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The plasma flow P from the plasma generation part E is bent in the direction not confronting the plasma generation part and allowed to flow into the plasma processing part T, and the position confronting the plasma generation part E is made a droplet capturing part D to capture cathode material in the form of particulates (droplets) as biproduct from the cathode when plasma is generated.例文帳に追加
プラズマ発生部Ｅからのプラズマ流れＰを磁界によりプラズマ発生部と対面しない方向に屈曲させて前記プラズマ加工部Ｔに流入させるとともに、プラズマ発生部Ｅと対面する位置をプラズマの発生時に陰極から副生する陰極材料微粒子（ドロップレット）を捕集するドロップレット捕集部Ｄとする。 - 特許庁
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biproducts
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