「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(452ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the electronic device 10 having a plating step for plating a metal on a resist pattern 13 provided on a substrate 11 to be plated has a coating step for previously applying a plating solution or a solvent for the plating solution on the substrate 11 to be plated under a reduced pressure atmosphere before the plating step.例文帳に追加

被めっき用基板１１上に設けられたレジストパターン１３に、金属をめっきするめっき工程を有する電子デバイス１０の製造方法において、前記めっき工程の前に、被めっき用基板１１を減圧雰囲気下で、めっき液又はめっき液の溶媒を予め塗布する塗布工程を有する電子デバイス１０の製造方法である。 - 特許庁

This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.例文帳に追加

本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体１の表面上にめっきレジスト２をパターン形成する工程と、無電解めっき膜５を形成する工程と、電解めっき膜６を形成する工程と、めっきレジスト２を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of forming an amorphous silicon layer 13 on a substrate such as a plastic substrate 11, a process of patterning the amorphous silicon layer 13 and forming a prescribed pattern to be a thin film transistor, and a process of crystallizing the patterned amorphous silicon layer 13 thereafter, and the semiconductor device provided with the thin film transistor is manufactured.例文帳に追加

プラスチック基板１１等の基板上にアモルファスシリコン層１３を形成する工程と、アモルファスシリコン層１３をパターニングして、薄膜トランジスタとなる所定のパターンを形成する工程と、その後、パターニングされたアモルファスシリコン層１３を結晶化する工程とを有して、薄膜トランジスタを有する半導体装置を製造する。 - 特許庁

To provide a reflective mask, capable of obtaining a reflection signal having sufficient contrast even for a reflective mask for EUV exposure, when detecting an alignment mark using a laser drawing device, thus forming a resist pattern for forming a light-shielding region with good position accuracy, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ露光用の反射型マスクにおいても、レーザ描画装置を用いてアライメントマークを検出する際に、十分なコントラストを有する反射信号を得ることができ、それゆえ、位置精度良く、遮光領域形成用レジストパターンを形成することができる反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.例文帳に追加

銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Ａｕボールをボンディングした後にＡｕワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第１のめっき及び第２のめっきを施したことにある。 - 特許庁

The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加

（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps 201 and 202 of forming a chemically amplified resist layer on a semiconductor substrate; a step 203 of patternwise exposing the chemically amplified resist layer; a step 204 of heating the chemically amplified resist layer after the exposure; a first developing step 205 in which alkali concentration is high; and a second developing step 206 in which alkali concentration is low.例文帳に追加

半導体基板上に化学増幅型レジスト層を形成する工程２０１、２０２と、化学増幅型レジスト層をパターン露光する工程２０３と、露光処理後に化学増幅型レジスト層を加熱する工程２０４と、アルカリ濃度の高い第一現像処理工程２０５、その後アルカリ濃度の低い第二の現像処理工程２０６を含む。 - 特許庁

In an original plate exposure method for forming a latent image by irradiating a resist layer formed on a substrate with an exposure beam while the substrate 15 is rotated, when a space pattern is formed, the exposure beam is blanked (31) or the exposure beam is deflected to a latent image to be recorded next (33).例文帳に追加

基板１５を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することのよって潜像を形成する原盤露光方法において、スペースパターンを形成する場合に、露光ビームをブランキングさせるか（３１）、もしくは、次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか（３３）、の何れかを選択的に実行する。 - 特許庁

The lithography method is characterized by applying the resist containing an aliphatic polyester selected from a group comprising polylactic acid, polybutylene succinate and polycaprolacton on a body to be treated, selectively exposing a part of the resist to ultraviolet rays so as to decompose and volatilize the resist on the part irradiated with the ultraviolet rays and making the resist pattern on the part not irradiated with the ultraviolet rays remain.例文帳に追加

被処理体上に、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートおよびポリカプロラクトンからなる群より選択される脂肪族ポリエステルを含有するレジストを塗布し、前記レジストの一部に選択的に紫外線を露光して紫外線照射部のレジストを分解して揮発させ、紫外線未照射部にレジストパターンを残存させることを特徴とするリソグラフィー方法。 - 特許庁

