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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
To provide a reflection type electro-optical device capable of improving production efficiency by imparting a recessed and projected pattern for light scattering having a gentle surface shape to the surface of a light reflection film just by performing exposure and development to a photosensitive resin once, an electronic appliance provided with it, and a manufacturing method for the reflection type electro-optical device.例文帳に追加
感光性樹脂に対する露光、現像を1回、行うだけで光反射膜の表面になだらかな表面形状を備えた光散乱用の凹凸パターンを付与することにより、生産効率を向上することのできる反射型電気光学装置、それを備えた電子機器、および反射型電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
250nm以下、特にF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には157nmの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a reflective mask with a light blocking region capable of minimizing overexposure in the exposure field boundary on a wafer by enhancing the light blocking properties of the light blocking region on a reflective mask while eliminating the risk of damaging a transfer pattern, and to provide a reflective mask blank and a method of manufacturing a reflective mask.例文帳に追加
本発明は、転写パターンに損傷を及ぼす危険性を解消しつつ、反射型マスク上の遮光領域の遮光性を高めてウェハ上の露光フィールド境界部のオーバー露光を抑制できる遮光領域を有する反射型マスク、反射型マスクブランクス、および反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加
空間光変調器(SLM)を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁
To provide a manufacturing device, a manufacturing method and a manufacturing program for manufacturing a self-standing packaging bag by forming a cutoff line for opening the discharge opening of the bag in the pattern of cutting the side face of the bag for forming the opening as well as the side face of the bag round for facilitating discharge.例文帳に追加
自立型包装袋の注ぎ口を開封するときの切取り線を、自立型包装袋の側面部を切断するように構成することで、自立型包装袋の側面部の丸みと同様に注ぎ口も丸みが出来るので注ぎやすくなる自立型包装袋を製造する製造装置、製造方法、製造プログラムを提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing a glazed substrate in which a glazed layer 2 is formed on a ceramic base 1 and in addition, a resist film 3 with a specified pattern is formed thereon and after an etching treatment, the resist film 3 is removed, by spraying sodium bicarbonate particles with a particle diameter of at most 250 μm with at least a pressurized liquid from a nozzle 5.例文帳に追加
セラミック基板1上にグレーズ層2を形成し、さらにその上に所定パターンのレジスト膜3を形成して、エッチング処理後にレジスト膜3を除去するグレーズ基板の製造方法において、ノズル5から粒子径が250μm以下の炭酸水素ナトリウム粒子を少なくとも加圧液体と共に吹付けてレジスト膜3を除去する。 - 特許庁
To provide a method for reliably forming a metal electrode pattern at an electrode on a semiconductor substrate by applying an adhesive sheet for releasing and removing a metal film to the metal film that is provided on the surface of an insulating part and an electrode part being provided on a semiconductor substrate, and appropriately releasing and removing a metal film on the surface of an insulation part by pulling and peeling.例文帳に追加
半導体基板上に形成された絶縁部と電極部の表面に設けた金属膜に金属膜剥離除去用接着シートを貼り付け、引き剥がしにより絶縁部表面の金属膜を良好に剥離除去して半導体基板上の電極部に確実に金属電極パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁
In a method for manufacturing the electronic device, the electronic part 13 and the mounting board 11 are arranged so as to make one side 13a of the electronic part 13 confront one side 11a of the mounting board 11, and the connecting electrode 14 of the electronic part 13 is electrically connected and mechanically joined to the conductor pattern 12 of the mounting board 11.例文帳に追加
電子装置の製造方法では、電子部品13の一方の面13aが実装基板11の一方の面11aに対向するように、電子部品13と実装基板11とを配置し、電子部品13の接続電極14を実装基板11の導体パターン12に電気的に接続し且つ機械的に接合する。 - 特許庁
