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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23002



例文

The semiconductor device manufacturing method has a mount step of mounting a plurality of electronic parts at predetermined spots of a substrate previously formed with a wiring pattern, a bulkhead formed step of forming a bulkhead on the substrate between the plurality of electronic parts, and a resin sealing step of injecting a resin on the substrate formed with the bulkhead and sealing.例文帳に追加

予め配線パターンの形成された基板の所定の位置に複数の電子部品を載置するマウントステップと、前記複数の電子部品の間の前記基板上に隔壁を形成する隔壁形成ステップと、前記隔壁が形成された前記基板上に樹脂を注入して封止を行う樹脂封止ステップとを有する半導体装置製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electronic circuit substrate which performs a jumper processing between electrodes in an electronic component mounting region of a board, while eliminating continuity failures among both types of electrodes, by interposing jumper lines between the electrodes of a substrate and the electrodes of an electronic component, and can avert the unexpected short circuiting of the circuit pattern of the board by the jumper processing.例文帳に追加

基板の電極と電子部品の電極との間にジャンパー線を介在させることによる両電極の導通不良を解消しつつ、基板の電子部品載置領域における電極間にジャンパー処理を施し、且つ、そのジャンパー処理による基板の配線パターンの予期しない短絡を回避することができる電子回路基板製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming bump electrodes required at the time of mounting a semiconductor chip on a circuit board by facedown mounting, in which the bump electrodes can be formed accurately on an electrode pattern formed on the circuit board without requiring a highly accurate mask or a process hard to implement even in the case of fine pitch.例文帳に追加

フェースダウン実装工法により、半導体チップを回路基板に実装するような場合に必要な突起電極の形成に際して、狭ピッチにおいても高精度のマスクや実現が困難なプロセスを必要とすることなく、突起電極を回路基板上の電極パターン上に精度よく形成することができる半導体実装用基板における突起電極形成方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of coating a photoresist covering a pattern-formable region for protecting the surface of the wafer, completely removing only the unwanted films, after the photoresist coating step, by the use of chemicals capable of removing the unwanted films causing the peel off, and peeling off the photoresist for protecting the surface of the wafer.例文帳に追加

ウェハー表面保護のために、パターン形成可能領域をフォトレジストで覆うフォトレジスト被覆工程と、フォトレジスト被覆工程に続いて、剥がれの原因となる不要膜を除去できる薬液を用いて、不要膜のみを完全に除去する不要膜除去工程と、その後、前記ウェハー表面保護用のフォトレジストを剥離するフォトレジスト剥離工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

例文

The method for forming the microparticle pattern includes patternwise exposing a substrate 1 having a layer 5 formed on an uppermost surface thereof and containing a silane coupling agent having a thiol, amino, hydroxyl, carboxyl or sulfo group protected by a photodegradable protective group, and immersing the substrate in a colloidal solution in which metal atom-containing microparticles are dispersed to selectively deposit metal atom-containing microparticles 3 on an exposed portion 4.例文帳に追加

光分解性保護基で保護されたチオール基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基を有するシランカップリング剤を含有する層5が最上面に形成された基板1をパターン状に露光した後、該基板を金属原子含有微粒子が分散されたコロイド溶液に浸漬し、金属原子含有微粒子3を露光部4に選択的に付着させる微粒子パターン形成方法。 - 特許庁


例文

This method is provided with a process for providing a plurality of resin sealed semiconductor devices by simultaneously sealing the plurality of semiconductor chips packaged on a matrix board 1B with resins and dividing the matrix board 1B a plurality of chips later, before the process for dividing the matrix board 1B into a plurality of chips, an address information pattern 8 is applied to each of resin sealed semiconductor devices.例文帳に追加

マトリクス基板1Bに搭載した複数の半導体チップを一括して樹脂封止した後、マトリクス基板1Bを複数の個片に分割することによって複数の樹脂封止型半導体装置を得る工程を含み、マトリクス基板1Bを複数の個片に分割する工程に先立って、樹脂封止型半導体装置のそれぞれにアドレス情報パターン8を付与する。 - 特許庁