There is provided a manufacturing method of a display which has a sealant 3 at the recessed areas lower than the other areas on the transfer electrode sections 15 on the drive element substrate 9 having signal input terminals 12, and the sealant 3 is applied so as to have wider pattern in the transfer electrode sections 15 than in the other areas.例文帳に追加

信号入力用端子12が配置された駆動素子基板9に存在するトランスファ電極15部での他の領域よりも凹である領域にシール材3が接する表示装置の製造方法において、トランスファ電極部のシールパターンの幅について、トランスファ電極部15以外の部分におけるシールパターンの幅よりも太くなる様にシール材3を塗布する。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor wafer should include a process that puts an adhesive sheet onto the surface of a semiconductor wafer where a pattern is formed, a process that performs thinning onto the back surface of the semiconductor wafer where the adhesive sheet has been applied, and a process that dices the semiconductor wafer where the adhesive sheet has been applied.例文帳に追加

パターンが形成された半導体ウエハ表面に、粘着シートを貼付ける工程、前記粘着シートを貼付けた状態の半導体ウエハの裏面に薄型加工を施す工程、次いで前記粘着シートを貼付けた状態の半導体ウエハにダイシングを行う工程とを含むことを特徴とする半導体ウエハの製造方法。 - 特許庁

The print controller is arranged to assign the ink ejection quantity to subpixels such that invariance of colorimetric value variation pitch is sustained for increase in ink duty without fixing the variation pitch of ink ejection quantity by eliminating redundant ink ejection quantity when each pixel of image data is converted into an ink ejection quantity for a subpixel by a density pattern method.例文帳に追加

濃度パターン法によって画像データの各画素を上記サブ画素に対するインク吐出量に変換するに当たり、冗長なインク吐出量を排除してインク吐出量の変化ピッチを非一定としつつインクデューティの増加に対する色彩値変化ピッチの一定性を維持するようにサブ画素へのインク吐出量の割り当てを決定する。 - 特許庁

This method for discriminating the direction of defocusing of an exposure device for exposing a resist, includes an imaging step of imaging a resist pattern, formed by exposing by the exposure device to obtain image data, an extraction step of extracting feature data of the image data, and a discrimination step of discriminating the defocus direction, based on the feature data.例文帳に追加

レジストを露光する露光装置のデフォーカスの方向を判別する判別方法であって、前記露光装置による露光を介して形成されたレジストパターンを撮像して画像データを得る撮像ステップと、前記画像データの特徴データを抽出する抽出ステップと、前記特徴データに基づいて、前記デフォーカス方向を判別する判別ステップとを有する。 - 特許庁

Since the lead is not contained in a nickel film by a structure having an electrolytic nickel plating layer formed in a solder plating solution bath which does not contain a brightener on a conductor pattern formed on an insulating substrate, the printed wiring board which suited to environmental regulation systems, such as ELV instructions, RoHS instructions, etc., and a method of manufacturing it can be provided.例文帳に追加

絶縁基板上に形成された導体パターンの上に光沢剤を含有しないめっき液浴中で形成された電解ニッケルめっき層を備えた構造により、ニッケル皮膜中には鉛が含まれないため、ＥＬＶ指令、ＲｏＨＳ指令等の環境法規制に適合したプリント配線板とその製造方法を提供することができるものである。 - 特許庁

The correcting method for a photomask to correct a white defect in a photomask is characterized in that: a deposition film 11 is formed at a white defect portion C by a FIB-CVD (focused ion beam chemical vapor deposition) system; if the film protrudes a desired pattern, the protruding portion 2 is shaved off with a needle; and the needle is preferably a probe of a scanning probe microscope.例文帳に追加

フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、白欠陥部ＣにＦＩＢ−ＣＶＤ方式でデポジション膜１１を形成し、膜の形状が所望の形状よりはみ出た場合、はみ出た部分２を針で削りとり、好ましくは前記針は、走査プローブ顕微鏡の探針であることを特徴とする。 - 特許庁

To obtain an FRP molding in which a desired pattern etc., are formed on the surface, and the intermediate layer is molded by a conventional SMC (sheet molding compound) and to provide a method for producing an excellent FRP molding in which resins of the surface layer and the inner surface (intermediate) layer are prevented from mixing to be brought on the surface by altering the SMC composing both layers.例文帳に追加

