「化学研磨」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

化学的機械的研磨方法及びこれに用いる研磨液例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND POLISHING LIQUID USED THEREFOR - 特許庁

二重研磨阻止層を用いた化学機械的研磨方法例文帳に追加

CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD USING DOUBLE-POLISH PREVENTING LAYER - 特許庁

化学機械研磨装置の研磨パッドの洗浄用ブラシ例文帳に追加

BRUSH FOR WASHING OF POLISHING PAD OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING EQUIPMENT - 特許庁

水系研磨液、及び、化学機械的研磨方法例文帳に追加

AQUEOUS POLISHING SLURRY AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

研磨液及びそれを用いた化学的機械的研磨方法例文帳に追加

POLISHING SOLUTION AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING THE SAME - 特許庁

研磨パッド調整方法及び化学機械研磨装置例文帳に追加

POLISHING PAD ADJUSTMENT METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING EQUIPMENT - 特許庁

機械化学的研磨装置用の研磨パッド例文帳に追加

POLISHING PAD FOR MECHANOCHEMICAL POLISHING DEVICE - 特許庁

銅の研磨に用いる化学機械研磨用水系分散体例文帳に追加

AQUEOUS DISPERSED SUBSTANCE FOR CHEMICAL MACHINE POLISHING USED FOR POLISHING COPPER - 特許庁

貴金属用研磨液、及び、化学的機械的研磨方法例文帳に追加

POLISHING SOLUTION FOR NOBLE METAL AND CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

研磨パッド及び化学機械研磨装置例文帳に追加

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE - 特許庁

電気化学的機械研磨のための導電性研磨用品例文帳に追加

CONDUCTIVE POLISHING ARTICLE FOR ELECTROCHEMICAL MECHANICAL POLISHING - 特許庁

温度制御研磨ヘッドを有する化学機械研磨システム例文帳に追加

CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING SYSTEM WITH TEMPERATURE-CONTROLLED POLISHING HEAD - 特許庁

化学機械研磨用窓材及び研磨パッド例文帳に追加

WINDOW MATERIAL FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND POLISHING PAD - 特許庁

研磨用組成物、及び化学的機械的研磨方法例文帳に追加

POLISHING COMPOSITION AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

研磨パッド及び化学的機械研磨方法例文帳に追加

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

化学機械研磨用の取り外し可能な研磨パッド例文帳に追加

REMOVABLE POLISHING PAD FOR CHEMICAL MACHINERY POLISHING - 特許庁

化学的機械的研磨方法に用いる金属用研磨液例文帳に追加

POLISHING SOLUTION FOR METAL USED FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

水系研磨液及び化学機械的研磨方法例文帳に追加

AQUEOUS POLISHING SLURRY AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

銅の研磨に用いる化学機械研磨用水系分散体例文帳に追加

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MACHINE POLISHING USEFUL FOR POLISHING COPPER - 特許庁

化学的機械研磨方法及び研磨剤例文帳に追加

CHEMICAL AND MECHANICAL GRINDING METHOD AND ABRASIVE - 特許庁

研磨パッドおよび化学機械研磨方法例文帳に追加

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

研磨パッド及びそれを含む化学的機械的研磨装置例文帳に追加

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE INCLUDING THE SAME - 特許庁

研磨パッド、研磨パッドを製造する方法、及び研磨パッドを具備する化学機械的研磨装置例文帳に追加

POLISHING PAD, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND CHEMIMECHANICAL POLISHING DEVICE THEREWITH - 特許庁

その試料は化学的に研磨された。例文帳に追加

The specimen was chemically polished.  - 科学技術論文動詞集

化学的機械的研磨用スラリー例文帳に追加

SLURRY FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING - 特許庁

化学的機械的研磨スラリー例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY - 特許庁

半導体基板の化学研磨方法例文帳に追加

CHEMICAL POLISHING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

ウエハの化学機械研磨方法例文帳に追加

CHEMO-MECHANICAL POLISHING METHOD OF WAFER - 特許庁

化学機械平坦化用の研磨パッド例文帳に追加

ABRASIVE PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION - 特許庁

化学機械的研磨スラリー例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SLURRY - 特許庁

化学機械研磨（ＣＭＰ）スラリー例文帳に追加

CHEMICAL AND MACHANICAL POLISHING (CMP) SLURRY - 特許庁

化学的機械的研磨装置用管例文帳に追加

PIPE FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS - 特許庁

ＴＡＢテープ用化学研磨装置例文帳に追加

CHEMICAL POLISHING DEVICE FOR TAB TAPE - 特許庁

化学的機械研磨用の膜例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING MEMBRANE - 特許庁

化学的機械研磨用組成物例文帳に追加

CHEMICAL MACHINE POLISHING COMPOSITION - 特許庁

化学的機械的研磨加工方法例文帳に追加

CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

化学機械研磨用パッド例文帳に追加

PAD FOR POLISHING CHEMICAL MACHINE - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体例文帳に追加

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MACHINERY POLISHING - 特許庁

基板の化学機械研磨装置例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS FOR SUBSTRATE - 特許庁

金属物品の化学研磨法例文帳に追加

CHEMICAL POLISHING METHOD OF METAL ARTICLE - 特許庁

化学的機械的研磨装置例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE - 特許庁

化学的機械的研磨方法例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

化学的機械的研磨方法例文帳に追加

CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING DEVICE - 特許庁

化学的機械的研磨装置例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING EQUIPMENT - 特許庁

化学的機械的研磨装置例文帳に追加

CHEMICAL AND MECHANICAL POLISHING DEVICE - 特許庁