意味 | 例文 (999件) |
化学研磨の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1582件
化学研磨液例文帳に追加
CHEMICAL POLISHING SOLUTION - 特許庁
化学的機械的研磨用研磨液例文帳に追加
POLISHING SOLUTION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING - 特許庁
化学的機械研磨用研磨液および研磨方法例文帳に追加
POLISHING LIQUID FOR CHEMICOMECHANICAL POLISHING AND POLISHING METHOD THEREFOR - 特許庁
化学機械研磨用研磨剤及び研磨方法例文帳に追加
POLISHING COMPOUND FOR CHEMIMECHANICAL POLISHING AND POLISHING METHOD - 特許庁
化学的機械的研磨液例文帳に追加
化学機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL MACHINERY GRINDING DEVICE - 特許庁
化学機械研磨パッド例文帳に追加
CHEMICAL MACHINERY POLISHING PAD - 特許庁
化学機械研磨装置例文帳に追加
化学研磨処理方法例文帳に追加
化学的機械研磨方法例文帳に追加
化学的機械的研磨液例文帳に追加
化学的機械研磨装置例文帳に追加
化学機械的研磨方法例文帳に追加
化学的機械研磨方法及び化学的機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS - 特許庁
化学機械研磨装置および化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MACHINE POLISHING APPARATUS AND CHEMICAL MACHINE POLISHING METHOD - 特許庁
化学研磨液及びCu合金材の化学研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL POLISHING LIQUID AND METHOD FOR CHEMICAL-POLISHING Cu ALLOY MATERIAL - 特許庁
化学的機械研磨方法および化学的機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE - 特許庁
化学機械研磨方法及び化学機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD, AND CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING EQUIPMENT - 特許庁
化学的機械研磨装置及び化学的機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS AND METHOD - 特許庁
化学的機械研磨装置及び化学的機械研磨方法例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR CHEMOMECHANICAL POLISHING - 特許庁
化学機械研磨方法及び化学機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS - 特許庁
化学機械研磨装置及び化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
化学研磨液及び化学研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL POLISHING LIQUID AND CHEMICAL POLISHING METHOD - 特許庁
化学的機械研磨装置および化学的機械研磨方法例文帳に追加
APPARATUS AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING - 特許庁
化学的機械研磨装置及び化学的機械研磨方法例文帳に追加
APPARATUS AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING - 特許庁
化学研磨液、化学研磨方法及び金属材料例文帳に追加
CHEMICAL POLISHING LIQUID, CHEMICAL POLISHING METHOD AND METALLIC MATERIAL - 特許庁
化学機械研磨方法および化学機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING DEVICE - 特許庁
化学機械研磨装置及び化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS AND METHOD - 特許庁
化学機械研磨方法及び化学機械研磨装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR CHEMOMECHANICAL POLISHING - 特許庁
化学機械研磨パッドおよび化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD AND METHOD - 特許庁
化学機械研磨パッド及び化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD AND METHOD - 特許庁
化学機械研磨用パッドおよび化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD FOR PAD - 特許庁
化学的機械的研磨(CMP)系は、研磨物を含有する研磨装置を含む。例文帳に追加
A chemical mechanical polishing(CMP) system comprises an abrasive unit containing abrasive. - 特許庁
研磨液及び該研磨液を用いた化学的機械的研磨方法例文帳に追加
POLISHING SOLUTION AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD EMPLOYING THE POLISHING SOLUTION - 特許庁
研磨ヘッド、化学機械研磨装置、および研磨ヘッドの洗浄方法例文帳に追加
POLISHING HEAD, CHEMOMECHANICAL POLISHING DEVICE, AND WASHING METHOD FOR POLISHING HEAD - 特許庁
化学機械研磨用研磨液とその製造方法および研磨方法例文帳に追加
POLISHING LIQUID FOR CHEMICALLY AND MECHANICALLY POLISHING AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR POLISHING - 特許庁
化学機械研磨パッド用組成物、化学機械研磨パッド及び化学機械研磨方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
化学機械研磨用パッド、化学機械研磨用積層体パッド、および化学機械研磨方法例文帳に追加
CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING PAD, LAMINATION PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
金属用研磨液、及び、化学的機械的研磨方法例文帳に追加
POLISHING SOLUTION FOR METALS, AND CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
金属用研磨液、及び化学的機械的研磨方法例文帳に追加
POLISHING SOLUTION FOR METALS, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
バリア用研磨液及び化学的機械的研磨方法例文帳に追加
POLISHING FLUID FOR BARRIER, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
金属研磨用組成物、及び化学的機械的研磨方法例文帳に追加
COMPOSITION FOR METAL POLISHING AND CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
金属用研磨組成物及び化学的機械的研磨方法例文帳に追加
POLISHING COMPOSITION FOR METAL AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁
意味 | 例文 (999件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |