「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(457ページ目) - Weblio英語例文検索

This pattern defect correcting method includes an application step to apply a base part 31 to the defective part 32 of a rib 83 formed on a substrate, a step to reshape the applied base part 31, a step to bake the shaped base part 31, a step to further apply correcting paste on the baked base part 31, and a step to bake the applied correcting paste.例文帳に追加

パターン欠陥修正方法は、基板上に形成されたリブ８３の欠損部３２にベース部３１を塗布する塗布ステップと、塗布されたベース部３１を整形するステップと、整形されたベース部３１を焼成するステップと、焼成されたベース部３１の上に、さらに修正ペーストを塗布するステップと、さらに塗布された修正ペーストを焼成するステップとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.例文帳に追加

本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A semiconductor device comprises a polyorganosiloxane-cured relief pattern obtained by a method comprising a step of applying a certain polyorganosiloxane composition to obtain a coating film on a substrate; a step of irradiating the coating film with an active ray through a patterning mask to photo-cure an exposure part; a step of removing an uncured part of the coating film by using a developer; and a step of heating each of the substrates.例文帳に追加

基材上に、特定のポリオルガノシロキサン組成物を塗布して塗布膜を得る工程、 パターニングマスクを介して該塗布膜に活性光線を照射し露光部を光硬化させる工程、現像液を用いて該塗布膜の未硬化の部分を除去する工程該基材ごと加熱する工程からなる方法によって得られるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンを含む半導体装置。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition excellent in electrical properties and transparency, capable of efficiently forming a pattern of smooth shape, and excellent in heat-resistant shape retentivity, heat-resistant transparency and solvent resistance of a formed resin film, and to provide a laminate obtained by forming a resin film using the radiation sensitive composition on a substrate and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

電気特性や透明性に優れ、且つ効率よくなだらかな形状のパターン形成が可能で、しかも形成される樹脂膜の耐熱形状保持性、耐熱透明性及び耐溶剤性に優れた感放射線組成物、この感放射線組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for forming the texture pattern in the woven fabric uses adhesive fibers exhibiting an adhesive function by the application of heat as warps or wefts, manually or mechanically destroying the texture comprising warps and wefts and then thermally adhering and fixing the destroyed texture state by the adhesive function of the adhesive fibers.例文帳に追加

熱を加えることによって接着機能を発揮する接着糸を経糸若しくは緯糸に用いた構成とし、手動若しくは機械によって力を加えて経糸と緯糸との織目を崩し、熱を加えることで前記接着糸による接着機能によってこの崩した織目状態を接着固定することを特徴とする織物における織目柄形成方法。 - 特許庁

In the drawing method of a wiring pattern on the substrate by dropping a solution including an electric conductive component; an oxygen element is included in the substrate on the front surface, the substrate with a critical surface tension smaller than 25 dyn/cm in 25°C of the front surface is used, and the solution with the larger surface tension force than the above critical surface tension is used for the solution.例文帳に追加

導電成分を含む溶液を滴下することによって基板上に配線パターンを描画形成する方法において、基板に酸素元素を表面に含み、その表面の２５℃における臨界表面張力が２５ｄｙｎ／ｃｍより小さい基板を用い、溶液にその表面張力が上記臨界表面張力より大きい溶液を用いる。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank storing a liquid resist agent to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method for forming the pattern on a dyed fabric is characterized by including water in the dyed fabric, then bringing the dyed fabric into contact with the ozone gas in a contact bath in the absence of fluid water, then decoloring only the surface layer of the dyed fabric, subsequently shaving off the surface layer of the decolored fabric and thereby exposing deep-color parts in the interior of the fabric.例文帳に追加

染色布帛への模様柄形成方法であって、染色布帛に水分を含有させた後、流動水が存在しない接触槽内でオゾンガスと接触させて、前記染色布帛の表面層のみを脱色した後に、脱色された布帛の表面層を削り取ることによって布帛内部の濃色部分を露出させることを特徴とする模様柄形成方法である。 - 特許庁

