「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(454ページ目) - Weblio英語例文検索

The objective magnetic recording medium has a magnetized pattern formed by the method and the objective magnetic recorder uses the magnetic recording medium.例文帳に追加

基板上に少なくとも１層の磁性薄膜と保護層と潤滑層を順次有してなる磁気記録媒体の磁化パターン形成方法であって、該磁性薄膜を局所的に加熱する工程と、該磁性薄膜に外部磁界を印可する工程とを含む磁気記録媒体の磁化パターン形成方法、及びそれにより磁化パターンを形成した磁気記録媒体並びにそれを用いた磁気記録装置。 - 特許庁

In a transistor comprising a gate electrode 11, a gate insulating film 2, a source electrode 17, a drain electrode 16 and the organic semiconductor layer 3 formed on a substrate, the sealing layer 4 is included on the semiconductor layer, and a printing method is used for its formation to form a stripe shape, by which a pattern is simply formed, and high alignment accuracy is obtained together with the high yield.例文帳に追加

基板上に形成されたゲート電極１１、ゲート絶縁膜２、ソース電極１７、ドレイン電極１６および有機半導体層３を含んでなるトランジスタにおいて、半導体層上に封止層４を有し、その形成に印刷法を用い、ストライプ状にすることで、簡易にパターンを形成でき、歩留まりよく、高いアライメント精度が得られる。 - 特許庁

The film pattern forming method comprises a FAS treating process S8 of forming a self-organizing film of fluoroalkylsilane on the board, a liquid-repellency reducing process S10 of reducing the liquid repellency of the board that has been subjected to the FAS treating process, and a droplet discharge process S11 of discharging droplets on the board subjected to the liquid-repellency reducing process.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、基板上にフルオロアルキルシランからなる自己組織化膜を形成するＦＡＳ処理工程Ｓ８と、ＦＡＳ処理が施された基板の撥液性を低下する撥液性低下処理工程Ｓ１０と、撥液性低下処理が施された基板上に液滴を吐出する液滴吐出工程Ｓ１１とを有する。 - 特許庁

To provide a container for transferring a substrate and a method for controlling a driving which are characterized by that a driving pattern is changed so that an environment formed in a container for transferring the substrate having a particle removing means, a gaseous-impurity removing means, and a dehumidifying means are made in the optimum conditions to the substrate in each process in order to automate a transfer and a control.例文帳に追加

搬送と管理の自動化を前提として、粒子除去手段とガス状不純物除去手段と除湿手段を備えた基板搬送容器内で構築される環境を、各プロセスにおける基板に最適な条件になるように運転パターンを変化させることを特徴とした基板搬送容器、およびその運転制御方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for the member pattern plurality having a first strip member 26 patterned on a substrate 21 and a second strip member 24 patterned so as to spread from the first strip member 26 to the substrate 21 comprises a process forming the first strip member 26 by a printing method; and a process forming the second strip member 24 by exposure and developing using a photosensitive material.例文帳に追加

基板２１上に、パターニングされた第一の帯状部材２６と、当該第一の帯状部材２６上から当該基板２１上に跨ってパターニングされた第二の帯状部材２４の複数とを備える部材パターンの製造方法であって、前記第一の帯状部材２６を、印刷法にて形成する工程と、前記第二の帯状部材２４を、感光性材料を用いた、露光と現像とを伴うプロセスにて形成する工程と、を有することを特徴とする部材パターンの製造方法。 - 特許庁

The method for forming the resist pattern further has a process for bridging sections brought into contact with the resist layers in the resin composition by supplying the acid from the resist layers and forming bridging layers coating the resist layers and a process for removing sections excepting the bridging layers in the resin composition and obtaining the resist pattern with the resist layers and the bridging layers coating the resist layers.例文帳に追加

基板１の一面上に形成され、かつパターン化され、かつ酸を供給可能なレジスト層４においてその表面４ａを、フルオロカーボン１６を含むガス雰囲気下でプラズマ処理する工程と、プラズマ処理されたレジスト層の表面に酸の存在下で架橋する樹脂組成物を付着させる工程と、レジスト層からの酸の供給により、樹脂組成物のうちレジスト層に接する部分を架橋させ、レジスト層を被覆する架橋層を形成する工程と、樹脂組成物のうち架橋層以外の部分を除去し、レジスト層とこれを被覆する架橋層とを有するレジストパターンを得る工程とを備えるレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

