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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
To provide a distribution analysis method and system for evaluating whether or not analysis target data having such a characteristic as distributed along a plane are similar to a specific distribution shape pattern, which can always provide a good accurate evaluation even when the analysis target data are varied by various factors.例文帳に追加
平面に沿って分布した特性をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法および装置であって、様々な要因によって解析対象データが変動したとしても、常に精度良く評価を行えるものを提供すること。 - 特許庁
In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.例文帳に追加
露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第2高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁
The pattern transfer method for filling a concave-convex pattern on a template with a resist material includes steps of: contacting the template with the resist material applied on a substrate, curing the resist while contacting the template with the resist, electrically charging the template and the cured resist with an identical polarity, and removing the template from the resist material while eclectically charging the template and the resist with an identical polarity.例文帳に追加
テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン転写方法であって、前記テンプレートを基板上に塗布された前記レジスト材料に接触させる工程と、前記レジストに前記テンプレートを接触させた状態で前記レジストを硬化させる工程と、前記テンプレート及び硬化した前記レジスト材料を同じ極性に帯電させる工程と、前記テンプレート及び前記レジスト材料を同じ極性に帯電させた状態で、前記レジスト材料から前記テンプレートを離すことを特徴とするパターン転写方法。 - 特許庁
To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, metallic powder used for producing the ultraviolet curable inkjet composition, a method for efficiently producing the metallic powder, and a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.例文帳に追加
保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン(印刷部)の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる金属粉末を提供すること、前記金属粉末を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁
The method for manufacturing the mold structure includes a transfer step to press the projecting and recessing pattern side of a master disk against an imprint resist layer formed on one surface of a substrate to be worked and composed of an electron beam resist so as to transfer the projecting and recessing pattern to the imprint resist layer.例文帳に追加
原盤の凹凸パターン側を、被加工基板の一方の表面に形成された電子線レジストからなるインプリントレジスト層に押し付け、凹凸パターンをインプリントレジスト層に転写する転写工程を含み、凹凸パターンにおける1ビットの面積Sbitと、1ビットの4つの角部に前記電子線レジストが到達していない欠け部の面積Schipとの比率〔(Schip/Sbit)×100)〕が2%以上である場合には、原盤における1ビットの角部の形状を変化させるモールド構造体の製造方法である。 - 特許庁
A method for fabricating a cellular trench MOSFET includes depositing a first photoresist atop a first epitaxial (epi) layer to pattern a trench area, depositing a second photoresist atop a first gate conductor layer to pattern a mesa area, etching away part of the first gate conductor layer in the mesa area to form a second gate conductor layer with a hump, and titanizing crystally the second gate conductor layer to form a Ti-gate conductor layer.例文帳に追加
多孔質のMOSFETの製造方法は、トレンチ領域をパターニングするために第1のエピタキシャル(エピ)層の上に第1のフォトレジストを堆積する段階と、メサ領域をパターニングするために第1のゲート導体層の上に第2のフォトレジストを堆積する段階と、ハンプを有する第2のゲート導体層を形成するために前記メサ領域の前記第1のゲート導体層の部分をエッチング除去する段階と、Tiゲート導体層を形成するために前記第2のゲート導体層を結晶的にチタン化する段階と、を含む。 - 特許庁
The method of producing a patterned body includes an energy irradiation step for forming a wettability change pattern having a reduced contact angle with water on a resin substrate by arranging a photocatalyst containing layer containing a photocatalyst and a photocatalyst containing layer of a substrate on the photocatalyst containing layer side having a base, and a resin base material having water repellency to face each other and then radiating energy in a pattern.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の光触媒含有層と、撥水性を有する樹脂製基材とを対向させて配置し、パターン状にエネルギーを照射することにより、前記樹脂製基材上に水との接触角が低下した濡れ性変化パターンをパターン状に形成するエネルギー照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁
A method of establishing a reference bit in the bit pattern includes: identifying a series of bit sequences in the bit pattern including all bit sequences having the largest number of consecutive bits with a common logic state; and assigning a reference bit on the basis of one bit sequence in the series when the series includes only one bit sequence.例文帳に追加
上述した課題は、ビットパターンに基準ビットを設定するための方法であって、共通の論理状態を有する連続したビットの最大個数を有するすべてのビットシーケンスを含む一続きのビットシーケンスを前記ビットパターンにおいて識別すること、及び、前記一続きのビットシーケンスが、ビットシーケンスを2つ以上含まない場合、前記一続きのビットシーケンスにおける1つのビットシーケンスに基づいて基準ビットを割り当てること、を含むビットパターンに基準ビットを設定するための方法等により解決することができる。 - 特許庁
The producing method comprises at least steps of forming a primary electrode, forming a photocatalyst layer on the primary electrode, forming a organic photodecomposition layer on the photocatalyst layer, performing pattern exposure to the photodecomposition layer to form a pattern, applying organic EL compound layer forming solution on the exposed section and making it to harden, form at least one of organic EL compound layer, and forming a secondary electrode on the organic EL compound layer.例文帳に追加
第1電極を形成する工程と、前記第1電極上に光触媒層を形成する工程と、前記光触媒層上に光分解有機層を形成する工程と、前記光分解有機層にパターン露光を行い、パターン形成を行う工程と、前記露光部に、有機EL化合物層形成液を付着させて硬化させることにより、有機EL化合物層の少なくとも1層を形成する工程と、前記有機EL化合物層上に第2電極を形成する工程から少なくともなる有機EL素子の製造方法。 - 特許庁
The magnetic recording medium on which the magnetization pattern is formed by the magnetization pattern forming method and the magnetic recording device using it are also provided.例文帳に追加
基板上に少なくとも1層の磁性薄膜と保護層と潤滑層を順次有してなる磁気記録媒体に対し、媒体上にエネルギー線の濃淡を形成するマスク手段を通して該媒体にエネルギー線を照射し該磁性薄膜を局所的に加熱する工程と、該磁性薄膜に外部磁界を印加する工程とを含む磁化パターンの形成方法であって、少なくとも該媒体の磁化パターン形成領域では、該マスク手段と該媒体とのあいだに間隙を設ける磁気記録媒体の磁化パターン形成方法、及びそれにより磁化パターンを形成した磁気記録媒体並びにそれを用いた磁気記録装置。 - 特許庁
In the method for producing the foamed laminate having the uneven pattern on the surface of the thermoplastic elastomer sheet layer, the mold in which the uneven pattern is formed on the molding surface at least on the side contacting the elastomer sheet layer is used, and the foamed laminated sheet before thermoforming is heated so that the surface temperature of the polyolefin sheet layer is lower than that of the elastomer sheet layer.例文帳に追加
両最外層にポリオレフィン系発泡シート層および熱可塑性エラストマーシート層をそれぞれ有する発泡積層シートを真空成形して、熱可塑性エラストマーシート層の表面に凹凸模様を付した発泡積層体を製造する方法において、少なくとも熱可塑性エラストマーシート層が接する側の金型の成形面に凹凸模様を付した金型を使用し、かつ真空成形前の発泡積層シートの加熱において、ポリオレフィン系発泡シート層の表面温度が熱可塑性エラストマーシート層の表面温度よりも低くなるように加熱する。 - 特許庁
The prognostic determination method of the corpus uteri endometrioid adenocarcinoma comprises: measuring development patterns of a molecule, carbonyl reductase, which is bound to SCC antigen and is well known as a tumor marker of the epidermoid cancer, in a carcinoma tissue by an immune structure dyeing method using an antibody specifically bound to the carbonyl reductase; scoring the acquired development pattern; and, when the result is negative or weak positive, determining it as an adverse prognosis.例文帳に追加
癌組織において、扁平上皮癌の腫瘍マーカーとしてよく知られているSCC抗原に結合する分子カルボニルレダクターゼの発現パターンを、カルボニルレダクターゼと特異的に結合する抗体を用いた免疫組織染色法により測定し、得られた発現パターンをスコア化し、陰性であるか、弱陽性である場合を、予後不良と判定することを特徴とする子宮体部類内膜腺癌の予後判定方法を提供する。 - 特許庁
In a charged particle beam device capable of improving picture quality by using detection images obtained from the plurality of detectors and a picture quality improving method for the charged particle beam device, a method for generating one or more output images by using detection images corresponding to outputs of respective detectors which are arranged in mutually different places is controlled by information such as a pattern direction or an edge strength calculated from design data and the detection images.例文帳に追加