A manufacturing method of an alloy wiring board includes steps of forming a first wiring layer, by printing ink containing a first metal particle on a substrate, corresponding to a circuit pattern; laminating a second wiring layer on the first wiring layer, by printing the ink containing a second metal particle on the substrate; and (c) sintering the first wiring layer and the second wiring layer.例文帳に追加

本発明の 合金配線基板製造方法は、回路パターンに対応して基板上に第1金属粒子を含むインクを印刷して第1配線層を形成する段階と、基板上に第2金属粒子を含むインクを印刷して第1配線層上に第2配線層を積層する段階と、(c)第1配線層及び第2配線層をシンタリングする段階とを含む。 - 特許庁

This image processing method receives data obtained by reading a patch pattern generated by an image forming device, generates correction conditions for the image forming device based on the data, and generates the correction conditions based on the data so that output image data with respect to a specific gradation level of multi-gradation input image data satisfy preset conditions.例文帳に追加

画像形成装置で形成されたパッチパターンを読み取り得られたデータを入力し、前記データに基づき前記画像形成装置用の補正条件を生成する画像処理方法であって、多階調入力画像データの特定階調レベルに対する出力画像データが予め設定された条件を満たすように、前記データに基づき前記補正条件を生成することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method for the light regressive prismatic film, on the surface of which a large number of minute triangular pyramidal shapes are continuously arranged, laser light is shone to a manufacturing mold and the vertical angle of the triangular prism of the film reproduced by the mold so as to calculate the precise vertical angle through the measurement of a projected hexagonal pattern.例文帳に追加

微細な三角錐形状を連続的に多数フィルム表面に配列した光回帰性プリズムフィルムの製造方法において、製造のための金型と金型より複製されたフィルムの三角錐頂角にレーザー光を照射して、投影される六角形状パターンを計測することにより、正確な頂角を算出する事を特徴とした、プリズムフィルム製造方法。 - 特許庁

例文

A mis-synchronization detection method of this invention employing the frame synchronization detection circuit that is characterized in provision of a frame pulse detection circuit that detects excess and missing of a detected frame pulse in a detected part of out of synchronism in the synchronization device where a frame synchronization pattern inserted in serial data from a transmission channel is detected to detect a frame.例文帳に追加

本発明による誤同期検出方法は、フレーム同期検出において、伝送路からのシリアルデータよりデータ中に挿入されているフレーム同期パターンを検出してフレーム検出をおこなうという同期検出における、同期はずれの検出部分に検出フレームパルスの余剰および欠落を検出するフレームパルス検出回路を設けたことを特徴としている。 - 特許庁

例文

The screen plate having high solvent resistance, water resistance and wear resistance is provided by the method for manufacturing the plate comprising the steps of covering an overall surface of a screen mesh 10 made of stainless steel or amorphous metal with thermoplastic resin or reaction curable resin having no photosensitive properties, then irradiating the surface with an excimer laser to form a desired opening part for a pattern at the mesh surface.例文帳に追加

ステンレス製またはアモルフアス金属からなるスクリーンメッシュ10全面を、感光性の無い熱可塑性樹脂または反応硬化性樹脂で被覆した後、この表面にエキシマーレーザを照射してスクリーンメッシュ面にパターン用の所望の開口部を形成することによつて、耐溶剤性、耐水性、耐磨耗性の高いスクリーン版とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for arraying particulates A is carried out by combining a particulate spreading step to spread on the surface of an oxide substrate 1 the particulate-dispersed liquid obtained by dispersing the particulates A in a medium by using a surfactant, a light irradiating step to irradiate the substrate 1 with light by using the prescribed pattern and a medium removing step to remove the medium.例文帳に追加

この発明の微粒子Aの配列方法は、界面活性剤を用いて微粒子Aを媒体に分散させた分散液を酸化物基板1表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板1に所定のパターンにより光を照射する光照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程の各工程を組み合わせることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel wherein a pattern of a transparent pixel electrode can be highly accurately formed in the liquid crystal display panel wherein a display state of a pixel is controlled by controlling electric potential difference between the pixel electrode and a counter electrode opposed to the pixel electrode via a liquid crystal, and to provide a manufacturing method of the liquid crystal display panel.例文帳に追加

