「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(457ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wiring board including an electronic component for electrically connecting the component in a face-down state where an active surface faces the lower side for a wiring pattern and for removing an influence of electromagnetic noise generated by the electronic component and that from the external side, and to also provide a method for removing the electromagnetic noise of the wiring board.例文帳に追加

配線パターンに対してアクティブ面が下向きとなるようにしてフェイスダウンの状態で電気的に接続されてなる電子部品を実装してなる電子部品実装配線板において、前記電子部品が発生する電磁ノイズ及び外部からの電磁ノイズの影響を除去してなる電子部品実装配線板、及びその電磁ノイズ除去方法を提供する。 - 特許庁

The etching method comprises the steps of: forming a resist 10 on the surface of a masking material 9 layered on an electroconductive foil 11 of a material to be etched; forming a pattern on the resist 10; etching the masking material 9 by using the resist 10 as a mask; removing the resist 10; and etching the electroconductive foil 11 of the material to be etched, through the masking material 9.例文帳に追加

本実施の形態のエッチング方法は、被エッチング材である導電箔１１に積層されたマスク材９の表面にレジスト１０を形成する工程と、レジスト１０をパターニングする工程と、レジスト１０をマスクとして用いてマスク材９をエッチングする工程と、レジスト１０を除去する工程と、マスク材９を介して被エッチング材である導電箔１１をエッチングする工程とを含む。 - 特許庁

To provide a curable composition excellent in storage stability and having favorable developability, and further, a curable composition excellent in dispersibility and dispersion stability of a pigment, having favorable developability and excellent in pattern forming property even when the composition contains a pigment, and to provide a color filter having a color region formed of the composition, a method for manufacturing the color filter, and a solid-state imaging device having the color filter.例文帳に追加

保存安定性に優れ、現像性が良好な硬化性組成物、さらに、顔料を含む場合であっても、顔料の分散性、分散安定性に優れ、且つ、現像性が良好でパターン形成性に優れた硬化性組成物、それにより形成された着色領域を有するカラーフィルタ、その製造方法、並びに該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a printing material coating method and a printing material coater which absorb a variation of the height of a place to be coated and coat a printing material even if the height is different depending on the place as a deformation, etc. generates on a body to be coated when the body to be coated is coated with the printing material of liquid state in a determined pattern.例文帳に追加

本発明は、液状の印刷材料を所定のパターンで被塗布体に塗布するにあたり、被塗布体に歪等が生じているため印刷材料を塗布する場所の高さが場所により異なる場合であっても、その高さのバラツキを吸収し印刷材料を塗布することのできる印刷材料塗布方法及び印刷材料塗布装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The method also comprises determining beforehand changes in oxygen generating potential of the positive electrode, determining and patternizing and storing in a memory a limiting current and a limiting electric quantity allowable with time on the basis of the determined oxygen generating potential, and setting the positive electrode potential to not more than the limiting current and the limiting electric quantity on the basis of the memorized pattern to charge.例文帳に追加

また、予め正極の酸素発生電位の変化を求め、得られた酸素発生電位を基に経時的に流しうる限界電流及び限界電気量を求めてパターン化してメモリーに記憶させ、記憶させたパターンに基づき前記限界電流及び限界電気量以下に正極電位を設定して充電することを特徴とする鉛蓄電池の化成方法である。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method has a mount step of mounting a plurality of electronic parts at predetermined spots of a substrate previously formed with a wiring pattern, a bulkhead formed step of forming a bulkhead on the substrate between the plurality of electronic parts, and a resin sealing step of injecting a resin on the substrate formed with the bulkhead and sealing.例文帳に追加

予め配線パターンの形成された基板の所定の位置に複数の電子部品を載置するマウントステップと、前記複数の電子部品の間の前記基板上に隔壁を形成する隔壁形成ステップと、前記隔壁が形成された前記基板上に樹脂を注入して封止を行う樹脂封止ステップとを有する半導体装置製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electronic circuit substrate which performs a jumper processing between electrodes in an electronic component mounting region of a board, while eliminating continuity failures among both types of electrodes, by interposing jumper lines between the electrodes of a substrate and the electrodes of an electronic component, and can avert the unexpected short circuiting of the circuit pattern of the board by the jumper processing.例文帳に追加