表面に所望の模様等を付し、中間層を従来のＳＭＣによるＦＲＰ成形品を得ることを目的とするものであり、表面層と内面（中間）層とを構成するＳＭＣを変えることにより、両層の樹脂が混じり合って表面に出てきてしまうということもないという優れた特徴を有するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminated electronic component comprises steps of printing a conductive paste, which includes a conductive powder and a ceramic powder having a mean particle size of 0.1 μm or less on a dielectric green sheet 1 to form a plurality of rectangular conductor patterns 3 at a predetermined interval, pressurizing the patterns 3 to smoothen the patterns 3, and forming a ceramic pattern 5 between the patterns 3.例文帳に追加

誘電体グリーンシート１上に、平均粒径差が０．１μｍ以下の導電性粉末とセラミック粉末とを含有する導電性ペーストを印刷して矩形状の導体パターン３を所定間隔をおいて複数形成し、前記導体パターン３を加圧して平滑化するとともに、該導体パターン３間にセラミックパターン５を形成する。 - 特許庁

To provide a selective pattern forming method of an inorganic substance with which a polarization element in which an inorganic substance layer is formed on projected parts of the surface of a substrate so as not to be inclined toward the direction of the normal of the substrate and also the surface of the substrate is exposed in recessed parts of the surface, and which is bright and is excellent in polarization chracteristics can be manufactured easily.例文帳に追加

本発明の目的は、基板表面の凸部に該基板の法線方向に対して片寄ることのないように無機物層を形成し、且つ凹部においては基板表面が露出した、明るく、また偏光特性に優れた偏光素子を容易に製造することが可能な無機物の選択的パターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition rich in pigment with a small amount of a resin used, suitable for etching, excellent in spectroscopic characteristics, pattern form's rectangularity and adhesion to lower and upper layers, and capable of thin-film formation, to provide a color filter and an image recording material each using the composition, and to provide a method for producing the color filter.例文帳に追加

エッチングに好適であり、分光特性、パターン形状の矩形性、並びに、下層および上層との密着性に優れ、かつ、薄膜化が可能であり、更に、樹脂の総使用量が少なく高濃度な顔料含有熱硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ、画像記録材料およびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method for forming the diffraction optical element by transferring a mask pattern to a work, the vertical form of the diffraction optical element is formed by using a first mask and the slope part of the diffraction optical element is formed by using a second mask in the working region defined by the first mask.例文帳に追加

マスクパターンを被加工物に転写して回折光学素子を形成する回折光学素子の製造方法において、前記回折光学素子の垂直部分の形状を、第一のマスクを用いて形成すると共に、前記回折光学素子の斜面部分の形状を、前記第一のマスクで規定された加工領域内に第二のマスクを用いて形成する。 - 特許庁

This method also includes a step for etching the predetermined region of the inter-layer insulating films, and then for stopping the etching process at the etching stop films to form a damascene pattern.例文帳に追加

所定の構造が形成された半導体基板１０１の上部に誘電定数が低い物質を用いたエッチング停止膜１０２，１０４を形成し、層間絶縁膜１０３，１０５を形成する段階;及び上記層間絶縁膜の所定領域をエッチングし、上記エッチング停止膜でエッチング工程が停止するようにしてダマシンパターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated inductor having a cavity between conductor patterns includes steps of patterning a ceramic green sheet having at least a conductive material, an insulator material and a vanishing material so that one or more surfaces of a conductor pattern made of the conductive material are brought into contact with the insulator material, laminating, pressing and vanishing the ceramic green sheet.例文帳に追加

少なくとも、導電材料、絶縁体材料、消失材料を有するセラミックグリーンシートを、導電材料からなる導体パターンの１面以上が絶縁体材料と接するようにパターンニングして積層、プレス、消失処理することを特徴とする、導体パターン間に空洞部を有する積層型インダクタの製造方法。 - 特許庁

To provide a base for forming an optical disk on which a plurality of projections of photo resist are formed, in which a recording state of a signal pattern is confirmed by reproducing the base itself for forming the above optical disk before forming the optical disk, a manufacturing method therefor, and blanks of the base for forming the optical disk.例文帳に追加

