quinolinecarboxylic acidとは 意味・読み方・使い方

ALKALI METAL SALT OF QUINOLINECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE AND METHOD OF PURIFYING QUINOLINECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE USING THE SAME例文帳に追加

キノリンカルボン酸誘導体アルカリ金属塩及びこれを用いたキノリンカルボン酸誘導体の精製法 - 特許庁

NEW QUINOLINECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE AND ITS PRODUCTION AND USE例文帳に追加

新規なキノリンカルボン酸誘導体及びその製法と使用方法 - 特許庁

The method for producing an indolylazaphthalide compound (6) comprises converting a quinolinecarboxylic acid derivative (1) to an quinolinecarboxylic anhydride (2), successively reacting the quinolinecarboxylic anhydride without isolation with an indole derivative (3) in one pot to obtain a pyridinecarboxylic acid derivative (4), and then reacting the pyridinecarboxylic acid derivative with an aniline derivative (5).例文帳に追加

キノリン酸誘導体（１）をキノリン酸無水物誘導体（２）に変換後、これを取り出すことなく引き続きワンポットでインドール誘導体（３）と反応させてピリジンカルボン酸誘導体（４）を得、次いでアニリン誘導体（５）と反応させることを特徴とするインドリルアザフタリド化合物（６）の製造方法。 - 特許庁

OPTICALLY ACTIVE QUINOLINECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE HAVING 7-PYRROLIDINE SUBSTITUTE INDUCING OPTICAL ACTIVITY AND A METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

光学活性を誘発する７−ピロリジン置換体を持った光学活性のキノリンカルボン酸誘導体及びその製造方法 - 特許庁

In the composition comprising (A) a polishing material, (B) quinolinecarboxylic acid, (C) organic acid, (D) hydrogen peroxide and (D) water where the average particle diameter of the polishing material is in the range of 5-100 nm, concentration in the polishing composition of the polishing material is 1-30 wt.%.例文帳に追加

（Ａ）研磨材、（Ｂ）キノリンカルボン酸、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素および（Ｄ）水からなり、研磨材が平均粒径５〜１００ｎｍの範囲にある有機高分子化合物からなる組成物であって研磨材の研磨用組成物中の濃度が１〜３０重量％である研磨用組成物である。 - 特許庁

In the composition comprising (A) a polishing material, (B) quinolinecarboxylic acid, (C) organic acid, (D) hydrogen peroxide and (D) water in which the polishing material comprises at least one kind of fumed silica, colloidal silica, fumed alumina and colloidal alumina, primary particles of the polishing material are 0.01-0.2 μm.例文帳に追加

（Ａ）研磨材、（Ｂ）キノリンカルボン酸、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素、および（Ｄ）水からなり、研磨材がフュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも１種類からなる組成物であって研磨材の一次粒子が０．０１〜０．２μｍである研磨用組成物である。 - 特許庁