This system includes a discrimination part 118 which discriminates whether a cell connected to a critical path has the voltage drop violation, an improvement method decision part 116 which selects an optimum one of plural relocation patterns prepared for improving the voltage drop violation and a voltage drop improvement part 117 which executes the relocation according to the selected relocation pattern.例文帳に追加
クリティカルパスに接続するセルに電圧降下違反があるか否かを判別する判別部118と、電圧降下違反を改善するための複数の再配置パターンの中から最適なものを選択する改善手法決定部116と、選択された再配置パターンに基づき再配置を行う電圧降下改善部117を備える。 - 特許庁
(1) The method for forming a conductor interconnection circuit on a semiconductor wafer comprises a step for laying a metal foil for forming interconnection on the side for forming the electrodes of the semiconductor wafer having circuit elements formed on the surface, a step for forming an interconnection pattern on the metal foil, a step for etching the metal foil, and a step for removing resist and forming an interconnection.例文帳に追加
(1)表面に回路素子の形成された半導体ウェハ上の電極形成面側に配線形成用金属箔を積層する工程、該金属箔上に配線パターンを形成する工程、金属箔のエッチングを行う工程、および、レジストを除去して配線を形成する工程を含む、半導体ウェハ上の導体配線回路形成方法。 - 特許庁
To provide a coating method of a perforated thin plate with a viscous liquid capable of uniformly the whole surface including hole peripheral wall surfaces of hole parts of the perforated thin plate with the viscous liquid by surely preventing the generation of a stripped pattern due to the clogging of the hole parts of the perforated thin plate with the viscous liquid or the concentration of the viscous liquid.例文帳に追加
穴開き薄板の穴部の粘性液による目詰まりや粘性液の濃淡による縞模様が生じるのを確実に防止して、穴開き薄板の穴部の穴周壁面を含む表面全体に粘性液を所定厚みに均一に塗布することのできる穴開き薄板へ粘性液の塗布方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a resin sheet with an attached color filter which is thin, light in weight, with a high gas barrier function and with low variation of yellow chromaticity, a precise and efficient method for manufacturing the resin sheet with the attached color filter preventing deviation of a pattern in laminating the color filter and the liquid crystal display device using the resin sheet with the attached color filter.例文帳に追加
本発明は薄型、軽量で高いガスバリア機能を有し黄色度変化率が小さいカラーフィルター付き樹脂シート、カラーフィルターを積層する際にパターニングの位置ずれを防止し精度よく効率的なカラーフィルター付き樹脂シートの製造方法、および上記カラーフィルター付き樹脂シートを用いた液晶表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加
個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく,高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法,および残存する収差の調整が容易に可能であり,高い光学性能を達成可能な投影光学装置,ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same.例文帳に追加
銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加
ドライエッチング装置を用いて石英製の基板10をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板10に凹凸パターンを有したエッチングマスク20を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク20の側壁への保護膜30の形成と基板10のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁
Further, the synchronization code recovery circuit and method of this invention applies error correction to the next synchronization candidate recovered at a plurality of synchronization locations, generates the most proper location information of the succeeding synchronization pattern on the basis of the result of error correction and recovers the synchronization code at a location corresponding to the location information when no synchronization code is detected from the received bit stream.例文帳に追加
また本発明は、入力されるビットストリームから同期コードが検出されなければ、複数の同期位置で復旧される次の同期候補に対してエラー訂正を行った後、エラー訂正結果に基づいて最も適した次の同期パターンの位置情報を発生させ、この位置情報に対応する位置で同期コードを復旧する。 - 特許庁
To provide an interactive game device, a method for controlling the same and a recording medium in which its program is recorded, wherein a mental state of an answerer included in voices expressed by the answerer is analyzed and his true intention is disclosed by controlling a question pattern so as not to be constant and amusement obtained by a player is able to be increased.例文帳に追加