複数の検出器から得られた検出画像を用いて画質改善を図ることを可能とする荷電粒子線装置およびその画質改善方法において、配置場所の異なる各検出器の出力に対応する検出画像を用いて、1枚以上の出力画像を生成する方法を、設計データや検出画像から算出したパターン方向あるいはエッジ強度の情報等を用いて制御するものである。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition which exhibits excellent uniformity in film thickness and has high radiation sensitivity even if a slit coating method is adopted as a coating method, and has such a development margin that a favorable pattern shape can be formed even if an optimal developing time has elapsed passed in a developing step, and an interlayer insulating film having various excellent performance such as high heat and solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant.例文帳に追加
塗布方法としてスリット塗布法を採用した場合であっても、優れた膜厚均一性を示し、且つ高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成しうる現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率等の諸性能に優れる層間絶縁膜を提供すること。 - 特許庁
The method for manufacturing the plated substrate 100 is a manufacturing method for forming the metallic layer 33 with an electroless plating technique, and comprises the steps of: forming a resin-molded body 22 with a predetermined pattern on a substrate 10; forming a catalyst layer 31 on the resin-molded body; and immersing the substrate into an electroless plating solution to precipitate a metal on the catalyst layer to form the metallic layer 33.例文帳に追加
本発明にかかるめっき基板100の製造方法は、無電解めっき法により金属層33を形成するめっき基板の製造方法であって、基板10上に所定パターンの樹脂成形体22を形成する工程と、樹脂成形体の上に触媒層31を形成する工程と、無電解めっき液に基板を浸漬することにより、触媒層上に金属を析出させて金属層33を形成する工程と、を含む。 - 特許庁
To provide a resist underlayer film material for a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer film which has very excellent dry etching resistance, highly prevents twisting during substrate etching, and avoids a poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist, a method for forming the resist underlayer film, a patterning method, and a fullerene derivative.例文帳に追加
リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、ドライエッチング耐性に非常に優れ、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。 - 特許庁
In a method for manufacturing an unsaturated polyester resin- molded product molded by laminating plural sheet molding compounds in which an unsaturated polyester resin composition containing an unsaturated polyester resin, a polymerizable monomer, a low shrink material, a curing agent and a thickener is impregnated into a fiber base material, the method for manufacturing the unsaturated polyester resin-molded product is made to contain a pattern material of the sheet molding compound only corresponding to the surface.例文帳に追加
不飽和ポリエステル樹脂、重合性単量体、低収縮材、硬化剤及び増粘剤を含有する不飽和ポリエステル樹脂組成物を繊維基材に含浸させたシートモールデイングコンパウンドを複数枚積層して成形することにより不飽和ポリエステル樹脂成形品を製造する方法において、表面に対応するシートモールデイングコンパウンドにのみ模様材を含有させることを特徴とする不飽和ポリエステル樹脂成形品の製造方法。 - 特許庁
To provide a film inserted resin molded product having visibility, unnecassry to limit a film to a transparent film, to provide an adhesive layer, a heat-resistant layer or the like on a pattern at the time of production and to limit the position or size of the gate of a mold and capable of simplifying a manufacturing method to reduce a manufacturing cost, and its manufacturing method.例文帳に追加
視認性が良好で、フィルムを透明性のあるものに限定する必要がなく、絵柄に用いるインクを耐熱性や密着性の高いものに限定する必要がなく、また製造時に絵柄上に接着層や耐熱層などを設ける必要がなく、金型のゲートの位置や大きさを限定する必要がなく、製造方法が簡単で製造コストを低く抑えられる、フィルムインサート樹脂成形品とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a polymer useful as a resist material, or the like, especially the polymer as the resist material suitable for a fine processing using an ArF excimer laser or an electron beam, to provide a method for producing the same, to obtain a resist composition by using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加