基盤上に複数のフォトレジストの突起部が形成された光ディスク成型用基盤において、光ディスクの成型前に、上記光ディスク成型用基盤自体を再生して、信号パターンの記録状態の確認を行うことができる光ディスク成型用基盤、その製造方法、及び光ディスク成型用基盤のブランクスを提供する。 - 特許庁

A luminescence layer, an electron transportation layer 13 and a cathode are uniformly deposited by a vacuum deposition method, the developer used for the separating barrier ribs is removed by transfer after deposition, a layered product of the luminescence layer, an electron transportation layer 13 and a cathode is selectively removed together, and picture element formation is made after luminescence pattern formation and cathode separation.例文帳に追加

次いで、真空蒸着法により発光層、電子輸送層、陰極を一様蒸着し、その蒸着後、分離隔壁に用いた現像剤を転写により取り去ることにより、発光層、電子輸送層、陰極の積層体も一緒に選択的に除去して、発光パターン形成、陰極分離を行って、画素形成を行う。 - 特許庁

To provide inkjet ink for forming a transparent conductive tin oxide film suitable for inkjet process in which it is possible to form a pattern of a transparent conductive tin oxide film by a method that is less costly and timesaving without using expensive vacuum devices such as sputtering and requiring neither complicated process such as photolithography nor plates for screen printing.例文帳に追加

スパッタ等の高価な真空装置を用いることなく、さらにフォトリソグラフィー法のような煩雑な工程や、スクリーン印刷用の版を要せずに、より安価で手間のかからない方法で透明導電性酸化すず膜のパターンを形成できる、インクジェット法に適した、透明導電性酸化すず膜形成用インクジェットインクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for acquiring photomask information, for acquiring photomask information that facilitates evaluation of a photomask reflecting on factors by an optical system of an exposure machine and various factors such as spectral characteristics of a light source and developing characteristics of a resist and that facilitates determination of a pattern feature and appropriate determination of a raw material or thickness of a film to be formed in a semitransmitting portion.例文帳に追加

露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定、及び、半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスク情報を取得するフォトマスク情報の取得方法を提供する。 - 特許庁

Concerning the producing method for a multilayer printed wiring board constituted by laminating and molding through a prepreg outer layer metal foil and an inner layer circuit board having mutually separated circuit groups on the same face, a dummy printed circuit board with which a similar pattern is formed in the area with no circuit on the inner layer circuit board is placed at the stage internal position of a press, heated and pressed.例文帳に追加

外層金属箔と、互いに隔てられた回路群を同一面上に有する内層回路板とをプリプレグを介して積層成形することからなる多層プリント配線板の製造方法において、内層回路板の回路のない領域に相似するパターンを形成したダミープリント基板をプレスの段内位置に入れて加熱加圧する。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus whose film quality, pattern precision and electric connection of a thin film heater and heater wiring used for a microreactor, are secured well simply, to provide a manufacturing method therefor, and to provide a fuel cell system which uses the chemical reaction apparatus having such a simple and highly reliable construction as a fuel supply apparatus or the like .例文帳に追加

マイクロリアクタに用いる薄膜ヒータやヒータ配線等の膜質やパターン精度、電気的接続を良好かつ簡易に確保することができる化学反応装置及びその製造方法を提供し、以て、このような簡易かつ信頼性の高い構成を有する化学反応装置を、燃料供給装置等に適用した燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

To provide an RFID tag operable even under an environment of high temperature and high humidity and its manufacturing method which can be installed regardless of a conductive substance or non-conductive substance without reducing a communication distance by securing adhesion reliability between an antenna pattern and an IC chip by using lamination by a general-purpose laminator device.例文帳に追加

通信距離を短縮することなく導電性物体や非導電性物体に関わらずに設置可能であって、汎用のラミネータ装置によるラミネート加工を用いてアンテナパターンとＩＣチップとの接着信頼性を確保し、高温高湿の環境下においても、動作可能なＲＦＩＤタグとそのの製造方法とを提供すること。 - 特許庁

A method of decorating a resin eyeglasses frame is characterized in that polyurethane-based adhesive (13) is applied onto the surface of the resin eyeglasses frame polished and finished to have a prescribed form, then, after drying the adhesive, epoxy-based adhesive (14) is applied and dried, then, the pattern (16) is transferred and formed thereon by hot-pressing.例文帳に追加