回答者の発する音声に含まれた回答者の心理状態を分析し、質問のパターンが一定にならないように制御することで回答者の本音を明らかにし、遊技者の得られる面白みを増すことができる対話型遊技装置、対話型遊技装置の制御方法、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁
The control method for the sensor system includes the step of determining whether to activate the specific function by the size of a first total pattern to be detected, wherein whether to activate the specific function is determined by the size of the first total image to be detected and the length of the time of detecting the first total image.例文帳に追加
上記課題を解決するために本発明では、検出する第一総画像のサイズにより特殊機能を起動するかないか判断する前記ステップと、検出する第一総画像のサイズと第一総画像を検出する時間の長さにより特殊機能を起動するかないか判断するセンサーシステム用制御方法を提供する。 - 特許庁
The plating or electroforming method of determining the energization start time in secondary plating when subjecting a primary plating film to secondary plating after a plating work is subjected to the replating or additional stages exclusive of the plating, such as resist pattern forming as the non-energization time for a specified period after the work is immersed in the plating liquid before the start of the plating.例文帳に追加
めっきワークに、再めっきもしくはレジストパターン形成などのめっき以外の追加工程を経た後、第一次めっき膜上に第二次めっきをする際に、第二次めっきにおける通電開始時間を、前記めっきワークをめっき液中に浸漬してからめっき開始時まで一定時間無通電とするめっきもしくは電鋳方法。 - 特許庁
To provide a method for forming a fine metallic pattern of a semiconductor element, based on a damascene technique which can ensure broad width of a metallic layer for improving the operational speed of the element and can easily control steps by etching only the metal layer without etching the metallic layer, anti-diffusion layer and bonding layer at the same time.例文帳に追加
金属膜の幅を広く確保可能として素子の動作速度を向上させることができ、従来のように金属膜,拡散防止膜及び接着膜を同時に蝕刻せずに、金属膜のみを蝕刻することにより工程を容易に制御可能である象嵌技法を利用した半導体素子の微細金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
This method comprises the steps of exposing only the parts within a metal layer 30, formed on the surface of a substrate 20 where a ball pad 62 and/or a bonding pad 63 are/is to be formed, forming a gold-plated layer 60 on the exposed metal layer 30, and selectively removing the metal layer 30 and forming the circuit pattern 32 on the substrate.例文帳に追加
基板20の表面に形成された金属層30中ボールパッド62及び/またはボンディングパッド63が形成される部分のみ露出される段階と、露出された金属層30に金メッキ層60が形成される段階と、金属層30が選択的に除去されて基板上に回路パターン32が形成される段階とが含まれる。 - 特許庁
A manufacturing method for the printed wiring board has at least a process wherein a photoresist layer is formed on a board or on a material of the board having a copper foil of 1 to 5 μm thickness on an outmost layer of insulating resin, a conductive circuit is formed by pattern copper plating after exposure and development, and the photoresist layer is peeled off by an oxidizer.例文帳に追加
最外層の絶縁樹脂上に1〜5μm厚の銅箔を有する基板もしくは基板材料上にフォトレジスト層を形成し、露光、現像後、パターン銅めっきにより導体回路を形成し、酸化剤によってフォトレジスト層を剥離する工程を少なくとも有することを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
In the reciprocity failure evaluating method for the photoreceptor, respective potentials of a photoreceptor to exposure energy after multi-beam simultaneous exposure of an exposure pattern and sequential exposure between multi-beam scanning exposure processes are measured and compared with each other and it is evaluated whether the photoreceptor as a body to be inspected has a reciprocity failure according to the comparison result.例文帳に追加
本発明の感光体の相反則不軌評価方法によれば、露光パターンにマルチビームの同時露光と、マルチビーム走査露光間の順次露光とにおける露光後の感光体の露光エネルギーに対する各電位を測定し、測定した各電位を比較して、比較した結果に応じて被検査体の感光体が相反則不軌を生じるか否かを評価する。 - 特許庁
A method for forming a pattern includes: bringing a composition containing a release agent and a urethane acrylate resin, which is obtained by reacting a tertiary amine, acrylate and isocyanate, into contact with a relief structure provided in a mold, curing the composition as in that state; and releasing the composition after cured from the mold.例文帳に追加