本願課題は、画素電極と、画素電極に液晶を介して対向する対向電極との間の電位差を制御することによって、画素の表示状態を制御する液晶表示パネルであって、透明画素電極のパターンを高精度に形成することを可能にする液晶表示パネル、及びそのような液晶表示パネルの製造方法を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method of the polymer optical waveguide substrate comprising the processes of forming a polymer optical waveguide laminated body on a silicon substrate, removing the unnecessary part by performing the reactive ion etching via a resist pattern containing positive type silicon, and exfoliating the resist containing the silicon, is characterized in that an exfoliation liquid containing amino alcohol is used as an exfoliation liquid of the resist containing silicon.例文帳に追加

シリコン基板上に、ポリマー光導波路積層体を形成し、ポジ型シリコン含有レジストパターンを介して反応性イオンエッチングを行って不要部を除去し、次いでシリコン含有レジストを剥離する工程を含むポリマー光導波路基板の製造方法において、シリコン含有レジストの剥離液としてアミノアルコール含有剥離液を使用することを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide an electronic component mounted wiring board, in which an electronic component is embedded in an insulating member arranged among wiring patterns and the electronic component is electrically connected to at least a part of the wiring pattern, capable of removing the effect of electromagnetic noise generated by the electronic component and that from outside, along with an electromagnetic noise eliminating method.例文帳に追加

配線パターン間に配置された絶縁部材中に電子部品が埋設され、前記電子部品が前記配線パターンの少なくとも一部と電気的に接続されてなる電子部品実装配線板において、前記電子部品が発生する電磁ノイズ及び外部からの電磁ノイズの影響を除去してなる電子部品実装配線板、その電磁ノイズ除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal etched component which has achieved a high etching factor, can reproduce a metallic pattern so as to acquire a designed precision, and an etched cross-section having a high aspect ratio and high definition, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

金属層に開孔部を有する金属エッチング製品において、本発明の金属エッチング部品及びその製造方法では、従来の方法では不可能であった飛躍的な高エッチングファクターを達成し、かつ精度についても設計通りの金属パターンを再現できることを特徴とする高アスペクト比かつ高精細なエッチング断面形状の金属エッチング部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して4倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

To solve the problems, in a method where a mask is provided on a substrate, and a transparent conductive film is pattern-formed on the substrate by a sputtering process, that, since the energy of particles made incident on the substrate is the extremely high one of about 600 eV, the particles infiltrate into the substrate, and the atoms composing the substrate are beaten out or defects are occurred in the substrate.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、スパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成する透明導電膜形成方法において、基板に入射する粒子のエネルギーは600eV程度と非常に高く、粒子が基板内に入り込んだり、基板を構成する原子が叩き出されたり、あるいは基板に欠陥を発生させるといった問題が発生する。 - 特許庁

This probe pin manufacturing method for manufacturing the probe pin for supplying a signal to an electronic device is provided with a mask layer formation process for forming a mask layer having a predetermined pattern on a substrate, a groove part formation process for forming a groove part on the substrate by etching the substrate, and an accumulation process for accumulating a metal material in the groove part by using the mask layer as a mask.例文帳に追加

電子デバイスに信号を供給するためのプローブピンを製造するプローブピン製造方法であって、基板に所定のパターンを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、マスク層をマスクとして、基板をエッチングし、前記基板に溝部を形成する溝部形成工程と、マスク層をマスクとして、溝部に金属材料を堆積する堆積工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

1組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

This signal processing method for detecting the periodic defects existing in a specimen partitions measured signals including the periodic defects with a plurality of periods, at a fixed interval, arrays the partitioned measured signals along a direction orthogonal to a data sequential direction of the measured signals to prepare a two-dimensional data sequence, and pattern-processes the two-dimensional data sequence to recognize the defects.例文帳に追加

