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dielectric soakとは 意味・読み方・使い方
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Even if the gate insulation film 12 is removed selectively by etching after formation of the photoresist film 13, etchant does not soak along the interface of the photoresist film 13 and the gate insulation film 12 and thereby dielectric breakdown strength of the gate insulation film is not damaged.例文帳に追加
フォトレジスト膜１３を形成した後、ゲート絶縁膜１２を選択的にエッチング除去しても、フォトレジスト膜１３とゲート絶縁膜１２との界面に沿って、エッチング液がしみ込まなくなり、ゲート絶縁膜の絶縁破壊耐性が損なわれることがなくなる。 - 特許庁
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