradiation especially for microlithography is made from cubic granatite, cubic spinel, cubic perovskite, cubic M(II)-oxide and/or M(IV)-oxide. - 特許庁