レジスト材料等の構成成分樹脂として有用な有機溶剤への溶解性に優れた重合体、このような重合体の製造方法、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィー、中でも波長250nm以下の光、特にArFエキシマレーザー光、および電子線リソグラフィー等に対して高感度でドライエッチング耐性に優れる好適なレジスト組成物、ならびに、このレジスト組成物を用いた高精度で微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加
透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が40重量%以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および/または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加
活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for manufacturing a display medium for simply forming electrodes having shapes corresponding to desired characters or images, and to provide a method for manufacturing the display medium having electrodes having shapes corresponding to desired characters or images and electrically connected as one electrode pattern and capable of easily laying wires for supplying current to the electrodes, and to provide the display medium.例文帳に追加
所望の文字や画像に対応した形状の電極を簡便に形成可能な表示媒体の製造装置、所望の文字や画像に対応した形状であるとともに電気的に1つに接続された電極を有し、その電極へ通電するための配線が容易な表示媒体の製造方法および表示媒体を提供すること。 - 特許庁
The manufacturing method of an electric circuit comprises processes of: forming a region having conductivity on a substrate; charging the conductive region, and supplying a material charged oppositely to the conductive region using a pattern forming device for supplying a material to a desired position as liquid droplets.例文帳に追加
基材上に導電性を有する領域を形成する工程、前記導電性領域を帯電させる工程、及び材料を液滴として所望の位置に供給するパターン形成装置を用いて、前記導電性領域と逆帯電させた材料を該導電性領域上に供給する工程を有する電気回路の製造方法。 - 特許庁
The method comprises a first process of obtaining information regarding the specific regions C, E based on design information of the device pattern, and a second process of fixing an alignment condition when performing alignment based on information obtained.例文帳に追加
局所的に特定領域C,Eを歪ませながら、その上にデバイスパターンが形成される基板Pの、所定処理位置に対するアライメント方法であって、デバイスパターンの設計情報に基づいて、特定領域C,Eに関する情報を取得する第一工程と、取得された情報に基づいて、アライメントを行う際のアライメント条件を決定する第二工程と、を有する。 - 特許庁
The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加
更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁
In a manufacturing method of an electronic device, the electronic component 13 and the mounting substrate 11 are arranged in such a manner that one side of a surface 13a of the electronic component 13 is facing to one side of a surface 11a of the mounting substrate 11, and the electronic component 13 is electrically connected and mechanically joined to the conductor pattern 12 of the mounting substrate 11.例文帳に追加
電子装置の製造方法では、電子部品13の一方の面13aが実装基板11の一方の面11aに対向するように、電子部品13と実装基板11とを配置し、電子部品13の接続電極14を実装基板11の導体パターン12に電気的に接続し且つ機械的に接合する。 - 特許庁
To provide a flesh color image correction device of a human being, which achieves correction not only for hue but also for saturation in correction processing in a region of a human flesh color and generates no existence of saturation discontinuousness and no color shade after correction in addition to acquiring rich expression power by bringing about a variation in a saturation correction pattern, and to provide its method.例文帳に追加
人肌色の領域における補正処理において、色相だけでなく彩度の補正を実現し、彩度の補正パターンにバリエーションを持たせて豊かな表現力を得た上で、さらに補正後に彩度の不連続が無く色むらが生じない人肌の色画像補正装置及びその方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
In a method of deciding chip arrangement by which a chip assembly can be acquired as a non-defective assembly from an almost circular wafer, a plurality of paired grid points arranged at intervals shorter than diameter of a regional circle indicating size of an effective exposure area is extracted from a chip array in which chips are arranged in a grid-like pattern (S102 and S103).例文帳に追加