In a second method characterized by a second injection molding pattern, the first filling process to a first cavity group and the second filling process to a second cavity group are performed and all of the gates are closed after the completion of the first filling process while all of the gates are opened before the completion of the second filling process to perform the dwelling process of all of the cavities.例文帳に追加

第２の射出成形パターンで特徴付けられる第２の方法は、第一のキャビティ群に対する第一回目の充填工程と第二のキャビティ群に対する第二回目の充填工程とを行うとともに、第一回目の充填工程の終了後に全ゲートを閉鎖し、第二回目の充填工程の終了前に全ゲートを開口させて全キャビティに対する保圧工程を行う。 - 特許庁

The system and method includes a step 205 for counting function defective elements in at least one instance of a geometric pattern defined by the memory segment, a step 209 for declaring a fault state within the memory segment when the number of the counted function defective elements is equal at least to a fault threshold, and a step 214 for re-mapping the memory segment in response to the declared fault state.例文帳に追加

メモリセグメントの定義された幾何学的パターンの少なくとも１つのインスタンスにおける機能不良素子をカウントするステップ２０５と、カウントされた機能不良素子の数が、故障閾値と少なくとも等しい場合、メモリセグメント内の故障状態を宣言するステップ２０９と、宣言された故障状態に応答して、メモリセグメントを再マッピングするステップ２１４と、を含む。 - 特許庁

The method comprises the steps of (1) sticking the sheet-like thermosetting resin composition on the pattern surface of a wafer having bumps, (2) pressurizing the wafer by compressing a gas in a pressure-proof vessel at a temperature not lower than the softening point of the thermosetting resin composition, (3) cutting the wafer into chips, and (4) mounting the chip on a wiring circuit board.例文帳に追加

（１）バンプを有するウエハのパターン面にシート状熱硬化性樹脂組成物を貼り合わせる工程、（２）耐圧容器内で、該熱硬化性樹脂組成物の軟化点以上の温度で、気体圧縮による加圧を該ウエハに行う工程、（３）該ウエハをチップに切断する工程、および（４）該チップを配線回路基板に搭載する工程を含む、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board is characterized in that a reinforcing plate is stuck on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after the metal layer of ≥5 μm in thickness is formed on at least one surface of the flexible film, and the flexible film is peeled off the reinforcing plate after a circuit pattern is formed on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ以上の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離することを特徴とする回路基板の製造方法。 - 特許庁

The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上０．００５〜１．０Ｊ／ｃｍ^２照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

In this case, this method is characterized by imaging the outermost-layer wiring pattern of the semiconductor packaging multilayer interconnection board by using the illumination 5 having a wave range below 450 nm which is a low wave range of a transmission spectral sensitivity characteristic and a reflection spectral sensitivity characteristic of an insulating base material comprising a polyimide film or a polyimide resin and an insulating layer, or by using a band-pass filter 4.例文帳に追加

ここで、ポリイミドフィルムもしくはポリイミド樹脂からなる絶縁基材及び絶縁層の透過分光感度特性及び反射分光感度特性の低波長域である４５０ｎｍ以下の波長域を有する照明５、もしくはバンドパスフィルタ４を用いて、半導体パッケージ用多層配線板の最外層の配線パターンを撮像することを特徴とする。 - 特許庁

The pattern forming method includes the steps of: forming a first film on a substrate to be treated; forming a second film consisting of a silicon film on the first film, which has an optical absorption factor to the EUV (Extreme Ultraviolet) light smaller than that of the first film; forming a resist film on the second film; selectively irradiating the EUV light to the resist film; and developing the resist film.例文帳に追加

被処理基板の上に第１の膜を形成する工程と、第１の膜の上に第１の膜よりもＥＵＶ（Extreme UltraViolet）光に対する光吸収係数が小さく、シリコン膜である第２の膜を形成する工程と、第２の膜の上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜にＥＵＶ光を選択的に照射する工程と、レジスト膜を現像する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter substrate in which a plurality of color filters are formed through patterning processes, such as pattern exposure and development by use of an exposure mask having a transflective region formed at an end of a transmissive region so as to reduce an overlapped step-like portion of the color filter formed on a black matrix 21a, and to provide the color filter substrate.例文帳に追加

