bias sputteringとは 意味・読み方・使い方

To form an insulating film good in insulating pressure-resistance on a substrate by high frequency bias sputtering.例文帳に追加

高周波バイアススパッタリングにより絶縁耐圧の良い絶縁膜を基板に成膜すること - 特許庁

To provide a bias sputtering apparatus with enhanced reliability, which can make a bias power stable by eliminating unstable factors of the applied bias power, when forming a shadow on the front periphery of a substrate with the bias sputtering method.例文帳に追加

基板前面外周部にシャドーを形成する方式のバイアススパッタにおいて、バイアス電力印加時の不安定要因を排除し、安定的なバイアス電力印加が可能であって、信頼性の向上されたバイアススパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To normally apply bias voltage to a substrate even when sputtering is repeated many times in the sputtering for depositing a conductive film while applying the bias voltage to the substrate.例文帳に追加

基板にバイアス電圧を印加しながら導電膜を作成するスパッタリングにおいて、スパッタリングを数多く繰り返した場合でも、バイアス電圧が正常に基板９に印加されるようにする。 - 特許庁

At this time, when arc discharge is generated at the base material or the periphery thereof, based on the temporal change of bias voltage or bias current, this is detected, and the feed of the sputtering power or bias power is stopped.例文帳に追加

この際、前記基材およびその周辺にアーク放電が発生したときにバイアス電圧あるいはバイアス電流の時間的変化を基にこれを検出してスパッタ電力及びバイアス電力の供給を停止する。 - 特許庁

This sputtering apparatus for manufacturing a piezoelectric element film comprises a vacuum tank for maintaining the film deposition pressure, a vacuum pump for evacuating the vacuum tank, a power source for performing the sputtering, a gas introduction system required for the sputtering, a bias power source for applying the bias to a substrate, and an introduction unit for applying the bias to a predetermined part of the film surface.例文帳に追加

成膜圧力を保持する為の真空槽、真空槽を排気する為の真空ポンプ、スパッタリングを行う為の電源、スパッタリングに必要なガス導入システム、基板にバイアスを印加させる為のバイアス電源、膜表面の特定部分にバイアスを印加する為の導入部で構成される圧電素子膜製造スパッタリング装置。 - 特許庁

Next, a photonic crystal polarizer 11 is integrally formed by alternately laminating multilayer films of Si and SiO_2 by making use of a bias sputtering device.例文帳に追加

つぎにバイアススパッタ装置を用いて、SiとSiO_2の交互多層膜を積層してフォトニック結晶偏光子１１を一体形成する。 - 特許庁

Subsequently, an alternating multilayer film of a high refractive index material such as Si or Ta_2O_5 and a low refractive index material such as SiO_2 is formed by bias sputtering.例文帳に追加

次にＳｉあるいはＴａ_２Ｏ_５などの高屈折率材とＳｉＯ_２のような低屈折率材の交互多層膜をバイアススパッタ法で積層する。 - 特許庁

As a result of the simultaneous sputtering, the insulating property of the bias layer 5 is increased and the conductance is lowered.例文帳に追加

このように、同時にスパッタすることにより、バイアス層５絶縁性が大きくなり、コンダクタンスが下がる。 - 特許庁