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etch figuresの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
After a resist pattern having a plurality of figures and thickness is formed through a developing process in a resist layer formed on a silicon substrate by using a photomask, the resist pattern on the silicon substrate is used as a mask to etch the surface of the silicon substrate at one time into the same figure as the resist pattern.例文帳に追加
フォトマスクを用いて、シリコン基板上に形成したレジスト層に、複数の形状及び厚みを有するレジストパターンを現像工程により形成した後に、シリコン基板上のレジストパターンをマスクに、レジストパターンと同様の形状で一括に、シリコン基板の表面をエッチング加工する。 - 特許庁
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