ブラックマトリクス２１ａ上に形成される着色フィルタのオーバーラップ（重なり）段差を減少させるために、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound having excellent transparency in exposition at ≤300 nm wavelength, especially ≤160 nm wavelength, e.g. exposition by using F_2 laser as a light source, also excellent in etching resistance in dry etching and useful as a base resin of a resist material excellent in developing characteristics, a resist material, and a method for forming a pattern by using the same.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下、特に波長１６０ｎｍ以下での露光、例えばＦ_２レーザーを光源とする露光において、優れた透明性を有し、かつドライエッチングに対するエッチング耐性に優れ、かつ現像特性に優れたレジスト材料のベース樹脂として有用な新規高分子化合物並びにレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin letterpress for high-definition printing which ensures a uniform relief depth and avoids reduction in relief strength while maintaining edge sharpness of relief protrusions, or to provide a method for manufacturing an element panel for an organic El display by which a high-definition pattern of a luminescent layer of an organic EL element can be uniformly and stably formed using the resin letterpress plate.例文帳に追加

一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a film of a block copolymer, including at least two kinds of polymers, on a substrate; heating the block copolymer film; irradiating the heated block copolymer film with UV light; and supplying a developing solution to the UV light-irradiated block copolymer film.例文帳に追加

少なくとも２種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、加熱された前記ブロック共重合体の膜に紫外光を照射するステップと、紫外光の照射を経た前記ブロック共重合体の膜に現像液を供給するステップとを含むパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide an imprint mold structure which efficiently and uniformly transfers a pattern by enhancing flow of a composition of an imprint resist layer when the imprint mold structure is pressed against the imprint resist layer, an imprint method which is improved in transfer accuracy by using the imprint mold structure, and a magnetic recording medium which is improved in recording and reproduction properties.例文帳に追加

インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

The method comprises processes of: forming a clad layer 12 on a substrate 11; forming in the clad layer 12 a mask 13 corresponding to the core pattern of the optical waveguide and forming a groove 14 for imbedding the core therein; forming the core 15 in the groove 14 through selective epitaxial growth; and forming an upper clad 16 on the core 15 through the selective epitaxial growth.例文帳に追加

基板１１上に、クラッド層１２を形成する工程と、クラッド層１２に光導波路のコアのパターンに応じたマスク１３を形成し、コアを埋め込むための溝１４を形成する工程と、選択エピタキシャル成長により溝１４にコア１５を形成する工程と、選択エピタキシャル成長によりコア１５の上に上部クラッド１６を形成する工程とを備えた。 - 特許庁

To provide an electron device package that covers an electron device with a heat radiation layer in which a cavity is formed before pattern buildup, prevents the gap between adhesives from being generated by injecting the adhesive via one side of the cavity while providing negative pressure via the other side of the cavity, and can stabilize handling and can be miniaturized, and to provide a method of manufacturing the electron device package.例文帳に追加

パターンビルドアップの前に、キャビティが形成された放熱層で電子素子をカバーし、キャビティの一側を介して陰圧を提供しながら、キャビティの他側を介して接着剤を注入することにより、接着剤間の空隙の発生を防止し、ハンドリングの安定化及び小型化を具現することができる、電子素子パッケージ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the electrolyte film for the fuel cell is provided, wherein a mold having a recessed part of a prescribed flat pattern is pressed to the one face or the both faces of the polyelectrolyte film, then, the mold is separated from the polyelectrolyte film while extending a projection formed inside the recessed part to form the fine protrusion group.例文帳に追加

又、本発明は、高分子電解質膜の片面又は両面に、所定の平面パターンの凹部を有する成形型を押圧し、次いで前記凹部内に形成された前記高分子電解質膜の凸部を引き伸ばしながら前記成形型を前記高分子電解質膜から引き剥がし、微小突起群を形成することを特徴とする燃料電池用電解質膜の製造方法にある。 - 特許庁

