nitrogen pentoxideとは 意味・読み方・使い方

This method includes a process providing a layer (a layer 108 in figures 1a-1d) which covers a substrate (a substrate 104 in figures 1a-1d), has an upper surface and contains tantalum pentoxide; and a process forming the structure containing tantalum and nitrogen by nitriding the upper surface of the layer of tantalum pentoxide.例文帳に追加

本方法は、基板（図１ａ−１ｄの基板１０４）を覆って、上部表面を有する五酸化タンタルを含む層（図１ａ−１ｄの層１０８）を提供する工程、および五酸化タンタルの層の上部表面を窒化して、タンタルおよび窒素を含む構造を形成する工程を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device is to etch a polysilicon or silicon using either one out of nitrosyl chloride, nitrile chloride or nitrosyl bromide or using chlorine or bromic base etching gas additionally containing either one out of nitrogen oxide, dinitrogen oxide, nitrogen dioxide, nitrogen trioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen tetroxide, dinitrogen pentoxide.例文帳に追加

本発明にかかる半導体装置の製造方法は、塩化ニトロシル、塩化ニトロイルまたは臭化ニトロシルのいずれかをエッチングガスとして用いたうえで、あるいはまた、一酸化窒素、一酸化二窒素、二酸化窒素、三酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素またはフッ化ニトロシルのいずれかを添加含有させてなる塩素系または臭素系のエッチングガスを用いたうえでポリシリコンまたはシリコンをエッチングすることを特徴としている。 - 特許庁

The method for producing the 2-nitropurine compound represented by formula (3) comprises nitrating a purine compound represented by formula (2) by (i) the action of a nitrogen oxide and ozone, (ii) the action of nitric acid and an acid anhydride, or (iii) the action of nitric acid and diphosphorus pentoxide.例文帳に追加

］で示される２−ニトロプリン化合物、及び式（２）で示されるプリン化合物プリン化合物に、（ｉ）窒素酸化物とオゾンとを作用させる、（ｉｉ）硝酸と酸無水物とを作用させる又は（ｉｉｉ）硝酸と五酸化二リンを作用させることによりニトロ化することを特徴とする式（３）で示される２−ニトロプリン化合物の製造法。 - 特許庁