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mask methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7169件
FILM DEPOSITION METHOD FOR MASK, AND MASK例文帳に追加
マスク成膜方法,マスク - 特許庁
MASK INSPECTION METHOD例文帳に追加
マスク検査方法 - 特許庁
MASK MANUFACTURING METHOD AND MASK例文帳に追加
マスクの製造方法及びマスク - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MASK AND MASK例文帳に追加
マスクの製造方法及びマスク - 特許庁
MASK AND PRODUCTION METHOD OF MASK例文帳に追加
マスク、及びマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスク製造方法 - 特許庁
MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK MANUFACTURING SET例文帳に追加
マスク製造方法、マスクおよびマスク製造セット - 特許庁
REPRODUCTION METHOD OF MASK例文帳に追加
マスクの再生方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクの製造方法 - 特許庁
PRODUCTION METHOD FOR MASK例文帳に追加
マスクの製造方法 - 特許庁
MASK VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
マスク蒸着方法 - 特許庁
METAL MASK AND MANUFACTURING METHOD OF MASK例文帳に追加
メタルマスク及びマスクの製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN ALLOCATING METHOD, MASK MANUFACTURING METHOD AND PROGRAM, AND MASK例文帳に追加
マスクパターン配置方法、マスク作製方法、プログラムおよびマスク - 特許庁
METHOD OF CORRECTING MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
マスク補正方法、マスク製造方法および露光用マスク - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK CORRECTION PROGRAM, MASK CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスク補正プログラム、マスク補正方法およびマスク製造方法 - 特許庁
MASK, MASK CHIP, METHOD OF MANUFACTURING MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK CHIP, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
マスク、マスクチップ、マスクの製造方法、マスクチップの製造方法、及び電子機器 - 特許庁
MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク及びマスクの製造方法 - 特許庁
PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
フォトマスク製作方法 - 特許庁
MASK DATA GENERATION METHOD例文帳に追加
マスクデータ作成方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法 - 特許庁
MASK PROCESSING APPARATUS, MASK PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND MASK例文帳に追加
マスク処理装置、マスク処理方法、プログラム、およびマスク - 特許庁
PHOTO MASK, PHOTO MASK BLANK AND PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
フォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK FOR EXPOSURE TO LIGHT, AND MASK-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
GL METHOD ANESTHETIC MASK例文帳に追加
GL法麻酔用マスク - 特許庁
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