基板の電極と電子部品の電極との間にジャンパー線を介在させることによる両電極の導通不良を解消しつつ、基板の電子部品載置領域における電極間にジャンパー処理を施し、且つ、そのジャンパー処理による基板の配線パターンの予期しない短絡を回避することができる電子回路基板製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming bump electrodes required at the time of mounting a semiconductor chip on a circuit board by facedown mounting, in which the bump electrodes can be formed accurately on an electrode pattern formed on the circuit board without requiring a highly accurate mask or a process hard to implement even in the case of fine pitch.例文帳に追加

フェースダウン実装工法により、半導体チップを回路基板に実装するような場合に必要な突起電極の形成に際して、狭ピッチにおいても高精度のマスクや実現が困難なプロセスを必要とすることなく、突起電極を回路基板上の電極パターン上に精度よく形成することができる半導体実装用基板における突起電極形成方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of coating a photoresist covering a pattern-formable region for protecting the surface of the wafer, completely removing only the unwanted films, after the photoresist coating step, by the use of chemicals capable of removing the unwanted films causing the peel off, and peeling off the photoresist for protecting the surface of the wafer.例文帳に追加

ウェハー表面保護のために、パターン形成可能領域をフォトレジストで覆うフォトレジスト被覆工程と、フォトレジスト被覆工程に続いて、剥がれの原因となる不要膜を除去できる薬液を用いて、不要膜のみを完全に除去する不要膜除去工程と、その後、前記ウェハー表面保護用のフォトレジストを剥離するフォトレジスト剥離工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method for forming the microparticle pattern includes patternwise exposing a substrate 1 having a layer 5 formed on an uppermost surface thereof and containing a silane coupling agent having a thiol, amino, hydroxyl, carboxyl or sulfo group protected by a photodegradable protective group, and immersing the substrate in a colloidal solution in which metal atom-containing microparticles are dispersed to selectively deposit metal atom-containing microparticles 3 on an exposed portion 4.例文帳に追加

光分解性保護基で保護されたチオール基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基を有するシランカップリング剤を含有する層５が最上面に形成された基板１をパターン状に露光した後、該基板を金属原子含有微粒子が分散されたコロイド溶液に浸漬し、金属原子含有微粒子３を露光部４に選択的に付着させる微粒子パターン形成方法。 - 特許庁

This method is provided with a process for providing a plurality of resin sealed semiconductor devices by simultaneously sealing the plurality of semiconductor chips packaged on a matrix board 1B with resins and dividing the matrix board 1B a plurality of chips later, before the process for dividing the matrix board 1B into a plurality of chips, an address information pattern 8 is applied to each of resin sealed semiconductor devices.例文帳に追加

マトリクス基板１Ｂに搭載した複数の半導体チップを一括して樹脂封止した後、マトリクス基板１Ｂを複数の個片に分割することによって複数の樹脂封止型半導体装置を得る工程を含み、マトリクス基板１Ｂを複数の個片に分割する工程に先立って、樹脂封止型半導体装置のそれぞれにアドレス情報パターン８を付与する。 - 特許庁

This image processing method receives data obtained by reading a patch pattern generated by an image forming device, generates correction conditions for the image forming device based on the data, and generates the correction conditions based on the data so that output image data with respect to a specific gradation level of multi-gradation input image data satisfy preset conditions.例文帳に追加

画像形成装置で形成されたパッチパターンを読み取り得られたデータを入力し、前記データに基づき前記画像形成装置用の補正条件を生成する画像処理方法であって、多階調入力画像データの特定階調レベルに対する出力画像データが予め設定された条件を満たすように、前記データに基づき前記補正条件を生成することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method for the light regressive prismatic film, on the surface of which a large number of minute triangular pyramidal shapes are continuously arranged, laser light is shone to a manufacturing mold and the vertical angle of the triangular prism of the film reproduced by the mold so as to calculate the precise vertical angle through the measurement of a projected hexagonal pattern.例文帳に追加

