In a parallel flat plate type dry etching device, a camera having a microscope function and a film thickness measurement function is installed inside an electrode opposite to an electrode for mounting the semiconductor substrate, and the etching state of the semiconductor substrate is observed by using this camera.例文帳に追加

平行平板型のドライエッチング装置において、半導体基板を載置する電極とは反対の電極の内部に顕微鏡機能および膜厚測定機能を有するカメラを設置し、このカメラを用いて半導体基板のエッチング状態を観測できるようにした。 - 特許庁

The sensor device X is provided with a sensor element 10, having a sensor 12 bearing a function for transducing a physical quantity regarding the measurement object 90 into an electrical signal on one major surface; and a support 20 where an abutting surface 20a abutting against the major surface of the sensor element 10, and a support surface 20b for supporting the measurement object 90, are disposed parallel.例文帳に追加

本発明のセンサ装置Ｘは、測定対象９０に係る物理量を電気信号に変換するための機能を担うセンサ部１２を一主面に有するセンサ素子１０と、センサ素子１０の一主面に当接される当接面２０ａおよび測定対象９０を支持する支持面２０ｂが平行に配置された支持体２０と、を備える。 - 特許庁