In a semiconductor growing method, where a nitride III-V compound semiconductor such as a GaN semiconductor is formed on a substrate, such as a sapphire substrate formed of a material different from that of the compound semiconductor using a growing mask, a growing mask 4 which contains at least a pattern that is threefold or sixfold symmetrical is used as the growing mask.例文帳に追加

成長マスクを用いてＧａＮなどの窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体をこの半導体と異なる材料からなる基板、例えばサファイア基板上に選択成長させるようにした半導体の成長方法において、成長マスクとして、３回対称または６回対称の対称性を有するパターンを少なくとも一部に含む成長マスク４を用いる。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device has a protective film forming step of forming the protective film on a plurality of first resist patterns formed on a substrate, forming a second resist pattern on this protective film between the plurality of first resist patterns, and forming the protective film by dividing into at least two layers by using the different methods, respectively.例文帳に追加

半導体デバイスの製造方法は、基板上に形成された複数の第１のレジストパターンの上に保護膜を形成し、この保護膜の上であって複数の第１のレジストパターンの間に第２のレジストパターンが形成され、夫々異なる方法を用いて少なくとも２層に分けて保護膜を形成する保護膜形成工程を有する半導体デバイスの製造方法を有する。 - 特許庁

To provide a game machine, a screen image display method for the game machine, a memory medium, and a server capable of clearly displaying a pattern or information, even in displaying general information sufficiently utilizing an enlarged liquid display panel, and making a player enjoy the game without feelings of monotony or tiresomeness.例文帳に追加

通常画面が表示されている際においても、識別情報である図柄と演出画面とを明確に表示することができるとともに、大型化した液晶ディスプレイパネルを十分に活用することができ、遊技者が単調感や飽きを感ずることなく遊技を楽しむことができる遊技機、遊技機の画像画面表示方法、記憶媒体及びサーバを提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic electroluminescence element includes a stage for providing a substrate on which pixel electrodes are formed, a stage for laminating a donor substrate on the whole surface of the substrate, and a stage for scanning a laser beam on a predetermined area of the donor substrate by using the laser irradiation apparatus to form the organic film layer pattern.例文帳に追加

本発明に係る有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にドナー基板をラミネーションする段階と、前記レーザー照射装置を用いて前記ドナー基板の所定領域にレーザービームをスキャンして前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for controlling the surface topography of an adhesion plane comprises a step in which a microreplicated topography is formed from contacting a microembossed pattern to a layer of an adhesive so that the topography of the adhesive surface controls the performance of the adhesion interface when the adhesion interface is established between the layer of an adhesive and a supporting substrate.例文帳に追加

接着面の表面形態を制御する方法であって、接着剤層と支持基材との問に接着界面が確立されると、接着面の表面形態がその接着剤と前記支持基材との間の接着界面の性能を制御するように、微細エンボスパターンを接着剤層に接触させて、微細複製接着面を形成するステップを含む方法を開示する。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet manufacturing method to perform alloy processing by heating a steel sheet galvanized in a galvanizing bath, the temperature pattern to perform alloy processing is determined based on the temperature integration value obtained by multiplying the heating or cooling temperature (T) in the alloy processing by the time (t), and adding the products.例文帳に追加

亜鉛メッキ浴にてメッキを施した鋼板を加熱して合金化処理を行う合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法において、前記合金化処理における加熱・冷却中の温度（Ｔ）と時間（ｔ）とを掛け合わせて積算した温度積分値に基づいて、前記合金化処理を行う温度パターンを決定することを特徴とする合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法。 - 特許庁

An operation selection result database 114 of a recommended operation selection device 110 is configured to adapt similarity between a series of operations performed till this time and individual operations registered in a personal operation database 111 by a pattern matching method on the basis of the past plant data accumulated in a plant measured value database 150 and operation history data accumulated in an operation history database 160.例文帳に追加

推奨操作選定装置１１０の操作選定結果データベース１１４は、プラント計測値データベース１５０に蓄積された過去のプラントデータと、操作履歴データベース１６０に蓄積された操作履歴データとに基づくパターンマッチング手法により、これまで行われた一連の操作と個別操作データベース１１１に登録されている個別操作との類似度を採点する。 - 特許庁

As the manufacture, the made through hole is charged with resin paste, and after hardening of the charged resin paste, desmear treatment is applied to the laminate 1, and a metallic plated layer 4 by electrolytic plating method is made on this surface where desmear treatment is applied, and the needless section of the made plated layer 4 is removed by etching to form a wiring pattern.例文帳に追加