微細な三角錐形状を連続的に多数フィルム表面に配列した光回帰性プリズムフィルムの製造方法において、製造のための金型と金型より複製されたフィルムの三角錐頂角にレーザー光を照射して、投影される六角形状パターンを計測することにより、正確な頂角を算出する事を特徴とした、プリズムフィルム製造方法。 - 特許庁

A mis-synchronization detection method of this invention employing the frame synchronization detection circuit that is characterized in provision of a frame pulse detection circuit that detects excess and missing of a detected frame pulse in a detected part of out of synchronism in the synchronization device where a frame synchronization pattern inserted in serial data from a transmission channel is detected to detect a frame.例文帳に追加

本発明による誤同期検出方法は、フレーム同期検出において、伝送路からのシリアルデータよりデータ中に挿入されているフレーム同期パターンを検出してフレーム検出をおこなうという同期検出における、同期はずれの検出部分に検出フレームパルスの余剰および欠落を検出するフレームパルス検出回路を設けたことを特徴としている。 - 特許庁

The screen plate having high solvent resistance, water resistance and wear resistance is provided by the method for manufacturing the plate comprising the steps of covering an overall surface of a screen mesh 10 made of stainless steel or amorphous metal with thermoplastic resin or reaction curable resin having no photosensitive properties, then irradiating the surface with an excimer laser to form a desired opening part for a pattern at the mesh surface.例文帳に追加

ステンレス製またはアモルフアス金属からなるスクリーンメッシュ１０全面を、感光性の無い熱可塑性樹脂または反応硬化性樹脂で被覆した後、この表面にエキシマーレーザを照射してスクリーンメッシュ面にパターン用の所望の開口部を形成することによつて、耐溶剤性、耐水性、耐磨耗性の高いスクリーン版とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for arraying particulates A is carried out by combining a particulate spreading step to spread on the surface of an oxide substrate 1 the particulate-dispersed liquid obtained by dispersing the particulates A in a medium by using a surfactant, a light irradiating step to irradiate the substrate 1 with light by using the prescribed pattern and a medium removing step to remove the medium.例文帳に追加

この発明の微粒子Ａの配列方法は、界面活性剤を用いて微粒子Ａを媒体に分散させた分散液を酸化物基板１表面に展開する微粒子展開工程、酸化物基板１に所定のパターンにより光を照射する光照射工程、前記媒体を除去する媒体除去工程の各工程を組み合わせることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel wherein a pattern of a transparent pixel electrode can be highly accurately formed in the liquid crystal display panel wherein a display state of a pixel is controlled by controlling electric potential difference between the pixel electrode and a counter electrode opposed to the pixel electrode via a liquid crystal, and to provide a manufacturing method of the liquid crystal display panel.例文帳に追加

本願課題は、画素電極と、画素電極に液晶を介して対向する対向電極との間の電位差を制御することによって、画素の表示状態を制御する液晶表示パネルであって、透明画素電極のパターンを高精度に形成することを可能にする液晶表示パネル、及びそのような液晶表示パネルの製造方法を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method of the polymer optical waveguide substrate comprising the processes of forming a polymer optical waveguide laminated body on a silicon substrate, removing the unnecessary part by performing the reactive ion etching via a resist pattern containing positive type silicon, and exfoliating the resist containing the silicon, is characterized in that an exfoliation liquid containing amino alcohol is used as an exfoliation liquid of the resist containing silicon.例文帳に追加

シリコン基板上に、ポリマー光導波路積層体を形成し、ポジ型シリコン含有レジストパターンを介して反応性イオンエッチングを行って不要部を除去し、次いでシリコン含有レジストを剥離する工程を含むポリマー光導波路基板の製造方法において、シリコン含有レジストの剥離液としてアミノアルコール含有剥離液を使用することを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide an electronic component mounted wiring board, in which an electronic component is embedded in an insulating member arranged among wiring patterns and the electronic component is electrically connected to at least a part of the wiring pattern, capable of removing the effect of electromagnetic noise generated by the electronic component and that from outside, along with an electromagnetic noise eliminating method.例文帳に追加

