wet chemical methodとは 意味・読み方・使い方

SUBSTRATE WET PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF HEATING CHEMICAL FOR SUBSTRATE PROCESSING例文帳に追加

基板湿式処理装置及び基板処理用ケミカルの加熱方法 - 特許庁

METHOD FOR WET CHEMICAL TREATMENT OF SEMICONDUCTOR WAFER IN CONTAINER例文帳に追加

容器中の半導体ウェハを湿式化学処理するための方法 - 特許庁

To provide a wet cleaning device and a wet cleaning method in which the take-out amount of a liquid chemical for cleaning is reduced and throughput is improved.例文帳に追加

洗浄用薬液の持ち出し量を減らし、処理能力を向上させた湿式洗浄装置および湿式洗浄方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR TREATING SILICON IN WET CHEMICAL MANNER BY USING ETCHANT例文帳に追加

エッチング液を用いてシリコンを湿式化学的に処理するための方法および装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING AND ETCHING INDIVIDUAL WAFER BY UTILIZING WET CHEMICAL PHENOMENA例文帳に追加

湿式化学現象を利用して、個々のウエハを洗浄かつエッチングする方法と装置 - 特許庁

A wet processing method for successively processing a plurality of substrates by means of a chemical includes the following steps.例文帳に追加

薬液を用いて複数の基板を順次処理するウェット処理方法は、次の各工程を備える。 - 特許庁

ABRASIVE CUSHION MATERIAL, DEVICE AND METHOD FOR WET-CHEMICAL GRINDING OF SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

基板表面の湿式化学研削のための研磨緩衝材および装置並びに方法 - 特許庁

An oxide film 42 is formed on an insulating substrate 41 using a wet film forming technology (a soldering-gel method, a chemical precipitation method or a liquid phase precipitation method).例文帳に追加

絶縁性基板４１上に湿式成膜技術(ゾルゲル法,化学析出法または液相析出法)を用いて酸化膜４２を形成する。 - 特許庁