remote plasma chemical vapor depositionとは 意味・読み方・使い方

The system has a connected dual remote plasma supply source for facilitating layer deposition onto a substrate and introducing two streams of reactive species into the chemical vapor deposition(CVD) treatment chamber, and simultaneously, the two streams are kept in a separated state until they reach a treatment region adjacent to the substrate.例文帳に追加

層の基板への堆積を容易にし、反応性の種の２つの流れを化学気相堆積処理チャンバへ送出する連結されたデュアル遠隔プラズマ供給源を特徴とし、同時に、基板に近接した処理領域に到達するまでは、２つの流れを分離状態で維持する。 - 特許庁