略円形のウエハから、良品として取得可能なチップの集合体を得るためのチップ配置を決定する方法において、チップを碁盤目状に配列したチップ配列より、有効露光領域の大きさを表す領域円の直径よりも間隔距離の小さい、複数の格子点対を抽出する(S102、S103)。 - 特許庁
To provide an image forming device, network system, form pasting method, storage medium and program which enable the addition of a document, image or pattern to a form without directly arranging the form as in the paste or using a form forming and editing program, and also the pasting of a partial form to a form of pasting designation.例文帳に追加
従来のように直接フォームに手を加えることなく、帳票作成編集プログラムを使用しないで新たに文書、画像、図形をフォームに付加することを可能とし、作成した部分フォームを貼り付け先のフォームに貼り付けることを可能とした画像生成装置、ネットワークシステム、フォーム貼り付け方法、記憶媒体、及びプログラムを提供する。 - 特許庁
In the method of producing a semiconductor base material, when an etching mask for forming protrusions and recesses on the surface of a semiconductor base material by photolithography processing of a resist film, a transfer mask 100 where the dimensions of a dot-shaped light-shielding portion 104, i.e. a pattern of protrusions and recesses near the region where the exposure shots overlap, are corrected previously.例文帳に追加
半導体基材を製造する方法において、半導体基材の表面に凹凸部を形成するためのエッチングマスクをレジスト膜のフォトリソグラフィ処理により形成する際、転写用マスク100として、あらかじめ露光ショットの重なる領域付近にある凹凸パターンであるドット状遮光部104の寸法を補正した転写用マスクを使用する。 - 特許庁
To provide a polishing agent for CMP capable of suppressing occurrence of dishing, thinning, and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound, or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and to provide a method for polishing a substrate by using the agent.例文帳に追加
銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるCMP用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of inkjet recording paper on which a wind-wrought pattern is not formed due to the disturbance of the surface caused by blowing drying air and which is excellent in ink absorbing property, ink drying property and gloss by using silica particles of a unform size without including coarse particles with a small secondary particle diameter.例文帳に追加
塗布乾燥時に乾燥エアーの吹き出しに表面が乱され風紋が発生することないインクジェット記録用紙の製造方法、二次粒子径が小さく且つ、粗大粒子を含まず粒度のそろったシリカを用いることにより、インク吸収性、インク乾燥性のみならず光沢性の改良されたインクジェット記録用紙の製造方法を提供すること。 - 特許庁
This method for producing a polyvinyl alcohol-based film having a concavo-convex pattern on one surface comprises making a film by casting a polyvinyl alcohol-based resin aqueous solution [I] including 1-10 pts.wt of a nonionic surfactant (B) having ≤12 HLB based on 100 pts.wt. of a polyvinyl alcohol-based resin (A).例文帳に追加
片面に凹凸模様を有するポリビニルアルコール系フィルムを製造するにあたり、ポリビニルアルコール系樹脂(A)100重量部に対して、HLBが12以下のノニオン系界面活性剤(B)を1〜10重量部含有してなるポリビニルアルコール系樹脂水溶液[I]を流延し製膜することを特徴とするポリビニルアルコール系フィルムの製造方法。 - 特許庁
In a method of forming a marker MX for double-gate SOI processing on an SOI wafer, at least one marker has a diffracting structure in a first direction, and the diffracting structure is positioned so as to generate an asymmetrical diffraction pattern during use in an alignment and overlay detection system for detection in the first direction.例文帳に追加
SOIウエハ上でのダブルゲートSOI処理のためのマーカーMXの作成方法においては、少なくとも1つのマーカーは第1方向への回折構造を有し、回折構造は、第1方向における検出のために、配列及びオーバレイ検出システムで用いている間に、非対称的回折パターンを生成するよう配置される。 - 特許庁
To provide a forming method for a virtual color sample and a virtual molding which can save the much time and trouble to form an abstract pattern molding by saving the trouble to form an actual trial piece by instantaneously displaying on a computer screen a virtual molding which is as close to the design that a user intends as possible.例文帳に追加
ユーザの意図するデザインにできるだけ近似した仮想成形品を瞬時にコンピュータ画面上に表示することによって、現実の試作品を作成する手間をできるだけ省き、抽象柄成形品を作成するまでの多大の時間と労力を大幅に削減することができる仮想色見本および仮想成形品の作成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition that satisfies the need for high sensitivity, high resolution, and excellent line edge roughness and is also excellent in dissolution contrast, and provide a pattern forming method using it.例文帳に追加
