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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern methodに関連した英語例文

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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23003



例文

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

半導体装置の製造方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

MODEL REGISTRATION METHOD AND PATTERN RECOGNITION DEVICE USING THIS METHOD例文帳に追加

モデル登録方法およびこの方法を用いたパターン認識装置 - 特許庁

PATTERN-INSPECTION METHOD AND APPARATUS, AND MASK- MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン検査方法、パターン検査装置およびマスクの製造方法 - 特許庁

COATING FILM FORMING DEVICE, METHOD AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

塗布膜形成装置及びその方法並びにパタ—ン形成方法 - 特許庁

例文

PATTERN DETECTION METHOD AND DEVICE, AND IMAGE PROCESSING DEVICE AND METHOD例文帳に追加

パターン検出装置及び方法、画像処理装置及び方法 - 特許庁


例文

METHOD FOR FORMING INSULATING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

絶縁パターンの形成方法および電子部品の製造方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン評価方法、プログラムおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING HOLE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR例文帳に追加

ホールパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRODE PATTERN INSPECTING METHOD AND LIQUID CRYSTAL DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電極パターンの検査方法及び液晶装置の製造方法 - 特許庁

例文

An electron beam batch exposure method is used as a pattern manufacturing method.例文帳に追加

パターン作製法として、電子ビーム一括露光法を用いる。 - 特許庁

例文

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターン形成方法および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン設計方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND RETICLE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

半導体装置の製造方法およびレチクルパターン作成方法 - 特許庁

HARD MACRO TEST CIRCUIT, TESTING METHOD THEREFOR, AND METHOD OF GENERATING TEST PATTERN例文帳に追加

ハードマクロテスト回路、そのテスト方法およびテストパタン生成方法 - 特許庁

FEATURE SELECTION METHOD AND DEVICE, AND PATTERN IDENTIFICATION METHOD AND DEVICE例文帳に追加

特徴選択方法及び装置、パターン識別方法及び装置 - 特許庁

INSPECTION DEVICE, INSPECTION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

検査装置及び検査方法、並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF PATTERN INSPECTION AND TREATMENT METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

パターン検査方法及びその装置並びに基板の処理方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING INTERMEDIATE STAMPER AND METHOD FOR FORMING UNEVEN PATTERN例文帳に追加

中間スタンパの製造方法及び凹凸パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING THICK RESIST FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜レジスト膜の形成方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

METHOD OF REMOVING RESIST PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターンの除去方法及び半導体装置の作製方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN SHAPE INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形状検査方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, ELECTRONIC COMPONENT MANUFACTURING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

レジストパターン形成法、電子部品の製造法、および電子部品 - 特許庁

MULTI-GRADATION PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

多階調フォトマスク、その製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

半導体装置の製造方法、パターン補正方法およびプログラム - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELD MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

電磁波シールド材の製造方法、並びにパターン形成方法 - 特許庁

HEATING APPARATUS, ESTIMATING METHOD OF HEATING APPARATUS AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

加熱装置,加熱装置の評価法及びパタ—ン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING WIRING PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING WIRING SUBSTRATE例文帳に追加

配線パターンの形成方法および配線基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ELECTRODE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL例文帳に追加

電極パターン形成方法およびディスプレイパネルの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DRAWING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PHOTOMASK例文帳に追加

パターン描画方法及びフォトマスク製造方法、並びにフォトマスク - 特許庁

FORMATION METHOD OF FILM PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF LIGHT-EMITTING DEVICE例文帳に追加

膜パターンの形成方法及び発光装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN LAYOUT AND METHOD FOR GENERATING MASK DRAWING DATA例文帳に追加

パターンレイアウト作成方法及びマスク描画データ作成方法 - 特許庁

INSPECTION DEVICE, INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

検査装置及び検査方法並びにパターン基板の製造方法 - 特許庁

DRAWING PATTERN RESIZING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加

描画パターンのリサイズ方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID DROPLET JET HEAD例文帳に追加

パターン形成方法および液滴吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING REFRACTIVE INDEX PERTURBATION AND METHOD FOR FORMING GRATING PATTERN例文帳に追加

屈折率摂動形成方法とグレーティングパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN EXPOSURE METHOD, METHOD FOR PRODUCING CONDUCTIVE FILM, AND CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

パターン露光方法、導電膜の製造方法及び導電膜 - 特許庁

PITCH PATTERN GENERATING METHOD, AND METHOD, SYSTEM, AND PROGRAM FOR SPEECH SYNTHESIS例文帳に追加

ピッチパタン生成方法、音声合成方法とシステム及びプログラム - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PATTERN RECOGNITION, AND CHARACTER RECOGNIZING METHOD例文帳に追加

パターン認識装置、パターン認識方法及び文字認識方法。 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT例文帳に追加

パターン評価方法及び該方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK FOR EXPOSURE TO LIGHT, AND MASK-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM AND METHOD OF FORMING ELECTRICALLY CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

導電膜の形成方法、及び導電パターン形成方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC HEAD, MAGNETIC HEAD, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

磁気ヘッドの製造方法および磁気ヘッド、パターン形成方法 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE USING SAME例文帳に追加

パターン評価方法および該方法を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

PATTERN COATING METHOD AND COATED ARTICLE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

模様塗装方法及びその方法により製造した塗装品 - 特許庁

例文

POLYMER, PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成法 - 特許庁




  
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