| 例文 |
cf marginの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
Thus, the radical composition in plasma is changed from CF_2 dominant to CF dominant, by the catalytic effects of copper and a process margin is increased by controlling the thickness of the precursor layer of etching.例文帳に追加
これにより、銅の触媒効果でプラズマ中のラジカル組成をCF_2ドミナントからCFドミナントに変化させ、エッチングの前駆体層の厚みを制御することでプロセスマージンの拡大を図ることができる。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|