The method for manufacturing the patterned polyimide precursur film comprises subjecting the photoresist film on a polyimide pattern to a heat treatment for 30 seconds to 30 minutes at a temperature ranging from 40 to 100°C within 30 minutes, before a process of peeling the photoresist film with a peeling liquid after patterning the polyimide precursur film formed on a semiconductor wafer, having a difference in level of ≥2 microns with the photoresist.例文帳に追加

２ミクロン以上の段差を有する半導体ウエハ上に形成されたポリイミド前駆体被膜をフォトレジストでパターン加工した後、ポリイミドパターン上のフォトレジスト被膜を剥離液で剥離する工程の前６０分以内に、４０〜１００℃の範囲の温度で３０秒〜３０分間の加熱処理を施すことを特徴とするパターン化されたポリイミド前駆体被膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a moving body having the same structure and local communication function and performing preset function with the assembly of a number of moving bodies, and a method allowing quick formation of a plurality of sub-patterns or complicated patterns by efficiently gathering a number of moving bodies scattered in a wide range at a pattern formation position to perform to perform given work.例文帳に追加

同じ構造を有し、局所通信機能を持ち、多数が集合して所定の機能を果たすような小型の移動体を提供し、この移動体により所定の作業を行わせるため、広範囲に分散した多数の移動体を効率よくパターン形成位置に集合させて、複数のサブパターンや複雑なパターンも高速に形成することを可能とする方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the image sensor includes steps of: forming an insulating film on a substrate of a logic circuit region and a pixel region; forming a photoresist pattern having a thickness which changes smaller from the logic circuit region toward the pixel region in boundary portions 330 of the pixel region 310 and the logic circuit region 320; and carrying out etch-back of the insulating film.例文帳に追加

イメージセンサの製造方法は、ロジック回路領域とピクセル領域との基板上に絶縁膜を形成するステップと、ピクセル領域３１０とロジック回路領域３２０との境界部分３３０において、前記ロジック回路領域から前記ピクセル領域へ進むにしたがって、小さな厚さを有するフォトレジストパターンを形成するステップと、前記絶縁膜をエッチバックするステップとを含む。 - 特許庁

The method for producing the plastic package 10 comprises a step for providing a second plating resist film 19 for forming the coating 14 of Ni plating and Au plating on a first plating resist film 18 and/or the metal wiring pattern 13 and then forming the coating 14 by electrolytic plating using the first plating resist film 18 and the second plating resist film 19.例文帳に追加

また、プラスチックパッケージ１０の製造方法において、第１のめっきレジスト膜１８及び／又は金属配線パターン１３上に、Ｎｉめっき及びＡｕめっきのめっき被膜１４形成用の第２のめっきレジスト膜１９を設け、第１のめっきレジスト膜１８及び第２のめっきレジスト膜１９を用いて、電解めっきによってめっき被膜１４を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a fiber printed matter printed on a cluster surface of a fiber single thread group formed by arranging independent plural fiber single threads having irregular cross section, same as printed on common fiber products, delicate in complex color tone design pattern and without displacement of each thread in the length direction each other, and to provide a method for producing the fiber printed matter.例文帳に追加

不規則な断面形状を有する独立した多数の繊維単糸の配列によって構成した繊維単糸群の集合面に対して、一般的な繊維製品に印刷するのと同様に、複雑な色調のデザインパターンを精巧に、且つそれぞれの繊維単糸がそれらの長さ方向に相互に位置ずれすることなく印刷された繊維印刷物とその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method for producing a liquid crystal display device which holds a liquid crystal composition 300 between an array substrate 100 and a counter substrate 200, a colored photoresist is disposed on the array substrate 100 and is exposed with illuminance of ≥200 mW/cm2 via a mask, the exposed colored photoresist is developed and a columnar spacer 180 of a prescribed pattern is formed.例文帳に追加

