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charged systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1205件
CHARGED PARTICLE IRRADIATION SYSTEM例文帳に追加
粒子線照射システム - 特許庁
CHARGED PARTICLE IRRADIATION SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子照射システム - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線光学系 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線装置システム - 特許庁
SCANNING CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加
走査荷電粒子ビーム装置 - 特許庁
CHARGED INFORMATION PROVIDING SYSTEM例文帳に追加
有料情報提供システム - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビーム露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM PLOTTING SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画システム - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビーム照射システム - 特許庁
CHARGED PARTICLE AMOUNT EVALUATION SYSTEM例文帳に追加
帯電粒子量評価装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD例文帳に追加
荷電ビーム露光装置及び荷電ビーム露光方法 - 特許庁
SCANNING TYPE CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加
走査型荷電粒子ビーム装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE GUN, AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子銃および荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線投影露光装置 - 特許庁
MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND THE CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線露光装置用マスク及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
OPTICAL SYSTEM OF CHARGED PARTICLE BEAM MAP例文帳に追加
荷電粒子線写像光学系 - 特許庁
HOLLOW APERTURE FOR CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線装置用ホローアパーチャ及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD例文帳に追加
荷電ビーム露光用マスク、荷電ビーム露光装置及び荷電ビーム露光方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE ACCELERATOR CONTROL SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子加速器用制御システム - 特許庁
ADJUSTING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM, AND CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM AND ELECTRONIC OPTICAL SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線光学系及び電子光学系 - 特許庁
A charged particle beam transfer system is provided with a lighting optical system containing a charged particle beam source 1.例文帳に追加
本装置は、荷電粒子線源1を含む照明光学系を具備する。 - 特許庁
METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線光学系の調整方法及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION METHOD例文帳に追加
荷電粒子ビーム照射システム及び荷電粒子ビーム出射方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHIC SYSTEM AND ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM MAPPING AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線写像投影光学系 - 特許庁
ANALYSIS SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
分析システムおよび荷電粒子ビームデバイス - 特許庁
CHARGED BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND SYSTEM例文帳に追加
荷電ビーム描画方法及び描画装置 - 特許庁
ENVIRONMENTAL CELL FOR CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビーム・システム用の環境セル - 特許庁
CHARGED TAG ACCOUNTING SYSTEM FOR LANGUAGE WITH TAG例文帳に追加
タグ付き言語の有料タグ課金システム - 特許庁
BEAM AUTOMATION FOR CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子ビームシステムにおけるビーム自動化 - 特許庁
SIMULATION METHOD FOR CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子光学系のシミュレーション方法 - 特許庁
DEFLECTOR, AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
偏向器及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE LINE CONTROLLING METHOD AND SYSTEM例文帳に追加
荷電粒子線調整方法および装置 - 特許庁
BEAM STABILIZER SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
荷電粒子ビーム装置のビームスタビライザシステム - 特許庁
AXIS ALIGNMENT DEVICE OF CHARGED PARTICLE OPTICAL SYSTEM AND CHARGED PARTICLE OPTICAL DEVICE例文帳に追加
荷電粒子光学系の軸合装置および荷電粒子光学装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM EMISSION METHOD例文帳に追加
荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビーム出射方法 - 特許庁
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