製造方法としては、形成したスルーホールに金属粒子を含有する樹脂ペーストを充填し、充填した樹脂ペーストの硬化後に、その積層体にデスミア処理を施して、このデスミア処理の施された表面に電解メッキ法による金属メッキ層（４）を形成し、形成されたメッキ層（４）の不要部分をエッチングにより除去し、配線パターンを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal plating material using a polymer material is characterized in that a polymer electrolytic material is used as the polymer material, ion injection is carried out onto the surface of the polymer electrolytic material via a mask having a predetermined pattern, and thereafter the polymer electrolytic material is subjected to nonelectrolytic plating.例文帳に追加

高分子材料を用いて金属メッキ材料を製造する方法であって、前記高分子材料として高分子電解質材料を用い、所定のパターンを有するマスクを介して当該高分子電解質材料の表面にイオン注入を行なった後、当該高分子電解質材料に無電解メッキを施すことを特徴とする金属メッキ材料の製造方法。 - 特許庁

The pattern forming method uses the composition.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び脂環構造を有する特定の基を側鎖に有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）酸の作用により水を発生する化合物、（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a printed circuit board with a high-density fine circuit pattern, by forming a high-density circuit by forming circuits in a portion where lands occupy to form a larger number of circuits in an insulating substrate with the same area, and a method capable of manufacturing the printed circuit board at low cost which makes signal transformation between layers smooth without requiring a complicated step.例文帳に追加

ランドが占める部分に回路を形成することができるようにして高密度の回路形成を可能とし、同一の面積の絶縁基板にさらに多い回路を形成して密集度の高い微細回路パターンの印刷回路基板を提供すること、層間の信号伝逹を円滑にし、複雑な工程を要せず安価な費用で印刷回路基板を生産できる製造方法を提供する。 - 特許庁

A hydrophobic mask layer 13 having water wettability lower than that of a conductive surface 12a is formed in at least a part on the conductive surface 12a of a substrate 12, a metal oxide is electrolytically deposited on the conductive surface 12a by an electrolytic deposition method, the metal oxide deposited on the hydrophobic mask layer 13 is removed to form a pattern of a metal oxide layer 14.例文帳に追加

基体１２の導電性表面１２ａ上の少なくとも一部に、水の濡れ性が導電性表面１２ａよりも低い疎水性マスク層１３を形成し、電解析出法により、導電性表面１２ａ上に金属酸化物を電解析出させるとともに、疎水性マスク層１３上に析出した金属酸化物を除去して、金属酸化物層１４をパターン形成する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition that has high fine dispersibility and high dispersion stability, high sensitivity, and high developability even in a high pigment concentration condition, a color filter that has high substrate adhesiveness, a high pattern shape, and high proper color characteristics, such as, contrast and color unevenness by using the colored curable composition, and to provide a manufacturing method for the composition.例文帳に追加

高顔料濃度条件化においても、微細分散性および分散安定性が良好で、感度が高く、且つ現像性が良好な着色硬化性組成物を提供し、前記着色硬化性組成物を使用することによって基板密着性に優れ、パターン形状が良好で、しかもコントラストや色ムラ等の色特性が良好なカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the mass spectrometry due to a tandem type mass spectrometry apparatus, bond dissociation energy is calculated by using a molecular simulation method, the prediction information of the cleavage pattern of peptide and/or the peak position of the mass spectrum and/or the intensity ratio of a spectrum is added to obtained experiment information for use as the identification of protein.例文帳に追加

本発明のプロテオーム解析方法は、タンデム型質量分析装置による質量分析において、分子シミュレーション法を用いて結合解離エネルギーを算出して、ペプチドの開裂パターンおよび／または質量スペクトルのピーク位置および／またはスペクトルのＩｎｔｅｎｓｉｔｙ比の予測情報を、得られた実験情報に加えて、蛋白質の同定に用いることを特徴とする。 - 特許庁

The method includes steps of forming an in-situ mask for the photosensitive element; exposing the element to actinic radiation through the in-situ mask in an environment having an inert gas and a concentration of oxygen between 190,000 and 100 ppm; and treating the exposed element to form the relief printing form having a pattern of printing areas.例文帳に追加