活性光線又は放射線、特にKrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a metal nanoparticle in a high yield through a simple heat-treatment of a metal alkanoate, which is environmentally friendly because it does not use any other solvent or additive and is economical because it does not require any expensive equipment, and to provide the metal nanoparticle having a uniform pattern and particle distribution and a conductive ink excellent in electrical conductivity.例文帳に追加
金属アルカノアートを簡単な熱処理によって高い収率を有し、別途の溶媒や添加剤を使用しないので親環境的であり、高価の装備を要しないので経済的である金属ナノ粒子の製造方法と、均一な模様及び粒子分布を有する金属ナノ粒子及び優れた電気伝導度を有する導電性インクを提供する。 - 特許庁
To provide a game machine which can improve players' interests with a suggestion to them of the possibility of the bonus determined as a lottery winning combination by a novel method employing the combination of figures corresponding to a prize winning combination or a replay combination to be displayed on a pattern display area in the ordinary game state.例文帳に追加
一般遊技状態において、図柄表示領域に表示される入賞役やリプレイ役に対応する図柄の組合せを用いた斬新な方法によって、ボーナスが当籤役に決定されている可能性を遊技者に示唆することにより、遊技者の興趣を向上させることができる遊技機を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the manufacturing method of the steel decorative panel constituted by laminating the steel sheet base material on the side of the polyolefinic resin layer of the decorative sheet, which is formed by laminating a polyolefinic resin layer, a pattern layer and a transparent polypropylene resin layer in this order, through the adhesive, the decorative sheet is heated to 120-220°C at the time of lamination.例文帳に追加
ポリオレフィン系樹脂層と絵柄模様層と透明ポリプロピレン樹脂層とを少なくともこの順に積層してなる化粧シートのポリオレフィン系樹脂層側に、接着剤を介して鋼鈑基材を貼り合わせてなる鋼鈑化粧板の製造方法において、貼り合わせの際に前記化粧シートを120〜220℃に加熱することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a shadow mask in which fluctuation in resist pattern dimensions after development treatment is suppressed by making uniform the sensitivity in width direction of a resist film formed on both sides of a metal substrate, in the resist coating process for forming the resist film by coating a photoresist on both sides of the long metal substrate and drying in a drying chamber.例文帳に追加
長尺の金属基材の両面にフォトレジストを塗布し、乾燥チャンバーで乾燥してレジスト膜を形成するレジスト塗布工程において、金属基材の両面に形成されたレジスト膜の幅方向の感度を均一化して現像処理後のレジストパターン寸法のバラツキを抑えたシャドウマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition excellent in adhesiveness to a copper substrate and excellent also in heat resistance and properties of a cured film; a method for producing a relief pattern using the same and having good adhesiveness to a substrate; and electronic components having an interlayer insulation film or a surface protection film and constituting a semiconductor device or a multilayer wiring board with high reliability.例文帳に追加
銅基板との接着性に優れ、耐熱性、硬化膜特性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた、基板との接着性良好なレリーフパターンの製造方法、層間絶縁膜又は表面保護膜を有する、信頼性の高い半導体装置や多層配線板となる電子部品を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an array substrate for a liquid crystal displaying apparatus that can form a low molecular organic semiconductor material with very weak moisture resistance, without using a shadow mask, by a micro pattern that is adjustable up to several μm, and then utilizes the low molecular organic semiconductor material without damaging a micro patterned low molecular organic semiconductor layer.例文帳に追加
本発明は、水分に非常に弱い特性を有する低分子有機半導体物質をシャドーマスクを利用しないで数μmまで調節可能な微細パターンで形成することができ、微細パターンされた低分子有機半導体層の損傷なしに低分子有機半導体物質を利用した液晶表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for patterning on the surface of a rock wool board which can be continuously produced with a novel surface appearance, capable of forming stripe-like grooves on a surface of the rock wool board and thereafter continuously forming a rugged pattern by a patterning roll having pins implanted to a stripe-like rugged part or a patterning roll having protruding parts.例文帳に追加
