窒化鉄薄膜の英語

窒化鉄薄膜及びその製造方法例文帳に追加

IRON NITRIDE THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

高価な真空装置や原料を用いることなく、成膜速度が大きい窒化鉄薄膜を大気圧中でエピタキシャル成長させる窒化鉄薄膜の製造方法とその方法によって作製する窒化鉄薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a producing method for thin film of iron nitride by which a thin film of iron nitride having a high growth speed can be epitaxially grown under the atmospheric pressure without using an expensive vacuum equipment and raw material. - 特許庁

薄膜原料５１であるハロゲン化鉄を気化させたハロゲン化鉄ガスと窒素を含有した窒素源ガス７とを反応させて窒化鉄ガスを生成するステップと、この窒化鉄ガスを大気圧中で基板６１上に吸着させてエピタキシャル成長させることによって、窒化鉄のエピタキシャル膜６３を基板６１上に生成するステップとを含んでなる方法である。例文帳に追加

The method includes the following steps: a step where an iron nitrogen gas is produced by reacting an iron halide gas vaporized from an iron halide, a thin film raw material 51, and a nitrogen source gas 7 containing nitrogen; and a step where an epitaxial film 63 of iron nitride is formed on a substrate 61 by epitaxially growing the above iron nitride gas adsorbed under the atmospheric pressure on the substrate 61. - 特許庁