この方法は、感光性要素用のその場マスクを形成するステップと、この要素をその場マスクを介して不活性ガスと１９０，０００ｐｐｍと１００ｐｐｍとの間の酸素濃度を有する環境内で化学放射線に露出させるステップと、印刷領域のパターンを有する凸版印刷組版を形成するように、露出された要素を処理するステップとを含む。 - 特許庁

The conductive pattern material obtained by the manufacturing method is applied to the PDP.例文帳に追加

基板上にＩＴＯ膜を設ける工程と、該ＩＴＯ膜表面にグラフトポリマーを直接結合させる工程と、該グラフトポリマーに導電性材料を付着させる工程と、を有し、前記グラフトポリマーを直接結合させる工程の前又は後に、前記ＩＴＯ膜をパターニングする工程を有することを特徴とする導電性パターン材料の製造方法、該製造方法により得られた導電性パターン材料を適用したＰＤＰ。 - 特許庁

The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffraction pattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film.例文帳に追加

配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第１工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第２工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第３工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition solution which allows fine pattern printing by an inkjet system, is curable by active energy beams and low-temperature heating (250°C or below), and has low viscosity despite not containing organic solvents, and to provide a coating film of the photosensitive resin composition obtained from the solution and having good physical properties, and to provide a method for utilizing the same.例文帳に追加

本発明の課題は、インクジェット方式で微細パターンの印刷が可能であり、活性エネルギー線及び低温（２５０℃以下）の加熱で硬化可能であって、有機溶媒を含有しないにもかかわらず、低粘度である感光性樹脂組成物溶液及びそれから得られる良好な物性を有する感光性樹脂組成物塗膜、並びに、その利用方法を提供することにある。 - 特許庁

This manufacturing method of the printed circuit board comprises the steps of forming a circuit pattern which includes the land on one side of a first substrate; forming the paste bump on the land on the first substrate; and laminating an insulating material on the one side of the first substrate so that the paste bump penetrates the insulating material, wherein the paste bump is formed so as to cover the land of the first substrate.例文帳に追加

印刷回路基板の製造方法は、第１基板の一面にランドを含む回路パターンを形成する段階と、第１基板のランド上にペーストバンプを形成する段階と、及びペーストバンプが絶縁材を貫通するように第１基板の一面に絶縁材を積層する段階とを含み、ペーストバンプが第１基板のランドをカバーするように形成されることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method for the semiconductor device has a process forming a photo-resist film on a film to be etched 11, a process forming rectilinear resist patterns 50 placed on the film to be etched 11 by exposing and developing the photo-resist film and a process forming a rectilinear pattern 11a by etching the film to be etched 11 while using the resist patterns 50 as masks.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、被エッチング膜１１上にフォトレジスト膜を形成する工程と、フォトレジスト膜を露光及び現像することにより、被エッチング膜１１上に位置する直線状のレジストパターン５０を形成する工程と、レジストパターン５０をマスクとして被エッチング膜１１をエッチングすることにより、直線パターン１１ａを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The method is characterized by including: a step in which a porous body having three-dimensionally continuous cavities is exposed to a three-dimensional wiring pattern having at least two different two-dimensional patterns in the incident direction of light; and a step in which cavities of the exposed part of the porous body after exposed or unexposed part are selectively filled with a conductive material or its precursor.例文帳に追加

三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: selecting a first cell to be reduced, from layout pattern data designed in advance; calculating the area of a free space which is adjacent to the first cell; and fixing one side selected according to the area of the free space, and for reducing the first cell by changing the other side opposite to the one side.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタンデータから縮小対象の第１セルを選択するステップと、第１セルに隣接する空き領域の面積を算出するステップと、空き領域の面積に応じて選択された一辺を固定し、前記一辺に対向する他の辺を変動させて前記第１セルを縮小するステップとを具備する。 - 特許庁

Crystal having characteristics (dielectric loss tangent: tan δ) better than that of fluororesin, LTCC or the like used conventionally as a substrate of a resonance part 1 and on which a fine metal film pattern can be formed by a photolithographic method is used as a crystal substrate 10, and a conductive line is formed on the crystal substrate 10 to form an inductance element 11 in the resonance part 1.例文帳に追加