所定の形状に整えられ、磨き上げられ最終の製品に仕上げられた樹脂製眼鏡フレーム（１１）の表面に、ポリウレタン系接着剤（１３）を塗布し、乾燥の後、エポキシ系接着剤（１４）を塗布後乾燥させ、その上に転写による模様（１６）をホットプレスにより形成した事を特徴とする樹脂製眼鏡フレームの加飾方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a structure in a cell by which a structure in a cell can be efficiently formed with high definition by forming a desired imaging pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.例文帳に追加

前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うセル内構造の製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、セル内構造を高精細に、かつ効率よく形成可能なセル内構造の製造方法を提供する。 - 特許庁

Alternately, the method comprises the following process: directly pouring pneumatic combined oily confectionery dough into a heated mold to make its interfacial part melt, forming a thin layer on the interfacial part with the inner surface of the mold followed by pressing the dough using a cooled pressing pattern to make a shell, and charging edible material as a center stuffing inside the shell.例文帳に追加

また、第二の発明は、含気油性菓子生地を加熱したモ−ルドに直接注入し、界面部分を融解させ、モールド内面との界面部分に薄層を形成させた後に、冷却した押し型でプレスすることでシェルを作り、該シェルの内側にセンターとして可食物を充填することを特徴とする含気複合油性菓子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a black color hardening composition achieving satisfactory close adhesiveness onto a substrate, high sensitivity, and forming a fine pattern, to provide a light shielding color filter achieving high light shielding performance in an infrared region and its manufacturing method by use of the black color hardening composition, and to provide a solid imaging element preventing the occurrence of noise and improving quality of picture image.例文帳に追加

基板密着性が良好で、感度が高く、微細なパターンを成形できる黒色硬化性組成物を提供し、それを用いて赤外領域の遮光性が高い遮光性カラーフィルタおよびその製造方法を提供し、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for imparting ID data to a biochemical analysis unit which surely imparts the desired ID data to the biochemical analysis unit for indicating a type of a specific binding material included in a solution and a type of a drop pattern and easily compares the ID data with a generated biochemical analysis data.例文帳に追加

生化学解析用ユニットに、どのような特異的結合物質を含む溶液が、どのようなパターンで、滴下されたかに関する所望のＩＤデータを、生化学解析用ユニットに確実に付与することができ、ＩＤデータと生成された生化学解析用データとを容易に照合することができる生化学解析用ユニットへのＩＤデータの付与方法を提供する。 - 特許庁

In platemaking plating method for enabling the lead frame or forming a semiconductor package to be subjected to metal plating required or wire bonding, there is a process for forming a resist film made of photoresist in the entire lead frame, and then exposing only the entire back to light, and then performing the pattern exposure of the front for development, metal plating, and resist peeling.例文帳に追加

半導体パッケージを形成するリードフレームにワイヤーボンディングのために必要な金属めっきを施す製版めっき方法において、リードフレーム全体にフォトレジストのレジスト膜を形成した後、まず先に裏面のみを全面露光し、次いで表面のパターン露光を行ってから、現像、金属めっき、レジスト剥離を行う工程を含むようにする。 - 特許庁

The method has the first process for extracting a single or plurality of feature points from the image of the search object, and the second process for searching for the feature pattern based on a positional relation between each feature point extracted in the first process and reference points predetermined for the preset feature patterns.例文帳に追加

このとき、探索対象の画像から、単数または複数の特徴点を抽出する第１の工程と、前記第１の工程で抽出した特徴点の各々と、前記所定の特徴パターンに対して予め決められた参照特徴点との位置関係に基づいて、前記特徴パターンを探索する第２の工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask, which can simply form a light shielding region and can achieve highly accurate pattern transfer, without increasing a manufacturing process such as resist coating, drawing, developing and etching, and without needing to prepare a special mask blank; an ion beam device for the reflective mask; and the reflective mask.例文帳に追加

本発明は、レジスト塗布、描画、現像、エッチング等の製造工程を増やすことなく、特殊なマスクブランクを準備する必要もなく、簡便に遮光領域を形成することが可能であり、高精度なパターン転写を実現することが可能な反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

