「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(460ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a production method wherein a manufacturing process is simplified more greatly compared with a conventional physical magnetic layer processing type by eliminating a magnetic layer removal step and a contamination risk is small, and a useful discrete track type magnetic recording medium having high head floating characteristics, regarding a magnetic recording medium having a magnetically separated magnetic recording pattern in at least one surface of a nonmagnetic substrate.例文帳に追加

非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

The method for inspecting a photomask for a semiconductor integrated circuit formed based on the data for drawing patterns includes: a process of classifying the drawing patterns of the semiconductor integrated circuit into a plurality of ranks according to prescribed references of features and extracting; and a process of determining the inspection accuracy for each rank and judging the quality of the photomask depending on whether the extracted pattern satisfies the determined inspection accuracy or not.例文帳に追加

描画パターンデータに基づいて形成された半導体集積回路用のフォトマスクを検査する方法において、前記半導体集積回路の描画パターンを、所定の特徴基準に従って、複数のランクに分類して抽出する工程と、当該ランク毎に検査精度を決定し、この決定された検査精度を満たしているか否かによってフォトマスクの良否を判定する工程とを具備している。 - 特許庁

This method includes a step G01 for describing the pattern forming process in accordance with at least one layout parameter, a step G03 for making the distribution of at least one parameter discrete, a step G05 for providing an error correction table linking the correction of layout with at least one parameter and a step G06 for correcting the layout by applying correction in the table to the layout at least once.例文帳に追加

この方法は、少なくとも１つのレイアウト・パラメータに応じてパターン形成プロセスを記述するステップと、前記少なくとも１つのパラメータの分布を離散化するステップと、レイアウト修正を前記少なくとも１つのパラメータに連係させる誤差補正テーブルを提供するステップと、前記テーブル内の前記修正を前記レイアウトに少なくとも１回適用することによってレイアウトを補正するステップとを含む。 - 特許庁

In this document summarization method and system, in automatically summarizing a document, the structural characteristics of the document are grasped to be structured according to a fixed rule, and then a pattern frequently occurring in the structured paragraph of the document is extracted to automatically summarize the document using natural language processing (NLP) technology such as rhetorical structure information on the document, paragraph division of document level, and word cooccurrence information.例文帳に追加

本発明は、文書を自動的に要約するにあたって文書の構造的な特徴を把握し一定の規則で構造化させた後、文書の構造化された段落において頻繁に発生するパターンを抽出し、文書の修辞構造情報、文書レベルの段落分割、単語共起情報など自然語処理(ＮＬＰ)技術を用いて文書を自動要約する方法及びシステムを旨とする。 - 特許庁

This method for forming fluorescent pattern in a barrier plate of a plasma display panel, comprises forming a reflective layer (A) containing inorganic compound (a) selected from alumina, titanium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, tantalum oxide, silicon oxide, barium oxide and recovered phosphors, and a layer (B), including the phosphor are successively in the barrier plate, and executing exposure, development and baking.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの隔壁内に蛍光体パターンを形成するに当たり、該隔壁内に、アルミナ、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化タンタル、酸化ケイ素、酸化バリウム、回収蛍光体より選ばれる無機化合物（ａ）を含んでなる反射層（Ａ）、及びその上に蛍光体含有層（Ｂ）を設けてなる層を形成させた後、露光、現像、焼成を行う蛍光体パターンの形成方法。 - 特許庁

This monitoring method of the activity patterns is characterized in including steps for: sensing an inertia movement by the moving of a user using a sensor part worn by the user; detecting the direction of the sensor part from the inertia movement and detecting the wearing position of the sensor part using the inertia movement and the direction; and determining the activity pattern of the user from the inertia movement with the wearing position reflected therein.例文帳に追加

ユーザーに着用されたセンサー部を利用して、ユーザーの動きによる慣性運動を感知するステップと、慣性運動からセンサー部の方向を検出し、慣性運動及び方向を利用してセンサー部の着用位置を検出するステップと、着用位置を反映して慣性運動からユーザーの活動パターンを判断するステップと、を含むことを特徴とする活動パターンの監視方法である。 - 特許庁

The method also includes a functional fluid arranging step of forming the thin film pattern by arranging the functional fluid in the lyophilic sections by a droplet discharging method on the basis of the alignment marks.例文帳に追加