従来から共振部１の基板として用いられているフッ素樹脂やＬＴＣＣなどよりも良好な特性（静電正接：ｔａｎδ）を持ち、しかもフォトリソグラフィ法により微細な金属膜のパターンを形成できる水晶を水晶基板１０として用いて、この水晶基板１０上に導電線路を形成して共振部１のインダクタンス素子１１を構成する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet for flooring in which at least a transparent resin layer and a transparent surface protective layer are laminated in turn on a base material sheet and which has an embossed uneven pattern developing good designability even when the thickness of the transparent resin layer is as thick as at least 200 μm, and a method for producing the decorative sheet for flooring.例文帳に追加

基材シート上に、少なくとも透明性樹脂層及び透明性表面保護層が順に積層されている床材用化粧シートであって、透明性樹脂層の厚さが２００μｍ以上と厚い場合であっても良好な意匠性を発揮するエンボス凹凸模様を有する床材用化粧シート、並びに当該床材用化粧シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing the magnetic recording medium, the UV curable resin material for pattern transfer is used, containing: at least one of 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-ethyl-2-adamatyl acrylate and 1, 3-adamantan dimethanol diacrylate; isobonyl acrylate; a multifunctional acrylate; and a polymerization initiator, or containing at least one of the acrylates, a polymerization initiator and a fluorinated alcohol.例文帳に追加

２−メチルー２ーアダマンチルアクリレート、２-エチルー２-アダマンチルアクリレート、及び１，３−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも１種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも１つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

To provide an easy method of forming a solder resist pattern by which electrical short circuit caused by solder between connection pads for connecting mutually adjacent semiconductors is prevented, a solder amount for securely fixing electrical connection of an electrode terminal of an electronic component and the connection pad corresponding to it is secured, and a wiring board with dense wiring and excellent electrical connection reliability is manufactured.例文帳に追加

互いに隣接する半導体接続用の接続パッド間の半田による電気的な短絡がなく、電子部品の電極端子とこれに対応する接続パッドとの電気的な接続を確実に固定するための半田量を確保でき、電気的接続信頼性に優れる高密度配線の配線基板を作製するための簡単なソルダーレジストパターンの形成方法を提供。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.例文帳に追加

アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processor, an image forming device, an image processing method, a computer program, and a recording medium therefor, preventing such a problem of unclearly displaying design pattern which should be displayed when copying an obtained original is copied, in an image processing to add design data representing the design patterns to obtained image data.例文帳に追加

取得画像データに、地紋パターンを表す地紋データを付加する処理を行う画像処理において、得られる原稿が複写される際に現れるべき地紋パターンがはっきり顕在しない問題が生じる虞がある場合は、斯かる問題の発生を未然に防止出来る画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのＥＵＶ露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるＥＵＶ光反射率の低下に対し、ＥＵＶ光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The wiring method of the semiconductor integrated circuit includes: a process for reading a net level information in a state that a preset pattern is stopped at predetermined timing; and a process which when a wiring pair matched with a previously defined adjacent condition exists, performs wiring based on the net level information so that the wiring pair is turned to different potential or the wiring pair is not matched to the adjacent condition.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路の配線方法は、プリセットパタンを所定のタイミングで停止させた状態でのネットレベル情報を読み込む工程と、予め定義された隣接条件に適合する配線ペアが存在すると、ネットレベル情報に基づいて、配線ペアが異電位になるか、又は配線ペアが隣接条件に適合しなくなるように配線を行う工程と、を備える。 - 特許庁

In the manufacturing method for the printer, a first and a second test patterns are printed by changing a relative position of adjoining short heads by a plurality of the number of times, a relative position between the short heads is determined by acquiring a joint density, and a density correcting value to an image part printed in an overlapping region is calculated on the basis of the pattern printed by the short heads at the determined relative position.例文帳に追加

隣接した短尺ヘッドの相対位置を複数変化させて第１、第２テストパターンを印刷し、繋ぎ目濃度を取得して短尺ヘッド間の相対位置を決定し、決定した相対位置である短尺ヘッドによって印刷されたパターンに基づいて重複領域で印刷される画像部分に対する濃度補正値を算出する印刷装置の製造方法 - 特許庁

In a method for carrying out the nano-imprint by inkjet in which an ink droplet D made of resist material is applied, the ink droplet D is applied on a substrate 3 so that an ink droplet interval Wa along a direction A approximately parallel to the direction of a line-shaped uneven pattern P1 becomes longer than an ink droplet interval Wb along a direction B approximately vertical to the direction A.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴Ｄを塗布しナノインプリントを行う方法において、ライン状凹凸パターンＰ１のライン方向に略平行な方向であるＡ方向に沿った液滴間隔Ｗａが、Ａ方向に略垂直な方向であるＢ方向に沿った液滴間隔Ｗｂより長くなるように、液滴Ｄを基板３上に塗布する。 - 特許庁

