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de-spinの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
A lot is loaded via an input / output port I / O1, and next a substrate is applied by a spin applying machine SC, and is exposed by a lithographic apparatus LA, and next is developed by a developing machine DE.例文帳に追加
ロットが入出力ポートI/O1を介して積載され、次に基体はスピン塗布機SCにより塗布され、リソグラフィ装置LAにより露光され、次に現像機DEにより現像される。 - 特許庁
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