例文 (2件) |
ジアセチンを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
基板の処理面をオゾン水で処理するオゾン水処理工程と、基板の処理面をγ−ブチロラクトン、エチレングリコールジアセタート及びジアセチン(グリセリンジアセテート)からなる群より選択される少なくとも1種の有機溶剤100重量部と、水5〜100重量部との混合溶剤を用いて除去する混合溶剤処理工程とを有するレジスト除去方法。例文帳に追加
The resist removing method comprises an ozone water treatment process of treating treatment surface of the substrate with ozone water and a mixed solvent treatment process of removing residue on the treatment surface by using mixed solvent of at least one kind organic solvent 100 pts.wt. selected from a group consisting of γ-butyrolactone, ethyleneglycol diacetate and diacetin (glycerol diacetate) and water 5 to 100 pts.wt. - 特許庁
基板表面のレジストを除去するレジスト除去方法であって、少なくとも、前記基板の処理面をオゾン水で処理するオゾン水処理工程と、前記基板の処理面をγ−ブチロラクトン、エチレングリコールジアセタート及びジアセチンからなる群より選択される少なくとも1種の有機溶剤で処理する溶剤処理工程を有するレジスト除去方法。例文帳に追加
The resist removing method for removing resist on the surface of the substrate is provided with an ozone water processing process for processing the processing face of the substrate with ozone water, and a solvent processing process for processing the processing face of the substrate by at least one type of organic solvent selected from a group formed of γ-butyrolactone, ethylene glycol diacetate and diacetin. - 特許庁
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