被検体に存在する周期性欠陥を検出するための信号処理方法であって、前記周期性欠陥を複数周期以上含んだ測定信号を、一定間隔で区切り、前記測定信号のデータ列方向に対して直交する方向に、前記区切った測定信号を並べて2次元データ列を作成し、その2次元データ列をパターン処理して欠陥を認識する。 - 特許庁

In a manufacturing method by which an electromagnetic wave shielding film is manufactured by sticking a conductive material carrying a geometric pattern to the surface of a transparent base film, an adhesive layer is provided on the back of the transparent base film to which the conductive material is stuck and the base film is stuck to a substrate with the adhesive for future working.例文帳に追加

透明フィルム基材表面にメッシュ状の幾何学図形を形成した導電性材料が貼り合されてなる電磁波シールドフィルムの製造法において、導電性材料が貼り合された透明フィルム基材の背面に粘着剤層を設けるとともに、該粘着剤を介して導電性材料付きフィルム基材を支持板に貼り付け、その後の加工に供する。 - 特許庁

In the electrode having the active material layer 13 formed by a vapor deposition method and comprising spaces and zigzag columnar particles 15, carried on a projecting part of a current collector 14 having a recessed and projecting pattern on the surface, the thickness of a layer forming the zigzag is made wider in the lower part than the upper part of the columnar particles 15 to secure spaces in the electrode surface part.例文帳に追加

蒸着法により製造され、表面に凹凸のパターンを有する集電体14の凸部上に担持された空間とジグザグ形状の柱状粒子15から成る活物質層13を有する電極において、ジグザグ形状を形成する層の厚みが柱状粒子15の上部より下部で広い形状とすることで、電極表面部分での空間を確保する。 - 特許庁

In an image forming method by a reaction development comprising a step for irradiating a photoresist layer masked with a desired pattern with UV and a step for washing the layer with an alkali-containing solvent, it is characterized in that the photoresist layer comprises a condensation polymer containing carbonyl groups (C=O) bonding to heteroatoms in its principal chain and a photo-acid generator and the alkali is an amine.例文帳に追加

本発明は、所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層がヘテロ原子に結合したカルボニル基(C=O)を主鎖に含む縮合型ポリマーと光酸発生剤とから成り、該アルカリがアミンであることを特徴とする反応現像画像形成法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the plate having micro openings each having the predetermined size and arranged at predetermined intervals includes a step of forming a UV curable resin layer on a substrate, a step of performing UV exposure to the UV curable resin layer to form a pattern corresponding to the micro openings, a step of performing development and a step of peeling off the UV curable resin layer from the substrate to obtain the plate.例文帳に追加

本発明による、所定の間隔で配置された、所定のサイズの微細開口部を有するプレートの製造方法は、基板上に紫外線硬化樹脂層を形成するステップと、紫外線硬化樹脂層に、微細開口部に対応したパターンの、紫外線露光を行うステップと、現像を行うステップと、紫外線硬化樹脂層を基板から剥離させてプレートを得るステップと、を含む。 - 特許庁

To provide a forming method of a fine shape conductor of a copper-based particulate sintering compact exhibiting a superior conductivity, which is formed by utilizing a dispersion liquid of the copper particulates having a surface oxide film layer, wherein after fine pattern drawing, the copper particulates or copper oxide particulates contained in the coated films are reduction treated under a comparatively low temperature, and the copper particulates formed are calcinated.例文帳に追加

表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、塗布膜中に含まれる銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。 - 特許庁

The invention relates to a method for determining vibration-related information by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, mapping an intensity of the aerial image into an image map, wherein the image map comprises values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at each sampling location, and measuring intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic electric field light- emitting element 23 wherein the layer having electron transporting layers which are the light emitting regions between ITO transparent picture element electrodes 2 and negative electrodes 22, at least the electron transporting layers 5 among the layers are formed in a prescribed pattern by dropping an organic EL material solution 5a of the constituting materials of the layers.例文帳に追加

ガラス基板1上のITO透明画素電極2と陰極22との間に、発光領域である電子輸送層を有する層が設けられた有機電界発光素子23の製造方法において、前記層のうち少なくとも電子輸送層5をその構成材料の有機EL材料溶液5aの滴下によって所定パターンに形成する、有機電界発光素子23の製造方法。 - 特許庁