In this method for forming the barrier of the plasma display panel, which includes a process to pattern a barrier material layer by a sand blasting process through a mask 13 for sand blast after forming the barrier material layer 12 on a base 11 and providing the mask 13 for sand blast on it, a material having conductivity is used for the mask 13 for sand blast.例文帳に追加

基板１１上に障壁材料層１２を形成し、その上にサンドブラスト用マスク１３を設けた後、そのサンドブラスト用マスク１３を介してのサンドブラスト加工により障壁材料層１２をパターニングする工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法において、サンドブラスト用マスク１３として導電性を有するものを用いる。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board has a blackening step of blackening the surface of a conductive layer provided on an insulating substrate; a photolithography step of laminating a dry film on the blackened surface, and exposing and developing the dry film; and an etching step of etching the conductive layer exposed by the photolithography step to form the circuit pattern.例文帳に追加

絶縁基板上に設けられた導電層の表面を黒化する黒化処理工程と、黒化された該表面にドライフィルムを積層し、該ドライフィルムを露光、現像するフォトリソグラフィ工程と、該フォトリソグラフィ工程により露出した導電層をエッチングして回路パターンを形成するエッチング工程とを有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern-containing rubber sheet wherein colored vulcanized rubber particles are embedded in a rubber sheet, improved so as to be capable of removing air ready to be buried together in a green rubber sheet accompanied by the colored vulcanized rubber particles when the colored vulcanized rubber particles are embedded in the green rubber sheet.例文帳に追加

ゴムシートに着色加硫ゴム粒子が埋め込まれた模様入りゴムシートの製造方法であって、生ゴムシートの中に着色加硫ゴム粒子が埋め込まれる際に着色加硫ゴム粒子に同伴されて一緒に埋没されんとする空気を除去することが出来る様に改良された模様入りゴムシートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tape carrier for a semiconductor device and its manufacturing method wherein no copper corrosive cracking on a conductor pattern occurs, nor thickness abnormality on a pure tin part in a tin plating layer occurs, while an insulating film such as a high temperature hardening solder resist can be adopted without increasing the number of processes and complicating a manufacturing process.例文帳に追加

導体パターンの銅食われや錫めっき層における純錫部の厚さ異常を生じる虞がなく、かつ工程数の増大や製造工程の煩雑化等を招くことなしに高温硬化型のソルダレジストのような絶縁性被膜を採用することができる半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This deterioration rate prediction method for the underwater structure installed in water has a step for determining a corresponding deterioration state of the underwater structure out of deterioration environmental patterns a, b, c classified into a plurality of numbers in response to differences in deterioration states, and a step for calculating the deterioration rate pursuant to a prediction expression corresponding to the corresponding deterioration environmental pattern.例文帳に追加

水中に設置された水中構造物の劣化速度予測方法であって、劣化状況をその違いに応じて複数に分類した劣化環境パターン(a)(b)(c)のいずれに、水中構造物の劣化状態が該当するかを判別するステップと、該当する劣化環境パターンに対応する予測式で劣化速度を算出するステップとを有している。 - 特許庁

To provide an organic EL display device in which a second electrode is deposited so that the whole surface of a film pattern using an inorganic material can be covered and as a result a film surface and end portion of the inorganic layer does not react with oxygen and moisture and a display failure does not occur since a dark spot is not created and durability can be improved; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

無機材料を用いた膜のパターン全面を被覆するように第２電極を成膜することにより、無機層の膜表面及び端部が酸素や水分に反応せず、ダークスポットが発生しないため表示不良がなく、耐久性を向上させることができる有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for correcting pattern defects includes the steps for: feeding raw material gas to a correcting portion of a correcting object mask in a reduced-pressure atmosphere, applying an energy beam thereto, and depositing a material including silicon by energy beam-induced chemical vapor deposition; and performing either of an oxidation treatment, a nitriding treatment, and an oxynitriding treatment for at least a part of the deposited material.例文帳に追加

減圧雰囲気中で被修正マスクの修正部位に原料ガスを供給するとともにエネルギビームを照射してエネルギビーム誘起化学蒸着によりシリコンを含有する材料を堆積させる工程と、前記堆積した材料の少なくとも一部に対して酸化処理、窒化処理、或いは、酸窒化処理のいずれかを行う工程とを設ける。 - 特許庁

To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.例文帳に追加

電極材料としてＰｔを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたＰｔ電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