基板上の機能液が配置されるパターンと同じ形状、大きさの開口パターンを有する薄膜パターン用開口部と、アライメントマークを形成するアライメントマーク用開口部とが具備された金属製マスクを用いて、前記基板に撥液性を付与する撥液化処理工程と、撥液化処理された前記基板上に前記金属製マスクを配した後、薄膜パターン及びアライメントマーク用の親液部を形成する親液パターン形成工程と、アライメントマークを形成するアライメントマーク形成工程と、前記アライメントマークに基づき、液滴吐出法により前記親液部に機能液を配置して薄膜パターンを形成する機能液配置工程と、を具備する。 - 特許庁

The method for producing the grafted polymer pattern comprises a step of producing the grafted polymer on the nanodomain structure of the material for fixing the polymerization initiator on the surface provided by the method for producing the material for fixing the polymerization initiator on the surface.例文帳に追加

支持体表面に、該支持体と結合しうる部位を有する重合開始剤を浸漬法又は蒸着法を用いて接触させた後、前記支持体上に接触した該重合開始剤の自己組織化により、前記支持体上に該支持体と結合した重合開始剤の自己組織化膜によるナノドメイン構造を形成する重合開始剤表面固定化材料の作製方法、該重合開始剤表面固定化材料の作製方法により得られた重合開始剤表面固定化材料のナノドメイン構造上に、グラフトポリマーを生成させる工程を有するグラフトポリマーパターンの作製方法。 - 特許庁

The layer A and the layer B are laminated by a co-extrusion film-forming method and at the same time a surface of the layer A side is equipped with a design pattern formed by using an embossing roller as a casting roller.例文帳に追加

Ａ層：所定のＰＢＴ系樹脂および所定のポリエステル系樹脂からなる樹脂層、Ｂ層：所定のポリエステル系樹脂を主体としてなる樹脂層、Ｃ層：所定のポリエステル系樹脂を主体としてなる樹脂層、Ｄ層：所定のＰＢＴ系樹脂を含有してなる樹脂層、Ａ層とＢ層とを共押出し製膜法により積層すると同時に、キャスティングロールとしてエンボスロールを用いることにより形成された柄意匠をＡ層側表面に備えている。 - 特許庁

The etching method includes the steps of forming the antireflective film (Si-ARC film) on an etched layer, forming the resist film (ArF resist film) patterned on the antireflective film, and etching the antireflective film with an etching gas containing CF_4 gas, COS gas and O_2 gas using the resist film as the mask to form a desired pattern on the antireflective film.例文帳に追加

被エッチング層上に反射防止膜（Ｓｉ−ＡＲＣ膜）を形成する工程と、前記反射防止膜上にパターン化されたレジスト膜（ＡｒＦレジスト膜）を形成する工程と、前記レジスト膜をマスクとして、ＣＦ_４ガスとＣＯＳガスとＯ_２ガスとを含むエッチングガスを用いて前記反射防止膜をエッチングすることにより、前記反射防止膜に所望のパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とするエッチング方法が提供される。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁

The method of developing the resist film by exposing the resist film formed on a substrate to a predetermined pattern and then performing a development using a developer includes a first development process of contacting a first developer with the resist film, and a second development process of contacting a second developer with the resist film, wherein the second developer has a lower concentration compared with the first developer.例文帳に追加

本発明は、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、現像液を用いて現像を行なうレジスト膜現像方法において、第１の現像液がレジスト膜に接する第１現像工程と、第２の現像液がレジスト膜に接する第２現像工程と、を備え、前記第２の現像液は、前記第１の現像液と比較して低濃度の現像液であることを特徴とするレジスト膜現像方法である。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution.例文帳に追加

表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device is provided that comprises a step for evaporating a solvent by heating an adhesive and reducing vapor pressure of the solvent in an atmosphere to contact with the adhesive, and a step for forming the junction layer by heating the adhesive, when the adhesive having a resin and the solvent is adhered to a second surface opposed to a first surface on which a circuit pattern of a wafer is formed.例文帳に追加