配線パターン間に配置された絶縁部材中に電子部品が埋設され、前記電子部品が前記配線パターンの少なくとも一部と電気的に接続されてなる電子部品実装配線板において、前記電子部品が発生する電磁ノイズ及び外部からの電磁ノイズの影響を除去してなる電子部品実装配線板、その電磁ノイズ除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal etched component which has achieved a high etching factor, can reproduce a metallic pattern so as to acquire a designed precision, and an etched cross-section having a high aspect ratio and high definition, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

金属層に開孔部を有する金属エッチング製品において、本発明の金属エッチング部品及びその製造方法では、従来の方法では不可能であった飛躍的な高エッチングファクターを達成し、かつ精度についても設計通りの金属パターンを再現できることを特徴とする高アスペクト比かつ高精細なエッチング断面形状の金属エッチング部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

To solve the problems, in a method where a mask is provided on a substrate, and a transparent conductive film is pattern-formed on the substrate by a sputtering process, that, since the energy of particles made incident on the substrate is the extremely high one of about 600 eV, the particles infiltrate into the substrate, and the atoms composing the substrate are beaten out or defects are occurred in the substrate.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、スパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成する透明導電膜形成方法において、基板に入射する粒子のエネルギーは６００ｅＶ程度と非常に高く、粒子が基板内に入り込んだり、基板を構成する原子が叩き出されたり、あるいは基板に欠陥を発生させるといった問題が発生する。 - 特許庁

This probe pin manufacturing method for manufacturing the probe pin for supplying a signal to an electronic device is provided with a mask layer formation process for forming a mask layer having a predetermined pattern on a substrate, a groove part formation process for forming a groove part on the substrate by etching the substrate, and an accumulation process for accumulating a metal material in the groove part by using the mask layer as a mask.例文帳に追加

電子デバイスに信号を供給するためのプローブピンを製造するプローブピン製造方法であって、基板に所定のパターンを有するマスク層を形成するマスク層形成工程と、マスク層をマスクとして、基板をエッチングし、前記基板に溝部を形成する溝部形成工程と、マスク層をマスクとして、溝部に金属材料を堆積する堆積工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

１組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension.例文帳に追加

フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。 - 特許庁

The user situation perception method is to analyze a signal obtained by at least one of a plurality of sensors arranged in the user device, to recognize at least one of unit behaviors which are sequentially generated by an object, to analyze a pattern of the recognized unit behavior and to perceive a present situation of the user is disclosed.例文帳に追加

ユーザの状況認知方法であって、ユーザ装置に備えられた複数のセンサのうち、少なくとも一つのセンサにより獲得される信号を分析して、客体（ｏｂｊｅｃｔ）により順次発生される少なくとも一つの単位行動を認識し、認識される単位行動のパターンを分析して、ユーザの現在状況を認知するユーザの状況認知方法が開示される。 - 特許庁

A repairing method for a discontinued wire of a wiring board is constituted to provide a step of forming resist 6 at a circuit pattern excepting the discontinued wiring part, a step of applying conductive paste 7 at the discontinued part on the resist 6 formed, a step of hardening the conductive paste 7 and a step of eliminating the resist 6 from the wiring board.例文帳に追加

配線基板の断線部分を修正する方法において、前記断線部分を含む回路パターン以外の部分にレジストを形成する工程と、前記レジストを形成した上から前記断線部分に導電ペーストを塗布する工程と、前記導電ペーストを固化させる工程と、前記配線基板から前記レジストを除去する工程と、を具えるように構成する。 - 特許庁

In the method, vibration-related information is determined by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, by mapping the intensity of the aerial image into an image map wherein the image map includes values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at the respective sampling locations, and by measuring the intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for a microstructure array includes the processes of: forming an insulating layer 3 on a conductive portion 2 of a substrate 1, forming an opening 4 having a periodic repetitive array pattern on the insulating layer 3, and forming an electrodeposition layer 7 on the opening 4 and the insulating layer 3 through the opening 4 by the electrodeposition of the conductive portion 2 as a negative or positive electrode.例文帳に追加

