「スパッタリング法」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

スパッタリングターゲット、その製造方法およびターゲット材原料例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND RAW MATERIAL FOR TARGET MATERIAL - 特許庁

金属シリサイドスパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

METAL SILICIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

Ｂａ系合金スパッタリングターゲットおよびその接合方法例文帳に追加

Ba-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR BONDING THE SAME - 特許庁

Ｐｄ−Ｃｒ−Ｗ系スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

PD-CR-W-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

タングステンスパッタリングターゲットおよびその製造方法例文帳に追加

TUNGSTEN SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF - 特許庁

電子装置とその作製方法およびスパッタリングターゲット例文帳に追加

ELECTRONIC DEVICE, PRODUCTION METHOD THEREOF, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁

スパッタリング装置及びそれを用いた薄膜形成方法例文帳に追加

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION PROCESS USING THE SAME - 特許庁

ＭｏＮｂ系焼結スパッタリングターゲット材の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING MoNb BASED SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁

プラズマスパッタリングによる結晶薄膜の低温成長法例文帳に追加

METHOD FOR GROWING CRYSTAL THIN FILM AT LOW TEMPERATURE BY PLASMA SPUTTERING - 特許庁

スパッタリングターゲット材および蒸着材とその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND THEIR MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ＥＬ発光層形成用スパッタリングターゲットとその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR EL LIGHT EMITTING LAYER FORMATION, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

磁気ディスクの製造方法及びそれに使用するスパッタリング装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK AND SPUTTERING DEVICE USED FOR THE SAME - 特許庁

光情報記録媒体及びその製造方法とスパッタリングターゲット例文帳に追加

OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁

Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリングターゲット材の製造方法例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING Ge-Sb-Te SPUTTERING TARGET MATERIAL - 特許庁

光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM - 特許庁

Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法例文帳に追加

Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法例文帳に追加

Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

スパッタリングターゲットおよびそれを用いた酸化膜の製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF PRODUCING OXIDE FILM USING THE SAME - 特許庁

スパッタリングによる光学薄膜の製造方法及び製造装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING OPTICAL THIN FILM BY SPUTTERING - 特許庁

スパッタリングターゲットとその製造方法、及び光記録媒体例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND OPTICAL RECORDING MEDIUM - 特許庁

プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置例文帳に追加

METHOD FOR FORMING THIN-FILM BY PLASMA SPUTTERING AND FILM-FORMING APPARATUS - 特許庁

酸化亜鉛焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット例文帳に追加

ZINC OXIDE SINTERED COMPACT, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁

透明導電性薄膜作製用スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET FOR PREPARING TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM - 特許庁

多分割スパッタリングターゲットおよび薄膜の製造方法例文帳に追加

MULTI-SEGMENTAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM - 特許庁

高周波スパッタリング装置及びそれを利用した薄膜形成方法例文帳に追加

HIGH FREQUENCY SPUTTERING DEVICE AND THIN FILM FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

スパッタリング用ターゲットのエロージョン領域決定方法例文帳に追加

METHOD FOR DETERMINING EROSION AREA OF SPUTTERING TARGET - 特許庁

光記録媒体、スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

OPTICAL RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR PRODUCING SAME - 特許庁

スパッタリングによる薄膜の製造方法及び製造装置例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING THIN FILM THROUGH SPUTTERING TECHNIQUE, AND PRODUCTION APPARATUS THEREFOR - 特許庁

Ａｌ基合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET OF Al-BASED ALLOY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

相変化型メモリー用スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR PHASE CHANGE MEMORY - 特許庁

ＣｏＣｒＰｔ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法例文帳に追加

CoCrPt-based SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

薄膜形成用スパッタリングターゲット材及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR DEPOSITING THIN FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置例文帳に追加

PLASMA SPUTTERING METHOD FOR FORMING THIN FILM, AND FILM- FORMING APPARATUS - 特許庁

高屈折率膜形成用のスパッタリングターゲットとその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING FILM HAVING HIGH REFRACTIVE INDEX, AND ITS PRODUCTION METHOD - 特許庁

スパッタリング装置及びそれを用いた磁気記録媒体の製造方法例文帳に追加

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING THE SAME - 特許庁

高融点元素スパッタリングターゲット材及びその製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET MATERIAL OF HIGH MELTING POINT ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

相変化型メモリー用スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加

METHOD OF PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR PHASE-CHANGE MEMORY - 特許庁

シード層２は、例えばスパッタリング法を用いて形成される。例文帳に追加

The seed layer 2 is formed by using, for example, a sputtering method. - 特許庁

スパッタリングターゲットとそれを用いたＮｂ酸化膜の製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING Nb OXIDE FILM USING THE SAME - 特許庁

スパッタリングターゲット、同ターゲットの製造方法及びバリア膜例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND BARRIER FILM - 特許庁

スパッタリングターゲットおよび光記録媒体の製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION OF OPTICAL RECORDING MEDIUM - 特許庁

固相拡散接合スパッタリングターゲット組立て体の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING SOLID PHASE DIFFUSION-JOINED SPUTTERING TARGET ASSEMBLY - 特許庁

Ｒｕ−Ｐｄ系スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加

Ru-Pd-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING THE SAME - 特許庁

多層膜形成用スパッタリング装置及びその膜厚制御方法例文帳に追加

SPUTTERING APPARATUS FOR DEPOSITING MULTI-LAYERED FILM, AND METHOD OF CONTROLLING THE FILM THICKNESS - 特許庁