ウェーハの回路パターンが形成された第１の面と対向する第２の面に、樹脂と溶媒とを含む接合剤を付着させる際に、接合剤を加熱して前記溶媒を蒸散させるとともに、前記接合剤が面する雰囲気における前記溶媒の蒸気圧を低下させる工程と、前記付着させた接合剤を加熱して接合層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。 - 特許庁

The patterning method of a wafer W includes a step for forming an L&S pattern 54A including multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W, and a step for forming an L&S 56A including multiple linear resist patterns 42NA arranged between the multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W so that the line widths of the line patterns 40A and the resist patterns 42NA have a negative correlation.例文帳に追加

ウエハＷにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハＷの表面に複数のラインパターン４０Ａを含むＬ＆Ｓパターン５４Ａを形成することと、ウエハＷの表面の複数のラインパターン４０Ａの間に配置される複数のライン状のレジストパターン４２ＮＡを含むＬ＆Ｓパターン５６Ａを、ラインパターン４０Ａの線幅とレジストパターン４２ＮＡの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 - 特許庁

A method of manufacturing the ceramic package formed by dividing a ceramic substrate which is obtained by stacking an uncalcinated ceramics and firing the stacked ceramics, according to a groove formed in a prescribed pattern, includes a step of dividing the ceramic substrate while applying bending moment with a principal surface of the ceramic substrate as a point of action, and also applying drawing moment in a direction parallel to the principal surface.例文帳に追加

本発明にかかるセラミックパッケージの製造方法は、未焼成セラミックを積層し焼成して得たセラミック基板を所定のパターンに形成された溝に従って分割することによりパッケージとするセラミックパッケージの製造方法であって、セラミック基板の主面を作用点とし、曲げモーメントを加えるとともに、主面に平行な方向に引っ張りモーメントを加えながらセラミック基板を分割する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a connection structure of a multicore cable equipped with a plurality of extra-fine coaxial cables each having a center conductor which is connected to a conductor pattern portion of a member to be connected, wherein the connection structure is capable of preventing occurrence of short circuit by maintaining insulation among the center conductors, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

そこで、本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、中心導体を有する極細同軸ケーブルを複数本備えた多心ケーブルの、中心導体が被接続部材の導体パターン部に接続された多心ケーブルの接続構造体において、中心導体間の絶縁性を維持して短絡の発生を防止することができる多心ケーブルの接続構造体およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a settlement method and a settlement system using a mobile phone for authentication, which prevent an illegal user from using a stolen mobile terminal and card to spoof an authorized user who is responsible for settlement and approval, and from making unsuspicious settlement within the limits of authentication of an information authentication center, using an authentication pattern of the information authentication center.例文帳に追加

本人の認証に携帯電話を用いる場合、携帯電話とカードの両方を同時に盗まれる様な場合があり、決済者と承認者の両方になりすますことや、カードと端末を両方とも盗まれた場合、情報認証センタの認証が可能な限度内で不自然でない決済を装ったり、情報認証センタの認証パターンさえ掴んで欺くことが可能である問題点を解決した決済方法や決済システムを提供する。 - 特許庁

In a measuring method of an X-ray diffraction pattern of the translin crystal, the translin crystal obtained using sodium formate as a precipitant is frozen in crystallizing solution containing polyalcohol, and X-ray diffraction data is collected in a frozen state.例文帳に追加

トランスリン結晶のＸ線回折像の測定方法、該結晶のＸ線回折像より得られる３次元構造座標、該構造座標を含むデータベース若しくは記録媒体、該構造座標を用いるトランスリンの機能を調節する能力を有する化合物の同定方法、該３次元構造座標を用いるトランスリンに潜在的に結合しうる化合物からなる化合物群の調製方法、及び、該３次元構造座標を用いるトランスリンの変異体の作製方法。 - 特許庁

The method for growing a nitride semiconductor single crystal includes steps of: forming a nitride seed layer on a substrate for growing a nitride single crystal; forming a dielectric mask having a stripe pattern on the nitride seed layer; and growing a nitride semiconductor single crystal containing Al on the nitride seed layer where the dielectric mask is formed while injecting Cl-based gas or Br-based gas.例文帳に追加