マイクロ構造体アレイの作製方法は、基板１の導電性部２上に絶縁層３を形成する工程、絶縁層３に周期的な繰り返し配列パターンを有する開口部４を形成する工程、導電性部２を陰極ないし陽極として電着により開口部４を通じて開口部４及び絶縁層３上に電着層７を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide recorded matter including a pattern (printed part) excellent in glossy feeling and scuff resistance, a method of production, capable of producing such recorded matter in a good efficiency, an ultraviolet light-curing type inkjet composition capable of suitably being used for producing such recorded matter, and also powder used for producing such ultraviolet light-curing type inkjet composition.例文帳に追加

光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）を備えた記録物を提供すること、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、当該記録物の製造に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる粉末を提供すること。 - 特許庁

This particulate-adsorbed pattern-formed material is formed by the method comprising a step to imagewisely form the region having polymerization initiating ability on the surface of the substrate , a step to produce a graft polymer having a nonionic polar group in the region by atom transfer radical polymerization and a step to make particulate adsorbed on the produced graft polymer.例文帳に追加

基板表面に重合開始能を有する領域を画像様に形成する工程と、該領域に原子移動ラジカル重合を用いて非イオン性極性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに微粒子を吸着させる工程と、を含むことを特徴とする微粒子吸着パターン形成方法、及びそれを用いて作製された微粒子吸着パターン材料。 - 特許庁

To provide an electrical inspection method of a film carrier tape for mounting determinable electronic components, without generating external appearance defects due to discharge breakage until a distance between projections extended between pieces of wiring is a comparatively long wiring pattern so that the insulation fault can be caused by folding a film carrier, and to provide an electrical device and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

例えばフィルムキャリアを折り曲げることにより絶縁不良が引き起こされる可能性があるような、配線間に延出する突起間の距離が比較的長い配線パターンまで、放電破壊による外観不良を生じることなく判別可能な電子部品実装用フィルムキャリアテープの電気検査方法および電気検査装置ならびにコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To realize a verification method of proximity effect correction in electron beam image drawing wherein verification by a real image drawing member is omitted and accurate verification can be performed, by fetching and verifying correction quantity of a proximity effect operating unit which is prepared for preventing proximity effect which exerts influence upon mutual patterns by pattern density at the time of real image drawing, in the course of real image drawing.例文帳に追加

実描画時のパターン密度により図形相互に影響を与える近接効果を防止するために準備される近接効果演算ユニットの補正量を実描画途中で取りだし、検証することにより、実描画材料による検証を省略して正確な検証を行うことができる電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法を実現する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor device, a substrate 20 carrying a wiring pattern 22 is mounted on a bonding stage 30, equipped with a heater 50 and a cooler 60 and the semiconductor chip 10 is mounted on the substrate 20 while the expansion or contraction of the substrate 20 is controlled by controlling the temperature of the stage 30 by means of the heater 50 and the cooler 60.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、加熱器５０及び冷却器６０を備えるボンディングステージ３０に配線パターン２２が形成された基板２０を載置し、前記加熱器５０及び前記冷却器６０によって前記ボンディングステージ３０の温度をコントロールすることで前記基板２０の膨張又は収縮をコントロールし、前記基板２０に半導体チップ１０を搭載する。 - 特許庁

The method has the process of forming a pattern with a slant part prepared therein to a photoresist 52 in the periphery of a silicon exposed part for forming the nozzle 31 by carrying out exposure and development to the photoresist 52 formed on a silicon substrate 51, and the process of forming the hole to be the nozzle 31 of a taper shape by carrying out anisotropic dry etching using the photoresist 52 as a mask.例文帳に追加