This production method includes processes of: plate-making first and second photosensitive layers 52a, 52b laminated on both sides of a laminated body 50 having a base material film 32, first and second electroconductive layers 40, 45 laminated on both sides of the base material film, and a light shielding layer laminated on the electroconductive layer; and thereafter etching the light shielding layer and the electroconductive layer to pattern them.例文帳に追加

製造方法は、基材フィルム３２と、基材フィルムの両側に積層された第１および第２の導電層４０，４５と、導電層上に積層された遮光層と、を有する積層体５０の両側に積層された第１および第２の感光層５２ａ，５２ｂを製版する工程と、その後、遮光層および導電層をエッチングしてパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a printing plate which sharply reproduces an edge shape with high resolution through laser irradiation so as to be used specially for a peel-apart printing method, patterns a water-repellent region corresponding to a printing area, and prevents disturbance of an edge shape of an ink pattern formed on the surface of an object to be printed resulting from the fact that a base material is hardly damaged on the laser irradiation.例文帳に追加

特に剥離印刷法に使用すべく、レーザ照射により、高い解像度でもってエッジの形状をシャープに再現しながら、画線部に対応する撥水性の領域をパターン形成できる上、前記レーザ照射の際に基材がダメージを受けにくいため、被印刷体の表面に形成されるインキパターンのエッジ形状が乱れたりしにくい印刷用版を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing metal foil with a pattern formed on at least one side thereof, includes the steps of: (A) precipitating metal by plating on a conductive surface of a conductive substrate for plating in which a recess is formed on the surface, the recess being formed so as to widen toward the opening direction; and (B) releasing the metal precipitated on the surface of the conductive substrate for plating.例文帳に追加

（Ａ）表面に開口方向に向かって幅広な凹部が形成されており、表面が導電性であるめっき用導電性基材の表面にめっきにより金属を析出させる工程、（Ｂ）上記めっき用導電性基材の表面に析出させた金属を剥離する工程を含むことを特徴とする、少なくとも片面にパターンが施された金属箔の製造方法。 - 特許庁

The method for producing paper that embosses a pattern after printing or printed matter includes, in a step for producing paper, coating the surface of paper with an aqueous solution of iron sulfate containing iron (II) sulfate or iron (III) sulfate to produce paper and printing the paper using dampening water containing an oxidizing substance such as a nitrate, chlorate, perchlorate, or permanganate, a part of peroxide, in a printing step.例文帳に追加

紙を製造する工程において、硫酸鉄（ＩＩ）あるいは硫酸鉄（ＩＩＩ）を有する硫酸鉄水溶液を紙の表面に塗布して紙を製造した後、印刷工程で硝酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、過マンガン酸塩、一部の過酸化物などの酸化性物質を有する湿し水を用いて印刷する、印刷後に模様の浮き出る紙または印刷物の製造方法。 - 特許庁

To provide a colored curing composition for a solid image pickup device capable of forming a cured film of high chroma saturation which is restrained in the precipitation of needle crystal of the cured film even if it contains polyhalogenated zinc phthalocyanine as a coloring agent, a color filter for a solid image pickup device restrained in the generation of needle-like foreign matter and equipped with a good rectangle color pattern, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

着色剤としてポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含有する場合であっても、硬化膜の針状結晶の析出が抑制された高彩度の硬化膜を形成しうる固体撮像素子用着色硬化性組成物、針状異物の発生が抑制され、良好な矩形状の着色パターンを備える固体撮像素子用カラーフィルタ、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method of manufacturing the semiconductor device, in the semiconductor device 1 having a structure wherein a semiconductor chip 8 mounted on a principal surface of a package substrate 2 is sealed by a sealing member 11, conductor patterns 4 for wiring are arranged on the principal surface and the back surface of the package substrate 2, and a conductor pattern 4 for a dummy is arranged in a region where no conductor patterns 4 for wiring therein are arranged.例文帳に追加

パッケージ基板２の主面上に実装された半導体チップ８を封止部材１１によって封止した構成を持つ半導体装置１において、パッケージ基板２の主面および裏面に、配線用の導体パターン４を配置した他に、その配線用の導体パターン４が配置されていない領域にダミー用の導体パターン４とを配置した。 - 特許庁