本発明は、窒化物単結晶成長用基板上に窒化物シード層を形成する段階と、上記窒化物シード層上にストライプパターンを有する誘電体マスクを形成する段階と、Cl系ガスまたはBr系ガスを注入しながら、上記誘電体マスクが形成された窒化物シード層上にAlを含んだ窒化物半導体単結晶を成長させる段階を含む窒化物半導体単結晶の成長方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device wherein the semiconductor chip 40 having an electrode 42 is opposed to a face formed on the electrode 42 and mounted on a bendable board 10 forming the wiring pattern 10 includes a step for bending the board 10 so that an interval between the semiconductor chip 40 and the board 10 is wider than the center part on the end of the semiconductor chip 40.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、電極４２を有する半導体チップ４０を、前記電極４２の形成された面を対向させて、配線パターン２０が形成された屈曲可能な基板１０に搭載する半導体装置の製造方法であって、前記半導体チップ４０と前記基板１０との間隔を、前記半導体チップ４０の端部においてその中央部よりも広くするように、前記基板１０を屈曲させる工程を含む。 - 特許庁

The manufacturing method including a step of evaporating a transparent electrode 11 on a transparent substrate 10; a step of forming a resistance layer 12 on the transparent electrode 11 by laminating UV-transmitting resistance materials 12; a step of forming an emitter layer 13 on the resistance materials 12 by laminating carbon nanotube; and a step of patterning the emitter layer 13 by a prescribed emitter pattern.例文帳に追加

透明基板１０上に透明電極１１を蒸着するステップと、透明電極１１上に、ＵＶ透過性抵抗性物質を積層して抵抗層１２を形成するステップと、ＵＶ透過性抵抗性物質１２上に炭素ナノチューブを積層してエミッタ層１３を形成するステップと、エミッタ層１３を所定のエミッタパターンによってパターニングするステップとを含むことを特徴とする電界放出素子用エミッタの製造方法である。 - 特許庁

By this net list extracting method, information on connections among elements is extracted from a layout pattern, designed so that blocks have hierarchical structure, while the hierarchical structure is held; and a dummy element is formed between input and output terminals in a block positioned in a specific layer (step S25) and then only the input and output terminals are extracted without extracting elements in the block.例文帳に追加

複数のブロックが階層構造を有するように設計されたレイアウトパターンから、階層構造を保持したまま素子間の接続情報を抽出する集積回路のネットリスト抽出方法であり、所定の階層に位置するブロックに対して、このブロック内の入出力端子間に擬似の抵抗素子を形成することにより（ステップＳ２５）、前記ブロック内の素子を抽出することなく、前記入出力端子のみ抽出を行う。 - 特許庁

To provide an ultraviolet ray-curing type inkjet composition which is excellent in storage stability and can suitably be used for forming patterns excellent in glossy sense and abrasion resistance; to provide a production method by which the ultraviolet ray-curing type inkjet composition can efficiently be produced; and to provide a recorded article formed using the ultraviolet ray-curing type inkjet composition and having a pattern excellent in glossy sense and abrasion resistance.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターンの形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット用組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット用組成物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット用組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

An IP address where the number of valid bids is variable and a flag column for identifying whether each bit is valid or invalid corresponding to each bit of the IP address are stored, and longest matching retrieval is executed by a binary search method by using retrieval key data for retrieving the longest matched IP address from the stored IP addresses and the pattern of a retrieval mask key global mask indicating a valid bit area.例文帳に追加

有効ビット数が可変なＩＰアドレスとともに、そのＩＰアドレスの各ビットに対応して各ビットが有効なビットであるか無効なビットであるかを識別するフラグ列を記憶しておき、検索にあたっては、記憶されているＩＰアドレスの中から最長に一致するＩＰアドレスを検索するための検索キーデータと有効ビット領域を表わす検索マスクキーグローバルマスクのパターンとを用いて二分検索法により検索を行なう。 - 特許庁

A fabrication method of semiconductor device includes a process for pressing a mold 1 having a pattern formed thereon to a negative-type photoresist 2, a process for selectively irradiating an irradiated light 7 to the photoresist 2 by pressing the mold 1 to the photoresist 2 through the mold 1, and a process for patterning the photoresist 2 by removing an area of the photoresist 2 where the irradiated light 7 is not irradiated by developing the photoresist 2.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、パターンの形成されたモールド１をネガ型のフォトレジスト２に押し付ける工程と、モールド１をフォトレジスト２に押し付けた状態で、照射光７をモールド１を通じてフォトレジスト２に選択的に照射する工程と、フォトレジスト２を現像することによりフォトレジスト２の照射光７が照射されていない領域を除去してフォトレジスト２をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

