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rd wとは 意味・読み方・使い方
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Consequently, there is no generation of impurities such as particles and dust by a rapid flow of gas inside the process tube 11, and the contamination of wafers W by impurities is thereby prevented for all the lots Ra-Rd, to form a superior oxide film on the wafers W.例文帳に追加
従って、プロセスチューブ11内におけるガスの急激な流れによりパーティクルや塵埃などの不純物が発生せず、全てのロットRa〜Rdについて不純物によるウェハWの汚染を防止して良好な酸化膜の生成が可能になる。 - 特許庁
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