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thermal oxideとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 熱酸化物
「thermal oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 890件
RARE EARTH OXIDE THERMAL SPRAYING MEMBER AND POWDER FOR THERMAL SPRAYING例文帳に追加
希土類酸化物溶射部材および溶射用粉 - 特許庁
Using the method for decomposing and analyzing a non-oxide sample, the non-oxide sample is subjected to pressure thermal decomposition.例文帳に追加
非酸化物試料をアルカリで加圧熱分解する。 - 特許庁
THERMAL TREATMENT METHOD OF ZINC OXIDE THIN FILM ON NON-OXIDE BOARD例文帳に追加
非酸化物基板上の酸化亜鉛薄膜の熱処理方法 - 特許庁
The dielectric film of the capacity element 53 includes the silicon oxide film 25 (thermal oxide film), the silicon oxide film 37 (HTO film) and the silicon oxide film 31 (thermal oxide film).例文帳に追加
容量素子53の誘電体膜は、シリコン酸化膜25(熱酸化膜)、シリコン酸化膜37(HTO膜)およびシリコン酸化膜31(熱酸化膜)を含む。 - 特許庁
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「thermal oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 890件
METHOD FOR FORMING BLACK THERMAL-SPRAYED FILM OF YTTRIUM OXIDE, AND MEMBER COVERED WITH BLACK THERMAL-SPRAYED FILM OF YTTRIUM OXIDE例文帳に追加
黒色酸化イットリウム溶射皮膜の形成方法および黒色酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材 - 特許庁
METHOD FOR MODIFYING SURFACE OF WHITE YTTRIUM OXIDE THERMAL-SPRAYED FILM, AND MEMBER COATED WITH YTTRIUM OXIDE THERMAL-SPRAYED FILM例文帳に追加
白色酸化イットリウム溶射皮膜表面の改質方法および酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材 - 特許庁
The polysilicon film 3 and the thermal oxide film 2 are then removed.例文帳に追加
ポリシリコン膜3と熱酸化膜2を除去する。 - 特許庁
The dielectric film of the capacity element 55 includes the silicon oxide film 25 (thermal oxide film), the silicon oxide film 37 (HTO film), a silicon nitride film 29b and the silicon oxide film 31 (thermal oxide film).例文帳に追加
容量素子55の誘電体膜は、シリコン酸化膜25(熱酸化膜)、シリコン酸化膜37(HTO膜)、シリコン窒化膜29bおよびシリコン酸化膜31(熱酸化膜)を含む。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING THERMAL OXIDE FILM ON SILICON SINGLE-CRYSTAL WAFER例文帳に追加
シリコン単結晶ウェーハの熱酸化膜形成方法 - 特許庁
METHOD FOR WHITENING BLACK SURFACE OF YTTRIUM OXIDE THERMAL-SPRAYED FILM, AND MEMBER COATED WITH WHITE YTTRIUM OXIDE THERMAL-SPRAYED FILM例文帳に追加
酸化イットリウム溶射皮膜の黒色表面の白色化方法および白色酸化イットリウム溶射皮膜被覆部材 - 特許庁
THERMAL RUNAWAY PREVENTION METHOD FOR ZINC OXIDE LIGHTING PROTECTION ELEMENT AND ZINC OXIDE ARRESTER WITH THERMAL RUNAWAY PREVENTION FUNCTION例文帳に追加
酸化亜鉛形避雷素子の熱暴走防止方法と熱暴走防止機能付き酸化亜鉛形避雷器 - 特許庁
In this case, the thermal oxide film formed in a thermal oxidizing step remains until the trench separation is completely formed, so that the amount of retreat for the oxide film at the top of the trench in a oxide-film wet-etching step can be reduced to minimum.例文帳に追加
故に、酸化膜ウェットエッチングによるトレンチ上端部の酸化膜の後退量を最小限に抑えることができる。 - 特許庁
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