This manufacturing method involves bonding bristle holders to a head part of a toothbrush body 70 after fixing the needle-like bristles to the bristle holders by thermally fusing a bottom part of these bristle holders 20 and 30 by pushing a taper unformed part in the bristle holders 20 and 30 having a through-hole of a bristle implanting pattern in the needle-like bristles 60 for forming a taper on one side bristle tip.例文帳に追加

また、本発明による製造方法は、一側の毛先にテーパーが形成された針状毛６０において、テーパーが形成されなかった部分を植毛される模様の通孔を有した剛毛ホールダー２０、３０に押し入れて、この剛毛ホールダー２０、３０の底部を熱溶着させることにより針状毛を剛毛ホールダーに固定させた後、この剛毛ホールダーを歯ブラシ本体７０のヘッド部に接着させることを特徴とする。 - 特許庁

The method has steps of forming an internal electrode pattern, forming a laminate, forming a laminate block, coating an outer periphery of the laminate block using a second dielectric material composition layer added with more SiO_2 to the first dielectric material composition in a non-sintered dielectric layer, forming a laminate chip, sintering the chip, and forming an external electrode.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサの製造方法は、内部電極パターンを形成する工程、積層体を形成する工程、積層体ブロックを形成する工程、未焼成誘電体層中の第１の誘電体材料組成物に対してさらに多量のＳｉＯ_２が添加された第２の誘電体材料組成物層を用いて積層体ブロックの外周を被覆する工程、積層体チップを形成する工程、焼成工程、外部電極を形成する工程を有する。 - 特許庁

The production method of semiconductor element comprises a step for performing exposure again using an exposing reticle having a pattern for passing UV-rays or infrared rays only partially before photoresist is developed with developer when a plurality of pellets 1, 2, 3, 4 are produced from a sheet of semiconductor wafer 5.例文帳に追加

一枚の半導体ウエーハ５からペレット１，２，３，４を複数個製造する場合、フォトレジストを現像液で現像する前に、一部分のみ紫外線や赤外線などの光線を透過するパターンを有する露光用のレテイクルを用いて再度露光する工程を含み、再度露光する時のマスクは、ペレット１個分の識別用パターン作成用の開口部のみ有し、再度露光する時の、Ｘ方向とＹ方向とにステップする時に、ペレットの寸法と異なるステップ幅でＸ，Ｙ方向に移動する。 - 特許庁

The method includes the steps of: obtaining a window title when a certain application program is operated to create a window; recognizing window detail information associated with the title based on reference of comparison data set beforehand, and creating or updating use history information of the application program to correspond to the window detail information; and monitoring the use pattern based on set criteria by using the stored use history information for each of application programs.例文帳に追加

任意の応用プログラムが実行され、ウィンドウが生成されると、ウィンドウのタイトルを取得する段階と、あらかじめ設定された比較データを参照してタイトルに係るウィンドウ詳細情報を認識し、ウィンドウ詳細情報に相応するように、応用プログラムの使用履歴情報を生成又は更新する段階と、各応用プログラムに相応するように、保存された使用履歴情報を用いて設定された基準を基に使用パターンをモニタリングする段階と、を含む。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: a coating step to apply paste containing AlN powder, glass frit and a solvent on a substrate; a drying step to dry the paste applied and to form a dry coating film; a laser drawing step to draw conductive patterns on the dry coating film by irradiation of laser beams; and a development step to remove unirradiated part of laser light out of the dry coating film by using a developer.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成方法によれば、ＡｌＮ粉末、ガラスフリット及び溶剤を含むペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー光の照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー描画工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザー光の未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする - 特許庁

The method of correcting a black defect generated in a transparent conductive electrode or a transparent conductive wiring pattern comprising the transparent conductive film deposited on a surface of a transparent substrate or a color filter formed in the transparent substrate, includes applying a high voltage between a discharge electrode and the transparent conductive film disposed in the vicinity of the black defect, applying a spark discharge to the black defect, and then removing the black defect by cleaning.例文帳に追加

