Bias Sputtering Systemとは 意味・読み方・使い方

BIAS SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND BIAS SPUTTERING FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

バイアススパッタ成膜方法及びバイアススパッタ成膜装置 - 特許庁

When forming the protective film which protects the main magnetic pole, the film is deposited by a sputtering system with a bias or by a carousel type sputtering system or a chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

主磁極を保護する保護膜の形成時に、スパッタ装置でバイアスをかけて成膜するか、あるいは、カルーセル型スパッタ装置やケミカルベーパーデポジション（CVD）法で成膜する。 - 特許庁

This sputtering apparatus for manufacturing a piezoelectric element film comprises a vacuum tank for maintaining the film deposition pressure, a vacuum pump for evacuating the vacuum tank, a power source for performing the sputtering, a gas introduction system required for the sputtering, a bias power source for applying the bias to a substrate, and an introduction unit for applying the bias to a predetermined part of the film surface.例文帳に追加

成膜圧力を保持する為の真空槽、真空槽を排気する為の真空ポンプ、スパッタリングを行う為の電源、スパッタリングに必要なガス導入システム、基板にバイアスを印加させる為のバイアス電源、膜表面の特定部分にバイアスを印加する為の導入部で構成される圧電素子膜製造スパッタリング装置。 - 特許庁