photochemical depositionとは 意味・読み方・使い方

The deposition apparatus 1 is an apparatus for depositing a film by a PLD (pulsed laser deposition) method where a target 3 placed on a rotating targer table 5 is irradiated with a laser beam 42 emitted from a laser part 4 to excite atoms constituting the target 3 and liberate metal atoms from the target 3 by a thermal/photochemical action.例文帳に追加

成膜装置１は、ＰＬＤ法によって成膜する装置であり、レーザ部４からレーザ光４２を、回転するターゲット台５に載置されたターゲット３に照射し、ターゲット３を構成する原子を励起し、熱的・光化学的作用により、ターゲット３から金属原子を遊離させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a thin semiconductor film in an aqueous solution by which a thin film of a chalcogen compound semiconductor other than a sulfide semiconductor, e.g. CdSe, CdTe, ZnSe, ZnTe or CuInSe2 or Se or Te as a semiconductor of a simple substance, is produced by a PCD (photochemical deposition) method and to provide an apparatus for producing the thin semiconductor film.例文帳に追加

ＰＣＤ法により硫化物の化合物半導体以外のカルコゲン系の化合物半導体であるＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｕＩｎＳｅ_2 等と単体の半導体であるＳｅ、Ｔｅの水溶液中半導体薄膜の製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