透明基材または透明基材に形成されたカラーフィルタの表面に成膜された透明導電膜からなる透明導電性電極または透明導電性配線パターンに存在する黒欠陥の修正方法であって、黒欠陥の近傍に配置した放電電極と透明導電膜の間に高電圧を印加し、黒欠陥部に火花放電を当て、その後の洗浄によって黒欠陥を除去することを特徴とする黒欠陥修正方法。 - 特許庁

To provide a photomask manufacturing method by which productivity is enhanced without reducing dot quality and dimensional accuracy and a highly accurate shadow mask pattern is obtained and a photomask for a shadow mask.例文帳に追加

生産性の向上を図るために、露光工程でもシャドウマスクの多面取りが行われるようになってきているが、特に１７インチディスプレイ用のフォトマスクをガラス基板に焼付ける場合には、従来から使用している露光機と大きさが合わず、そのために専用の露光装置を製造するか、もしくは枠の大幅な改造を余儀なくされていたが、これを従来より使用されている露光装置を転用して使用可能としたシャドウマスク用フォトマスクの製造方法及びこれに用いられるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

In this conductor film, the metal pattern layer 3 is formed on the laminated layer film 4a with a vapor phase film forming method and the laminated layer film 4a is formed of a composition including, as the main structural elements, a melamine system cross linking agent, and a polyester resin having carboxylic acid group and sulfonic acid group in the side chain.例文帳に追加

ポリエステルフィルム４の少なくとも片面に積層膜４ａを有し、該積層膜上に金属層がパターン形状に加工された金属パターン層３を有する導電性フィルムであって、前記金属パターン層３が前記積層膜４ａ上に気相製膜法で形成されたものであり、前記積層膜４ａが、メラミン系架橋剤と側鎖にカルボン酸基及びスルホン酸基を有するポリエステル樹脂を主たる構成成分とする組成物から形成されたものであることを特徴とする、導電性フィルム。 - 特許庁

To provide an optical recording medium scan method, an optical recording medium scanning device and an optical recording medium scanning the medium according to a tracking pattern formed in the medium for performing at least one function among recording of information for the optical recording medium, reproducing of the recorded information and the erase of the recorded information, stably and precisely performing tracking and scanning the medium.例文帳に追加

光記録媒体に対し情報の記録、記録された情報の再生及び記録された情報の消去のうち少なくとも一つを行うために該媒体に形成されたトラッキングパターンに従って該媒体を走査する光記録媒体走査方法であって、安定且つ高精度にトラッキングを行って媒体走査できる光記録媒体走査方法を提供するとともに、該光記録媒体走査方法を実施するに適する光記録媒体走査装置及び光記録媒体を提供する。 - 特許庁

This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加

基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To produce a foamed laminate in which an uneven pattern formed on the molding surface of a mold is transferred clearly to the surface of a thermoplastic elastomer sheet layer without damaging a foamed polyolefin sheet layer by heat and crashing cells, in a method for producing the foamed laminate by thermoforming a foamed laminated sheet having the polyolefin sheet layer and the elastomer sheet layer respectively on both outermost layers.例文帳に追加

両最外層にポリオレフィン系発泡シート層および熱可塑性エラストマーシート層をそれぞれ有する発泡積層シートを真空成形して、熱可塑性エラストマーシート層の表面に凹凸模様を付した発泡積層体を製造する方法において、上記問題を解決し、ポリオレフィン系発泡シート層が熱によりただれたり、発泡セルがつぶれたりすることなく、熱可塑性エラストマーシート層の表面に金型成形面に設けた凹凸模様が鮮明に転写された発泡積層体を製造する。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

In the method for depositing the DLC film: an anode electrode in which at least its tip has a needle-like shape and a cathode electrode are disposed in an organic solvent and prescribed voltage is applied between the needle-like anode electrode and the cathode to synthesize the DLC film which contains nitrogen and elements constituting the above organic solvent; and an arbitrary pattern is formed by moving the anode electrode or the cathode electrode.例文帳に追加

