ECR sputteringとは 意味・読み方・使い方

ECR SPUTTERING APPARATUS, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＥＣＲスパッタリング装置及び透明導電膜の製造方法 - 特許庁

The magnetic recording layer 9 is formed by an ECR sputtering method.例文帳に追加

磁気記録層９はＥＣＲスパッタ法を用いて形成できる。 - 特許庁

To provide an ECR sputtering system enhanced in sputtering efficiency and high in film deposition rate.例文帳に追加

スパッタ効率を高め、成膜レートが大きいＥＣＲスパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an ECR(electron coupling resonance) film deposition system capable of forming a protective film by means of ECR sputtering and ECR plasma enhanced CVD selectively or simultaneously.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ法およびＥＣＲプラズマＣＶＤ法を選択的にまたは同時に用いて保護膜の成膜ができるＥＣＲ成膜装置の提供。 - 特許庁

RELEASING TREATMENT OF DIE BY MEANS OF REACTIVE SPUTTERING USING ECR PLASMA例文帳に追加

ＥＣＲプラズマを用いた反応性スパッタリングによる金型の離型処理方法 - 特許庁

To provide an ECR (Electron Cyclotron Resonance)sputtering system capable of performing the film deposition sputtering on a substrate to which the low-temperature film deposition is requested.例文帳に追加

低温成膜が要求される基板に対して、成膜スパッタリングを可能とするＥＣＲスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

In the process of depositing the carbon film, the carbon film is deposited using one of an ECR (Electron Cyclotron Resonance) sputtering method, an RF sputtering method, a DC sputtering method, and an ion beam sputtering method.例文帳に追加

カーボン膜を堆積する工程はＥＣＲスパッタ法、ＲＦスパッタ法、ＤＣスパッタ法、およびイオンビームスパッタ法のうちのいずれかの方法を用いてカーボン膜を堆積すること。 - 特許庁

The magnetic recording medium 10 is provided with the carbon protective layer 4 formed by a ECR sputtering method.例文帳に追加

磁気記録媒体１０は、ＥＣＲスパッタ法により形成した炭素保護層４を備える。 - 特許庁