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exposure methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8685件
POLARIZATION EXPOSURE METHOD例文帳に追加
偏光露光方法 - 特許庁
EXPOSURE CONTROL METHOD AND EXPOSURE CONTROLLER例文帳に追加
露出制御方法および装置 - 特許庁
EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE PROCESSING PROGRAM例文帳に追加
露光装置、露光方法および露光処理プログラム - 特許庁
EXPOSURE DATA GENERATING METHOD AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
露光データ作成方法及び露光方法 - 特許庁
PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
投影露光装置及び露光方法 - 特許庁
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
投影露光装置及び露光方法 - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE CONTROLLING METHOD例文帳に追加
露光装置及び露光制御方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD例文帳に追加
電子線露光方法 - 特許庁
EXPOSURE PROCESS MONITOR METHOD例文帳に追加
露光プロセスモニタ方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD AND CONFIRMATION METHOD FOR EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
露光方法及び露光位置の確認方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
露光方法、露光装置、デバイス製造方法 - 特許庁
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
投影露光装置および露光方法 - 特許庁
EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD FOR PERFORMING LINE IMAGE EXPOSURE例文帳に追加
線画露光を行う露光装置及び露光方法 - 特許庁
EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD FOR PERFORMING LINE IMAGE EXPOSURE例文帳に追加
線画露光を行う露光装置及び露光方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING SAME, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
露光マスク、その製造方法、露光装置および露光方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE UNIT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
露光方法及び装置、露光ユニット、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
CALIBRATION METHOD FOR EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
露光装置の校正方法及び露光方法並びに露光装置 - 特許庁
EXPOSURE METHOD USING ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子線露光方法 - 特許庁
ELECTRONIC BEAM EXPOSURE METHOD例文帳に追加
電子ビーム露光方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD例文帳に追加
電子ビーム露光方法 - 特許庁
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