nitride interfaceとは 意味・読み方・使い方

To provide a manufacturing method of a two-layer gate insulating film of silicon oxide nitride film/silicon nitride film, with a low interface level density.例文帳に追加

界面準位密度の低いシリコン酸窒化膜／シリコン窒化膜の２層ゲート絶縁膜を製造方法を提供する。 - 特許庁

The insulating film 53 is of III nitride thin film structure, so that an interface between the insulating film 53 and the III nitride thin films 52 and 54 is never disordered, and no defect is induced.例文帳に追加

絶縁膜５３がIII族窒化物薄膜の構造であるので、絶縁膜５３とIII族窒化物薄膜５２、５４の界面が乱れず、欠陥が生じない。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR STRUCTURE HAVING CRYSTALLINE ALKALINE EARTH METAL SILICON NITRIDE/OXIDE INTERFACE ON SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコンとの結晶性アルカリ土類金属窒化／酸化シリコン・インタフェースを有する半導体構造 - 特許庁

An interface 33 is formed of the gallium nitride-based semiconductor layer 37 and substrate 32.例文帳に追加

界面３３は、窒化ガリウム系半導体層３７と基板３２とにより形成される。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor structure having a flat plane or a hetero interface at an atomic level.例文帳に追加

原子レベルで平坦な表面またはヘテロ界面を有する窒化物半導体構造を提供する。 - 特許庁

METHOD AND STRUCTURE FOR IMPROVING OXIDE/SILICON-NITRIDE INTERFACE SUBSTRUCTURE例文帳に追加

酸化物／窒化シリコン界面サブストラクチャを改善するための方法および構造 - 特許庁

To provide a method and a structure for improving oxide/silicon- nitride interface substructure.例文帳に追加

酸化物／窒化シリコン界面サブストラクチャを改善するための方法および構造を提供すること。 - 特許庁

To improve adhesive properties of an interface of noble metal wiring and a barrier film made of a silicon nitride film.例文帳に追加

貴金属配線とシリコン窒化膜からなるバリア膜との界面の密着性を向上させる。 - 特許庁