意味 | 例文 (999件) |
スパッタリング法の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2109件
スパッタリングターゲットの検査方法例文帳に追加
METHOD FOR INSPECTING SPUTTERING TARGET - 特許庁
ガスフロースパッタリング成膜方法例文帳に追加
FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING - 特許庁
成膜方法及びスパッタリング装置例文帳に追加
DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
反応性スパッタリングの制御方法例文帳に追加
CONTROL METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁
反応性スパッタリング方法とその装置例文帳に追加
METHOD AND EQUIPMENT FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁
スパッタリング用ターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING TARGET FOR SPUTTERING - 特許庁
再製スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
REFURBISHED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MAKING THE SAME - 特許庁
反応性スパッタリング法とその成膜装置例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS THEREFOR - 特許庁
スパッタリング装置、および誘電体膜の成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF DIELECTRIC FILM - 特許庁
スパッタリング用ターゲットとその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD - 特許庁
マグネトロンスパッタリング方法と装置例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁
スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET - 特許庁
インライン型スパッタリング方法および装置例文帳に追加
INLINE TYPE SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁
スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME - 特許庁
マグネトロンスパッタリング方法および装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING - 特許庁
スパッタリングターゲットとその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD FOR THE TARGET - 特許庁
磁性体スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
MAGNETIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURE THEREOF - 特許庁
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM - 特許庁
反応性スパッタリング方法と装置例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁
スパッタリング成膜用マスク及びその製造方法例文帳に追加
MASK FOR USE IN FORMING FILM BY SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
スパッタリング成膜装置及び成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD - 特許庁
反応性スパッタリング方法及び光学部材例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING METHOD AND OPTICAL MEMBER - 特許庁
スパッタリング用ターゲット及びその製造方法例文帳に追加
TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁
スパッタリング装置及び薄膜製造方法例文帳に追加
SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
薄膜形成方法及びスパッタリング装置例文帳に追加
THIN FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
スパッタリング装置及び薄膜形成方法例文帳に追加
SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
反応性スパッタリング蒸着装置及び方法例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD - 特許庁
スパッタリングターゲットおよび成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND FILM-FORMING METHOD - 特許庁
PtMn系スパッタリングタ—ゲットおよびその製造方法例文帳に追加
PLATINUM/MAGANESE SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION - 特許庁
スパッタリングにおける膜厚予測方法例文帳に追加
FeCoB系スパッタリングターゲット材の製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING FECOB-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁
反応性スパッタリング装置及び成膜方法例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
スパッタリング装置および堆積膜形成方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS, AND DEPOSITED FILM FORMING METHOD - 特許庁
PVD法が、蒸着法、スパッタリング法であるとさらに好ましい。例文帳に追加
More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method. - 特許庁
被覆方法としては、スパッタリング法による物理蒸着法が適している。例文帳に追加
As covering method, physical vapor deposition method by-sputtering method is suitable. - 特許庁
Mn合金スパッタリングターゲットの製造方法及びその製法によるMn合金スパッタリングターゲット例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING Mn ALLOY SPUTTERING TARGET, AND Mn ALLOY SPUTTERING TARGET MANUFACTURED THEREBY - 特許庁
EL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、EL素子製造用スパッタリングターゲット、EL素子及びEL素子の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR EL ELEMENT MANUFACTURE, SPUTTERING TARGET FOR EL ELEMENT MANUFACTURE, EL ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING EL ELEMENT - 特許庁
スパッタリング装置とカルコゲン化合物スパッタリング蒸着方法、およびこれを利用した相変化記憶素子形成方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING TO DEPOSIT CHALCOGEN COMPOUND, AND METHOD FOR FABRICATING PHASE-CHANGEABLE MEMORY DEVICE EMPLOYING THE SAME - 特許庁
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