例文 (1件) |
6-8-6sの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
On a bottom surface of a connection hole 8 formed on the metal cap layer 6 consisting of a Cu wiring portion CL1, a silicide region 6s, and a non-silicide region 6n, a barrier metal layer 13a and the silicide region 6s of the cap metal layer 6 are selectively removed through Ar sputtering processing.例文帳に追加
Cu配線部CL1及びシリサイド領域6s及び非シリサイド領域6nよりなるキャップメタル層6上に形成される接続孔8の底面において、Arスパッタ処理により、バリアメタル層13a及びキャップメタル層6のシリサイド領域6sを選択的に除去する。 - 特許庁
例文 (1件) |
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