The method for forming a molding roll 10 having conductive projections 20 formed to an outer circumferential face in a predetermined pattern comprises a first step of forming conductive constant patterns 16 and 18 to a surface of an insulating roll 12 and a second step of executing electroforming to the conductive patterns 16 and 18 thereby forming projections 20.例文帳に追加

外周面に一定パターン状に形成された導電性の突起部20を有する成形ロール10の製造方法であって、絶縁性のロール12の表面に導電性の一定パターン16,18を形成する第1の工程と、次いで、上記導電性パターン16,18に電鋳を施して上記突起部20を形成する第2の工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the magnetic recording medium includes; a process which forms a mold layer on the base board; a pattern-forming process which forms patterns for forming spaces, whose lower part surface areas are different from the upper part surface areas corresponding to the lower part surfaces; and a process which fills the spaces with a magnetic body material to form the magnetic dots.例文帳に追加

基板上に鋳型層を形成する工程と、前記鋳型層をパターニングして、前記鋳型層に下部面の面積と前記下部面に対応する上部面の面積とが異なる空間を形成するパターンを形成する工程と、前記空間に磁性体物質を満たして磁性体ドットを形成する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The pattern forming method for group III nitride semiconductor substrate includes steps of irradiating a first area A of a group III nitride semiconductor substrate 100 with laser to convert the first area A having nitrogen polarity to a group III element polarity, and using the first area A converted to the group III element polarity by the laser irradiation as a mask to wet-etch a second area B.例文帳に追加

本発明のIII族窒化物半導体基板のパターン形成方法は、III族窒化物半導体基板100の第1領域A上にレーザを照射して、窒素極性の第1領域AをIII族元素極性に変換する段階と、レーザが照射されてIII族元素極性に変換された第1領域Aをマスクとして利用して第2領域Bをウェットエッチングする段階とを含んでいる。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing organic resin composition capable of forming a member having an excellent pattern form and a high aspect ratio, excellent in burning property of the organic component in baking process and capable of producing a highly reliable display panel, a transfer film formed by the composition and a method for producing a member for a display panel.例文帳に追加

優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができ、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から形成される樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiring board including an electronic component for electrically connecting the component in a face-down state where an active surface faces the lower side for a wiring pattern and for removing an influence of electromagnetic noise generated by the electronic component and that from the external side, and to also provide a method for removing the electromagnetic noise of the wiring board.例文帳に追加

配線パターンに対してアクティブ面が下向きとなるようにしてフェイスダウンの状態で電気的に接続されてなる電子部品を実装してなる電子部品実装配線板において、前記電子部品が発生する電磁ノイズ及び外部からの電磁ノイズの影響を除去してなる電子部品実装配線板、及びその電磁ノイズ除去方法を提供する。 - 特許庁

The etching method comprises the steps of: forming a resist 10 on the surface of a masking material 9 layered on an electroconductive foil 11 of a material to be etched; forming a pattern on the resist 10; etching the masking material 9 by using the resist 10 as a mask; removing the resist 10; and etching the electroconductive foil 11 of the material to be etched, through the masking material 9.例文帳に追加

本実施の形態のエッチング方法は、被エッチング材である導電箔11に積層されたマスク材9の表面にレジスト10を形成する工程と、レジスト10をパターニングする工程と、レジスト10をマスクとして用いてマスク材9をエッチングする工程と、レジスト10を除去する工程と、マスク材9を介して被エッチング材である導電箔11をエッチングする工程とを含む。 - 特許庁

To provide a curable composition excellent in storage stability and having favorable developability, and further, a curable composition excellent in dispersibility and dispersion stability of a pigment, having favorable developability and excellent in pattern forming property even when the composition contains a pigment, and to provide a color filter having a color region formed of the composition, a method for manufacturing the color filter, and a solid-state imaging device having the color filter.例文帳に追加

