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「スパッタリング法」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > スパッタリング法の意味・解説 > スパッタリング法に関連した英語例文

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スパッタリング法の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2109



例文

スパッタリングターゲットの検査方例文帳に追加

METHOD FOR INSPECTING SPUTTERING TARGET - 特許庁

ガスフロースパッタリング成膜方例文帳に追加

FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING - 特許庁

成膜方及びスパッタリング装置例文帳に追加

DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁

反応性スパッタリングの制御方例文帳に追加

CONTROL METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁

例文

反応性スパッタリングとその装置例文帳に追加

METHOD AND EQUIPMENT FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁


例文

スパッタリング用ターゲットの製造方例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING TARGET FOR SPUTTERING - 特許庁

再製スパッタリングターゲット及びその製造方例文帳に追加

REFURBISHED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MAKING THE SAME - 特許庁

反応性スパッタリング法とその成膜装置例文帳に追加

REACTIVE SPUTTERING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS THEREFOR - 特許庁

スパッタリング装置、および誘電体膜の成膜方例文帳に追加

SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF DIELECTRIC FILM - 特許庁

例文

スパッタリング用ターゲットとその製造方例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD - 特許庁

例文

マグネトロンスパッタリングと装置例文帳に追加

MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁

スパッタリングターゲットの製造方例文帳に追加

PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET - 特許庁

インライン型スパッタリングおよび装置例文帳に追加

INLINE TYPE SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁

絶縁体薄膜の成膜方、並びに、スパッタリング装置例文帳に追加

FORMATION OF INSULATOR THIN FILM AND SPUTTERING DEVICE - 特許庁

スパッタリング装置及びその使用方例文帳に追加

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR USING THE SAME - 特許庁

スパッタリングターゲット及びその製造方例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME - 特許庁

マグネトロンスパッタリングおよび装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING - 特許庁

スパッタリングターゲットとその製造方例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD FOR THE TARGET - 特許庁

エルビウムスパッタリングターゲット及びその製造方例文帳に追加

ERBIUM SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

磁性体スパッタリングターゲット及びその製造方例文帳に追加

MAGNETIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURE THEREOF - 特許庁

Taスパッタリングターゲットおよびその製造方例文帳に追加

Ta SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造例文帳に追加

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM - 特許庁

反応性スパッタリングと装置例文帳に追加

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁

スパッタリングターゲット及びその製造方例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

スパッタリングターゲットおよびその製造方例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

スパッタリング成膜用マスク及びその製造方例文帳に追加

MASK FOR USE IN FORMING FILM BY SPUTTERING, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

スパッタリングターゲット用成型体の成型方例文帳に追加

FORMING METHOD OF FORMED BODY FOR SPUTTERING TARGET - 特許庁

スパッタリング成膜装置及び成膜方例文帳に追加

SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD - 特許庁

スパッタリング装置および薄膜形成方例文帳に追加

SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF THIN FILM - 特許庁

反応性スパッタリング及び光学部材例文帳に追加

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND OPTICAL MEMBER - 特許庁

スパッタリングターゲットを受け板に接合する方例文帳に追加

METHOD FOR BONDING SPUTTERING TARGET TO RECEIVING BOARD - 特許庁

スパッタリング用ターゲット及びその製造方例文帳に追加

TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁

スパッタリング装置及び薄膜製造方例文帳に追加

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁

Co系スパッタリングターゲットの製造方例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING Co BASED SPUTTERING TARGET - 特許庁

薄膜形成方及びスパッタリング装置例文帳に追加

THIN FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁

スパッタリング装置及び薄膜形成方例文帳に追加

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁

反応性スパッタリング蒸着装置及び方例文帳に追加

REACTIVE SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD - 特許庁

ITOスパッタリングターゲットとその製造方例文帳に追加

ITO SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

スパッタリングターゲットおよび成膜方例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND FILM-FORMING METHOD - 特許庁

PtMn系スパッタリングタ—ゲットおよびその製造方例文帳に追加

PLATINUM/MAGANESE SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION - 特許庁

分割スパッタリングターゲット及びその製造方例文帳に追加

SPLIT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

スパッタリングにおける膜厚予測方例文帳に追加

FILM THICKNESS PREDICTING METHOD IN SPUTTERING - 特許庁

FeCoB系スパッタリングターゲット材の製造方例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING FECOB-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁

反応性スパッタリング装置及び成膜方例文帳に追加

REACTIVE SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁

スパッタリング装置および堆積膜形成方例文帳に追加

SPUTTERING APPARATUS, AND DEPOSITED FILM FORMING METHOD - 特許庁

PVDが、蒸着スパッタリング法であるとさらに好ましい。例文帳に追加

More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method. - 特許庁

被覆方としては、スパッタリング法による物理蒸着が適している。例文帳に追加

As covering method, physical vapor deposition method by-sputtering method is suitable. - 特許庁

Mn合金スパッタリングターゲットの製造方及びその製によるMn合金スパッタリングターゲット例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING Mn ALLOY SPUTTERING TARGET, AND Mn ALLOY SPUTTERING TARGET MANUFACTURED THEREBY - 特許庁

EL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方、EL素子製造用スパッタリングターゲット、EL素子及びEL素子の製造方例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR EL ELEMENT MANUFACTURE, SPUTTERING TARGET FOR EL ELEMENT MANUFACTURE, EL ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING EL ELEMENT - 特許庁

例文

スパッタリング装置とカルコゲン化合物スパッタリング蒸着方、およびこれを利用した相変化記憶素子形成方例文帳に追加

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR SPUTTERING TO DEPOSIT CHALCOGEN COMPOUND, AND METHOD FOR FABRICATING PHASE-CHANGEABLE MEMORY DEVICE EMPLOYING THE SAME - 特許庁

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