アレイ基板１００と対向基板２００との間に液晶組成物３００を挟持した液晶表示装置の製造方法において、アレイ基板１００上に着色されたフォトレジストを設け、マスクを介して着色フォトレジストを２００ｍＷ／ｃｍ^２以上の照度で露光し、露光された着色フォトレジストを現像することにより、所定のパターンの柱状スペーサ１８０を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, a resist film is formed on a substrate whose surface has steps and has a sticking or penetrated organic removing liquid using the chemically amplified photoresist composition to which a basic compound has been added by 1-100 mmol per 100 g base resin and a resist pattern is formed by exposing a prescribed region of the resist film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、表面に段差を有するとともに有機剥離液が付着若しくは染み込んだ基板上に、ベース樹脂１００ｇ当たり塩基性化合物を１〜１００ｍｍｏｌ添加した化学増幅型フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を成膜し、前記レジスト膜の所定の領域を露光することによってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.例文帳に追加

特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a contact detection apparatus and detection method thereof capable of excellently detecting a contact state when an object to be detected is placed on and brought into contact with a detection surface on a photo-sensor array, and to provide an image reader capable of starting (initiating) image pattern reading operation appropriately in accordance with the contact state of the object to be detected by applying the contact detection apparatus.例文帳に追加

フォトセンサアレイ上の検知面に被検出体が載置、接触された場合に、その接触状態を良好に検出することができる接触検知装置及びその検知方法を提供するとともに、該接触検知装置を適用して、被検出体の接触状態に応じて適切に画像パターンの読取動作を開始（起動）することができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁

This photoresist pattern forming method is carried out in such a manner that a photoresist film 12 formed of chemical sensitizing photoresist is applied on a semiconductor substrate 11, and a surfactant water solution which contains hydrophilic groups is applied on the photoresist film 12 to form a surfactant layer 18, at a stage precing PEB treatment, that is carried out for promoting an elimination reaction of a protective group in the photoresist film 12.例文帳に追加

開示されているフォトレジストパターンの形成方法は、化学増幅系フォトレジストからなるフォトレジスト膜１２を半導体基板１１上に塗布した後に、フォトレジスト膜１２内の保護基の離脱反応を促進するためのＰＥＢ処理より前の段階で、フォトレジスト膜１２上に親水基を含有する界面活性剤の水溶液を塗布して界面活性剤層１８を形成する。 - 特許庁

The pattern forming method is characterized in that a thin film of 20 to 150 nm in film thickness consisting of a radiation-sensitive resin composition which comprises (A) an alkali-insoluble or alkali-hardly soluble resin having specified repetitive units and (B) a radiation-sensitive acid producing agent which produces acids by irradiation with radiation is formed on a substrate and then irradiated with radiation to perform development.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位とを有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、並びに（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物からなる膜厚２０〜１５０ｎｍの薄膜を基板上に形成し、放射線を照射し、現像することを特徴とする、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing a metal container 1 printed with a foamable ink comprises the steps to print a release-proof ground ink or a varnish 2 on the surface of the metal container 1, print a pattern with an ink or a varnish 4 containing a foamable microcapsule 3 and print a top coat layer 5 on the in or the varnish 4 to expand the foamable microcapsule 3.例文帳に追加

金属容器１の表面に、剥離防止のための下地インキ又はニス２を印刷し、次に、発泡性マイクロカプセル３を含有するインキ又はニス４で模様を印刷し、次に、このインキ又はニス４の上に、トップコート層５を形成した後、発泡性マイクロカプセル３を発泡させることを特徴とする発泡性インキを印刷した金属容器の製造方法である。 - 特許庁

This method includes a stage where a model 1 is plated with a sheet 8 with a rugged pattern, a stage where an electrically conductive coating film is formed on the surface of the sheet 8 and an electrocasting shell forming stage where the model 1 stuck with the sheet 8 is directly dipped into an electrocasting soln., and electrocasting is executed onto the electrically conductive coating film to form an electrocasting shell 11.例文帳に追加

成形金型用電鋳殻の製造方法は、モデル１に凹凸模様付シート８を貼り付ける工程と、凹凸模様付シート８の表面に導電被膜を形成する工程と、凹凸模様付シート８が付いたモデル１を電鋳液に直接浸けて導電被膜上に電鋳を行うことにより電鋳殻１１を形成する電鋳殻形成工程とを含む。 - 特許庁