本発明のＤＬC膜の形成方法は、有機溶媒中に、少なくとも先端が針形状のアノード電極と、カソード電極とを配置して、前記針形状のアノード電極と前記カソード電極との間に所定の電圧を印加することにより、カソード電極上に窒素及び前記有機溶媒の構成元素とを含んでなるＤＬC膜を合成すること及びアノード電極あるいはカソード電極を動かすことにより任意のパターンを形成すること特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing platens for linear motors includes the steps of: forming platen dots arranged in a matrix pattern on a plate-like magnetic material by screen printing using magnetic ink; after the platen dot formation step, filling lattice-shaped grooves between platen dots with nonmagnetic resin material; and, after the resin material filling step, flattening the surface of the work piece with a surface grinding machine.例文帳に追加

板状の磁性体に磁性材インクを用いたスクリーン印刷によりマトリックス状に配列形成したプラテンドットを形成するプラテンドットの形成工程と、このプラテンドットの形成工程後にプラテンドット間の格子状溝に非磁性材製の樹脂材を埋め込む樹脂材の埋め込み工程と、この樹脂材の埋め込み工程後に表面を平面研削盤で表面を平坦に加工する表面平坦加工工程とでリニアモータ用プラテンの製造方法を構成している。 - 特許庁

The multi-viewpoint image creating system and method performs pattern matching between left and right stereo images, with one of them as reference, specifies matched image for each pixel, calculates an intermediate position image by interpolating an interpixel distance between matched images of each left and right pixel, and calculates a right outer image and a left outer image by extrapolating the interpixel distance between the matched image of each left and right pixel.例文帳に追加

本発明は、左右２枚のステレオ画像に対して、左目画像、右目画像のいずれか一方のステレオ画像を基準にして他方のステレオ画像との間でパターンマッチングを実施し、画素毎のマッチング画像を特定し、左右の画素毎のマッチング画像間で画素間距離の内挿によって中間位置画像を求め、左右の画素毎のマッチング画像間で画素間距離の外挿によって右外画像、左外画像を求める多眼視画像作成システム及び方法を特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing an organic EL apparatus comprising a light emitting element having at least a light emitting layer between a pair of electrodes, scanning lines to supply scanning signals, signal lines formed intersecting the scanning lines, and light emitting power supply lines, is characterized in that the light emitting power supply lines are fabricated by depositing a conductive substance on a graft polymer produced in a pattern on a substrate.例文帳に追加

一対の電極間に少なくとも発光層を有する発光素子と、走査信号を供給する走査線と、該走査線に対して交差する方向に形成される信号線と、発光用電源配線と、が形成されてなる有機ＥＬ装置の製造方法において、前記発光用電源配線が、基材上にパターン状に生成させたグラフトポリマーに、導電性物質を付着させることにより形成されることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device that divides a pattern formed on a semiconductor substrate and performs the connecting exposure that exposes patterns so as to connect a plurality of divided patterns, wherein marks for adjusting dispositions of the patterns to be connected are formed on the substrate, and the connecting exposure is performed on the patterns of the semiconductor by matching the marks for adjusting the dispositions, before the patterns of the semiconductor are exposed.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上に形成するパターンを分割し、分割した複数のパターンをつなぎ合わせるように露光するつなぎ合わせ露光を行なう半導体装置の製造方法であって、半導体素子のパターンを露光する前に、つなぎ合わせるパターンの配置を調整するためのマークを基板上に形成し、配置調整用のマークに合わせて半導体素子のパターンをつなぎ合わせ露光することを特徴とする。 - 特許庁

The film carrier tape for mounting electronic component 10 having a mounting unit where a wiring pattern 22 is formed on a substrate by etching and the final defect marking method of the film carrier tape for mounting electronic component are characterised in that the unit has a target mark 30 being a reference for positioning to perform final defect marking in the target position on the mounting unit by a marking means.例文帳に追加

基材上にエッチングにより配線パターン２２を形成した実装ユニットを有する、電子部品実装用フィルムキャリアテープ１０であって、前記実装ユニットは、前記エッチングにより前記基材上に形成したパターンとして、マーキング手段により前記実装ユニット上の目標位置に最終不良マーキングを行うための位置合わせの基準となるターゲットマーク３０を有することを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ、および電子部品実装用フィルムキャリアテープの最終不良マーキング方法。 - 特許庁