シリコン基板５１に形成したフォトレジスト５２に対して露光及び現像を行って、ノズル３１を形成するためのシリコン露出部分周辺におけるフォトレジスト５２に対して、傾斜部分を設けたパターンを形成する工程と、フォトレジスト５２をマスクとして異方性ドライエッチングを行って、テーパ形状のノズル３１となる穴を形成する工程とを有する。 - 特許庁

This method for manufacturing a metal container 1 printed with a foamable ink comprises the steps to print a release-proof ground ink or a varnish 2 on the surface of the metal container 1, print a pattern with an ink or a varnish 4 containing a foamable microcapsule 3 and print a top coat layer 5 on the in or the varnish 4 to expand the foamable microcapsule 3.例文帳に追加

金属容器１の表面に、剥離防止のための下地インキ又はニス２を印刷し、次に、発泡性マイクロカプセル３を含有するインキ又はニス４で模様を印刷し、次に、このインキ又はニス４の上に、トップコート層５を形成した後、発泡性マイクロカプセル３を発泡させることを特徴とする発泡性インキを印刷した金属容器の製造方法である。 - 特許庁

This method includes a stage where a model 1 is plated with a sheet 8 with a rugged pattern, a stage where an electrically conductive coating film is formed on the surface of the sheet 8 and an electrocasting shell forming stage where the model 1 stuck with the sheet 8 is directly dipped into an electrocasting soln., and electrocasting is executed onto the electrically conductive coating film to form an electrocasting shell 11.例文帳に追加

成形金型用電鋳殻の製造方法は、モデル１に凹凸模様付シート８を貼り付ける工程と、凹凸模様付シート８の表面に導電被膜を形成する工程と、凹凸模様付シート８が付いたモデル１を電鋳液に直接浸けて導電被膜上に電鋳を行うことにより電鋳殻１１を形成する電鋳殻形成工程とを含む。 - 特許庁

This method consists of three sequential processes: (a) process for creating a patternized polymer that has a functional group interacting with an electroless plating catalyst or its precursor, and forms a chemical union with the corresponding board directly; (b) process for absorbing or assigning the electroless plating catalyst or its precursor on the corresponding pattern; and (c) process for conducting electroless coating and forming patternized metal films.例文帳に追加

（ａ）基板上に、無電解メッキ触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有し該基板と直接化学結合するポリマーをパターン状に設ける工程と、（ｂ）該パターン上に無電解メッキ触媒またはその前駆体を吸着または付与させる工程と、（ｃ）無電解メッキを行い、パターン状に金属膜を形成する工程と、を順次有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor package 1 includes: forming the adhesive layer on the resin contact surface of the electrode pattern exposed on the divided end surface after the semiconductor chip 4 is mounted on the substrate 2, sealing the whole surface of the substrate mounting surface including the group of the semiconductor chips with resin, and dividing the substrate into individual semiconductor packages after the sealing resin 6 is cured.例文帳に追加

この半導体パッケージ１の製造方法は、半導体チップ４を基板２に実装した後に、分割端面に露出する電極パターンの樹脂接触面に接着層を形成し、次いでこれら半導体チップ群を含む基板実装面の全面を樹脂封止し、この封止樹脂６の硬化を待って、個別に分割して製造することを特徴とする。 - 特許庁

This testing method comprises a step to irradiate light on surface of the display panel and photograph the above display panel for obtaining the first image, a step to irradiate light on surface of the above display panel with pattern impressed on the display panel for obtaining the second image, and a step to compare the first image with the second image for determining whether the display panel is defective.例文帳に追加

ディスプレーパネルの表面に光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第１画像を得る段階と；前記ディスプレーパネルにパターンを印加した状態で前記ディスプレーパネルに光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第２画像を得る段階と；前記第１画像と前記第２画像を比較し、前記ディスプレーパネルが不良であるか否かを判断する段階とを含む。 - 特許庁

To solve the technical problem in microfabrication of a photomask and semiconductor element, especially providing a chemically amplified positive resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution (for instance, high resolution power), excellent exposure latitude (EL) and excellent line edge roughness (LER) simultaneously, and a resist film, a resist-coated mask blank and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.例文帳に追加

第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