This method consists of three sequential processes: (a) process for creating a patternized polymer that has a functional group interacting with an electroless plating catalyst or its precursor, and forms a chemical union with the corresponding board directly; (b) process for absorbing or assigning the electroless plating catalyst or its precursor on the corresponding pattern; and (c) process for conducting electroless coating and forming patternized metal films.例文帳に追加

（ａ）基板上に、無電解メッキ触媒またはその前駆体と相互作用する官能基を有し該基板と直接化学結合するポリマーをパターン状に設ける工程と、（ｂ）該パターン上に無電解メッキ触媒またはその前駆体を吸着または付与させる工程と、（ｃ）無電解メッキを行い、パターン状に金属膜を形成する工程と、を順次有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a high resolution resist material containing acid generation agent of polymer type which is highly sensitive and high resolution to high energy rays particularly to ArF excimer laser, F_2 excimer laser, EUV, X-rays and EB etc., small in line edge roughness and not water soluble, and stable to heat and preservation; and to provide a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2エキシマレーザー、ＥＵＶ、Ｘ線、ＥＢ等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor package 1 includes: forming the adhesive layer on the resin contact surface of the electrode pattern exposed on the divided end surface after the semiconductor chip 4 is mounted on the substrate 2, sealing the whole surface of the substrate mounting surface including the group of the semiconductor chips with resin, and dividing the substrate into individual semiconductor packages after the sealing resin 6 is cured.例文帳に追加

この半導体パッケージ１の製造方法は、半導体チップ４を基板２に実装した後に、分割端面に露出する電極パターンの樹脂接触面に接着層を形成し、次いでこれら半導体チップ群を含む基板実装面の全面を樹脂封止し、この封止樹脂６の硬化を待って、個別に分割して製造することを特徴とする。 - 特許庁

This testing method comprises a step to irradiate light on surface of the display panel and photograph the above display panel for obtaining the first image, a step to irradiate light on surface of the above display panel with pattern impressed on the display panel for obtaining the second image, and a step to compare the first image with the second image for determining whether the display panel is defective.例文帳に追加

ディスプレーパネルの表面に光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第１画像を得る段階と；前記ディスプレーパネルにパターンを印加した状態で前記ディスプレーパネルに光を照射し、前記ディスプレーパネルを撮影して第２画像を得る段階と；前記第１画像と前記第２画像を比較し、前記ディスプレーパネルが不良であるか否かを判断する段階とを含む。 - 特許庁

To solve the technical problem in microfabrication of a photomask and semiconductor element, especially providing a chemically amplified positive resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution (for instance, high resolution power), excellent exposure latitude (EL) and excellent line edge roughness (LER) simultaneously, and a resist film, a resist-coated mask blank and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a maskless lithographic system having a space light modulator (SLM), the method of forming the gray scale comprises the processes of: forming a pattern by exposing the above-mentioned object with light; and forming the region of the gray scale level on the object, by modulating the exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

The other objective method for producing a flexible board is characterized by comprising the following consecutive steps: a plastic film is laminated with a conductive metallic thin film using the adhesive composition; a specified resist pattern is formed on the surface of the metallic thin film; non-line-drawn parts are etched; and the laminate is irradiated with active energy rays to cure the adhesive composition layer.例文帳に追加

第二の構成は、該接着剤組成物を用いて、導電性金属薄膜とプラスチックフイルムをラミネートする工程、金属薄膜面に所定のレジストパターンを形成する工程、非画線部をエッチングする工程及び活性エネルギー線を照射して接着剤組成物層を硬化させる工程をこの順に有することを特徴とするフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method for an ink-jet head for forming an electrode in a desired pattern by forming an insulated part by a laser process in a metallic film formed on a substrate surface comprising a head chip, the laser process is executed with a condition that a laser beam is directed at least twice to the same portion of a part to be processed.例文帳に追加

ヘッドチップを構成する基板表面に形成された金属膜にレーザー加工によって絶縁部を形成することにより所望パターンの電極形成を行うインクジェットヘッドの製造方法において、前記レーザー加工は、被加工部の同一個所に対して２回以上レーザー光が照射される場所が存在する条件で行うことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 特許庁