保存安定性に優れ、現像性が良好な硬化性組成物、さらに、顔料を含む場合であっても、顔料の分散性、分散安定性に優れ、且つ、現像性が良好でパターン形成性に優れた硬化性組成物、それにより形成された着色領域を有するカラーフィルタ、その製造方法、並びに該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a printing material coating method and a printing material coater which absorb a variation of the height of a place to be coated and coat a printing material even if the height is different depending on the place as a deformation, etc. generates on a body to be coated when the body to be coated is coated with the printing material of liquid state in a determined pattern.例文帳に追加

本発明は、液状の印刷材料を所定のパターンで被塗布体に塗布するにあたり、被塗布体に歪等が生じているため印刷材料を塗布する場所の高さが場所により異なる場合であっても、その高さのバラツキを吸収し印刷材料を塗布することのできる印刷材料塗布方法及び印刷材料塗布装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The method also comprises determining beforehand changes in oxygen generating potential of the positive electrode, determining and patternizing and storing in a memory a limiting current and a limiting electric quantity allowable with time on the basis of the determined oxygen generating potential, and setting the positive electrode potential to not more than the limiting current and the limiting electric quantity on the basis of the memorized pattern to charge.例文帳に追加

また、予め正極の酸素発生電位の変化を求め、得られた酸素発生電位を基に経時的に流しうる限界電流及び限界電気量を求めてパターン化してメモリーに記憶させ、記憶させたパターンに基づき前記限界電流及び限界電気量以下に正極電位を設定して充電することを特徴とする鉛蓄電池の化成方法である。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus which can start (activate) the reading performance of a picture pattern appropriately according to the contact condition of a detected substance, by applying a contact detecting device and offering the contact detecting device which can detect the contact condition, and to provide its detection method when the detected substance laid and contacted on a detected surface on a photo sensor array.例文帳に追加

フォトセンサアレイ上の検知面に被検出体が載置、接触された場合に、その接触状態を良好に検出することができる接触検知装置及びその検知方法を提供するとともに、該接触検知装置を適用して、被検出体の接触状態に応じて適切に画像パターンの読取動作を開始(起動)することができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes: at least a resist film forming step of forming a resist film by applying and heating the resist composition on a surface to be processed; an irradiation step of selectively irradiating the resist film with ionizing radiation; a heating step of hating the resist film irradiated with the ionizing radiation; and a development step of developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工面上に、本発明の前記レジスト組成物を塗布し加熱してレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対して、電離放射線を選択的に照射する電離放射線照射工程と、電離放射線が照射された該レジスト膜を加熱する加熱工程と、現像する現像工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

An adhesive cell 13 selectively adhesively cultivated on the surface of a cell adhesive film pattern 12 on a substrate 11 is exposed to a cultivation solution dissolving a chemical substance to be tested for cytotoxicity, the camp concentration change within the adhesive cell is then measured for every cell by use of nondestructive method, and the toxicity of the chemical substance to be tested for cytotoxicity is quantitatively determined on the basis of the result.例文帳に追加

基板11上の細胞接着性膜パターン12表面上に選択的に接着培養し接着性細胞13を、被毒性試験化学物質を溶解した培養液中に一定時間暴露した後、その接着性細胞内のcAMP濃度変化を細胞毎に非破壊的手法を用いて計測し、その結果に基づき、被毒性試験化学物質の毒性を定量する。 - 特許庁

This alkali-soluble conductive paste composition contains (A) an alkaline-soluble polymer binder, (B) a conductive metal powder, and (C) an organic acid, and this is suitably used for the method of construction in which a layer of the alkali-soluble conductive paste composition formed on the substrate is patternized via the pattern of the conductive paste which is insoluble in an alkaline aqueous solution provided on the upper layer.例文帳に追加

本発明のアルカリ可溶性導電性ペースト組成物は、(A)アルカリ可溶性高分子バインダー、(B)導電性金属粉、および(C)有機酸を含むことを特徴とし、基材上に形成したアルカリ可溶性導電性ペースト組成物の層が、その上層に設けたアルカリ水溶液に不溶な導電性ペーストのパターンを介してパターン化される工法に好適に用いられる。 - 特許庁