ロックウール基板の表面にストライプ状の凹溝を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部にピンを植設した模様付けロールや突起部を有する模様付けロールで連続的に凹凸模様を形成することができる新規表面外観を有する連続的に生産可能なロックウールボードの表面模様付け方法を提供することにある。 - 特許庁
This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加
基板5表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域13に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層2をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁
A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加
可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ5μm未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁
A pigment dispersion composition containing at least (A) a resin pendanted with a nitrogen-containing heterocycle and an ethylenic unsaturated double bond on the main skeleton, (B) a pigment and (C) a solvent, a curable composition using the pigment dispersion composition, the curable composition, a color filter having colored pattern formed with the curable composition, and a production method of the color filter, are provided.例文帳に追加
少なくとも(A)主鎖骨格に含窒素ヘテロ環及びエチレン性不飽和二重結合がペンダントされた樹脂と(B)顔料と(C)溶剤とを含有する顔料分散組成物並びにこれを用いた硬化性組成物、該硬化性組成物、該硬化性組成物により形成された着色パターンを有することを特徴とするカラーフィルタ、及びその製造方法。 - 特許庁
There is provided a music processing method including the steps of: determining code values according to a volume transition in every certain period starting from a coding start position on a time axis in music data; and generating a characteristic pattern indicating a characteristic of a volume transition of the music data using a series of the code values determined over a plurality of periods.例文帳に追加
楽曲データ内の時間軸上の所定の符号化開始位置から一定の区間ごとに、音量の変化に応じて符合値を決定するステップと、複数の区間にわたって決定された一連の前記符号値を用いて、前記楽曲データの音量変化の特徴を表す特徴パターンを生成するステップと、を含む楽曲処理方法を提供する。 - 特許庁
In a manufacturing method of a semiconductor device wherein a circuit board 4 is stuck on a function surface of a semiconductor element 3, bonding pads 2 of the semiconductor element and a circuit pattern 7a of the circuit board are connected through electrical conductor, a bridge is formed for connection through the electrical conductor by etching a conductor layer, crossing a window part which is formed on the circuit board 4.例文帳に追加
半導体素子3の機能面に回路基板4が貼着され、半導体素子のボンディングパッド2と回路基板の回路パターン7aが電気導体により接続された半導体装置の製造方法において、電気導体による接続のために回路基板に設けた窓部を横切って導体層のエッチングによりブリッジを形成する。 - 特許庁
To provide a tape sticking method to a semiconductor substrate and a device therefor capable of preventing tape sticking failure/redoing of work by uniformly pressing down a protective tape, capable of setting pressing-down pressure to a base board surface constant, capable of restraining balance adjusting labor and capable of preventing pressure concentration and influence on a pattern by sticking the tape under uniform pressing-down pressure.例文帳に追加
均一に保護テープを押さえられ、テープ貼り付け不良・作業のやり直しが防止でき、基板面への押しつけ圧を一定にでき、バランス調整の手間を抑制でき、均等な押さえ圧でのテープ貼り付けにより、圧力集中やパターンへの影響等を防止した半導体基板へのテープ貼り付け方法及び同装置を提供する。 - 特許庁
A sine-wave or sine-wave half-wave type resist pattern corresponding to grating grooves is formed on a substrate 10 by a holographic exposure method, and then the substrate 10 and resist 21 are etched until the resist reaches an approximately 1/3 height through a 1st etching stage of irradiating them with an ion beam obliquely at the same angle as a blaze angle while using CF_4 as etching gas.例文帳に追加
ホログラフィック露光法により基板10上に格子溝に対応した正弦波状又は正弦半波状のレジストパターン21を作製し、その後、CF_4をエッチングガスとしてブレーズ角と同じ角度で斜めからイオンビームを照射する第1エッチング工程によりレジストが約1/3の高さになるまで基板10とレジスト21とを削る。 - 特許庁
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