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expecting value methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To provide a method for polishing a substrate composed of semiconductor material allowing for expecting a remarkably low "haze" and RMS roughness value.例文帳に追加
半導体材料から構成された基板に対して改善された研磨法を規定することであり、この方法は、殊に微小荒さに関連して特に低い値をもたらす。 - 特許庁
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