The method for manufacturing the flat panel display device includes an interlayer insulating film forming step of subjecting the regions formed with conductor layers to the pattern exposure with the exposure energy by which only the surface layer portions are cured in part of these regions and the whole in the thickness direction is cured in another part and a conductor layer forming step of forming the conductor layers by liquid material on the surfaces of the interlayer insulating films.例文帳に追加

平面表示装置の製造方法は、導電体層形成領域を、その一部では表層部分のみが硬化され、他の一部では厚み方向の全部が硬化される露光量でパターン露光する処理を含む層間絶縁膜形成工程と、層間絶縁膜の表面に液体材料により導電体層を形成する導電体層形成工程を含む。 - 特許庁

To prevent the occurrence of dispersion between developing pattern size near one end of a substrate and that near the other end due to a time difference in the feed of a developer in a developing method using a developing device for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer discharge nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

To provide an underlayer film forming material, the film functions as an underlayer film for a silicon-containing two-layer resist process or as a superior antireflection film, is adaptable to all wavelengths of 248 nm, 193 nm and 157 nm, has optimum n value and k value as compared with polyhydroxystyrene, cresol novolac, naphthol novolac, etc., and is excellent in etching resistance during substrate working, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

珪素含有2層レジストプロセス用下層膜として、優れた反射防止膜として機能し、248nm、193nm、157nmの全ての波長に対応し、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラック、ナフトールノボラックなどよりも最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性が優れた下層膜形成材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the layered capacitor, recessed sections produced by an electrical insulating section are flattened by etching a dielectric layer by performing a step of forming a dielectric, a step of treating the surface of the dielectric, a step of forming a pattern on a metallic electrode, a step of forming the metallic electrode, and a step of treating the surface of the metallic electrode in the same vacuum tank.例文帳に追加

同一真空槽内で、誘電体を形成する工程と、誘電体の表面を処理する工程と、金属電極にパターンを形成する工程と、金属電極を形成する工程と、金属電極表面を処理する工程を有し、誘電体層を蝕刻して電気絶縁部により生ずる凹部を平坦化することを特徴とする積層コンデンサの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank 20 storing a liquid resist agent 21 to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤21を収容した液槽20からノズル22を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The invention relates to: a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal component that can considerably shorten a cycle time of the whole laminating process while surely forming a resin layer in a desired form through resin application by applying optical resin in an optimal pattern for target resin layer formation in an extremely short time in forming a layer of the optical resin recently developed and announced.例文帳に追加

最近開発され発表された光学樹脂の層を形成するに際し、この光学樹脂を極めて短時間で目標とする樹脂層形成のための最適なパターンにて塗布できるようにし、その樹脂塗布を介して確実に望ましい形態の樹脂層を形成するとともに貼り合わせ工程全体のタクトタイムを大幅に短縮できる液晶部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress a formation of void inside a semiconductor device to be obtained and enhance its reliability even in the case where a misregistration occurs between a resist pattern for forming a damascene wiring layer and a wiring layer when, especially, the damascene wiring layer formed by using a damascene method is electrically connected to other wiring layers to form the semiconductor device having the wiring layer of a multilayer structure.例文帳に追加

特にダマシン法を用いて形成するダマシン配線層を他の配線層と電気的に接続して多層構造の配線層を有する半導体装置を形成するに際し、ダマシン配線層を形成するためのレジストパターンと前記配線層との位置ずれが生じた場合においても、得られる半導体装置内でのボイドの形成を抑制し、その信頼性を向上させる。 - 特許庁

例文

In the post processing method of the resist pattern, a coating film is formed on a substrate having a patterned resist film by using a coating forming agent containing a water-soluble resin, the coating film and the patterned resist film are heated, the coating film is brought into contact with water vapor to expand the coating film, and the coating film is removed.例文帳に追加

本発明に係るレジストパターンの後処理方法では、パターン形成されたレジスト膜を有する基板上に、水溶性樹脂を含有する被覆形成剤を用いて被膜を形成した後、上記被膜及びパターン形成された上記レジスト膜を加熱すると共に、上記被膜に水蒸気を接触させることにより被膜を膨張させ、次いで上記被膜を除去する。 - 特許庁




  
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