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ラフィダを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
リソグラフィダブルパターニング法におけるアライメントターゲットコントラストの改善例文帳に追加
IMPROVEMENT OF ALIGNMENT TARGET CONTRAST IN LITHOGRAPHY DOUBLE PATTERNING METHOD - 特許庁
第1または第2リソグラフィパターンに色素を付加するリソグラフィダブルパターニングプロセスを伴う、半導体デバイスをリソグラフィにより製造するシステムおよび方法、ならびに製造物が提供される。例文帳に追加
A system, method, and product for manufacturing a semiconductor device by a lithography which are accompanied by a lithography double patterning process for adding a coloring matter to a first or second lithography pattern are provided. - 特許庁
例文 (2件) |
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