本発明のパターン形成方法は、第3級アミンとアクリレートとイソシアネートとを反応させることにより得られるウレタンアクリレート樹脂と離型剤とを含んだ組成物を、型に設けられたレリーフ構造に接触させ、この状態で前記組成物を硬化させることと、硬化後の前記組成物と前記型とを互いから剥離することとを含む。 - 特許庁
The method includes steps of providing a carrier having flakes dispersed therein onto the surface of an article, wherein all of the flakes have a beam-splitting grating pattern encoding the information thereon, aligning the flakes, in parallel with a sloped plane forming a slope angle with the surface of the article and solidifying the carrier.例文帳に追加
本方法は、その内部に分散された薄片を有し物品の表面の上にコートされる担体を用意するステップであって全ての薄片はその上に情報が符号化されているビーム分割格子パターンを有するステップと、薄片を物品の表面に対して傾斜した角度を成す傾斜面に平行に配列させるステップと、担体を固化させるステップと、を含む。 - 特許庁
To provide a laminate for a flexible printed wiring board which is excellent in adherence property and close contact property of a conductor forming a circuit with a polyimide film, is excellent in reliability without impairing characteristics such as dielectric characteristic, humidity resistance, and heat resistance or the like of a polyimide film, and enables fine pattern machining of the flexible printed wiring board, and its manufacturing method.例文帳に追加
回路を形成する導体とポリイミドフィルムとの接着性及び密着性に優れると共に、ポリイミドフィルムが備える誘電特性、耐湿性、耐熱性等の特性を損なうことなく信頼性に優れた積層体であって、フレキシブルプリント配線板のファインパターン加工が可能となるフレキシブルプリント配線板用積層体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus, control method thereof, program, recording medium with the program recorded thereon, and a process cartridge with which image formation is performed using a single color and a plurality of colors other than an uncorrectable color by performing correction on colors other than an undetectable color if an image position deviation correcting pattern can not be detected.例文帳に追加
画像位置ずれ補正用パターンを検出できない場合には、検出できない色以外に関して補正を行い、単色及び補正ができない色を使用しない複数色を使用して画像形成を行う画像形成装置、該装置の制御方法、プログラム、及び該プログラムを記録した記録媒体、プロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁
This image forming apparatus or method for forming an image by causing a color material to adhere onto a print medium includes a means for measuring the output density gradation characteristic of the image forming device, and a color material consumption calculating means for calculating the color material consumption based on the dot pattern and output density gradation characteristic of the halftone image.例文帳に追加
色材をプリント媒体上に付着させることで画像を形成する画像形成装置または方法において、画像形成装置の出力濃度階調特性を測定する手段と、ハーフトーン画像のドットパターンと出力濃度階調特性に基づいて、色材の消費量を算出する色材消費量算出手段と、を有する。 - 特許庁
The manufacturing method of the lower panel for the plasma display panel includes a process for preparing a base substrate, a process for forming a material layer for a barrier rib on the base substrate, a process for forming the barrier rib pattern by irradiating the X-ray on the material layer for the barrier rib, a process for developing and patterning the material layer for the barrier rib.例文帳に追加
基底基板を準備する工程と、基底基板上に隔壁用素材層を形成する工程と、隔壁用素材層上にX線を照射することによって隔壁パターンを形成する工程と、隔壁用素材層を現像してパターン化する工程と、を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用下部パネルの製造方法が提供される。 - 特許庁
A substrate provided with a wiring pattern 2 which has the land part 3 is prepared and after preliminary solder 4 is provided on at least the surface of the land 3 as a preliminary solder forming method, a resist layer 5 formed of thermosetting resin, etc., is applied onto the entire surface of the substrate as a resist layer forming process and dried and half-hardened.例文帳に追加
ランド部3を有する配線パターン2が設けられた基板1を用意し、まず予備半田形成方法として、少なくともランド部3の表面に予備半田4を設けた後、レジスト層形成工程として、基板1上の全面に熱硬化性樹脂等からなるレジスト層5を塗布し、このレジスト層5を乾燥して半硬化させる。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a hot-dip galvanized steel sheet by which zinc powder on the surface of a work roll is removed without occurrence of the trouble of bubble pattern even when polishers are used when temper rolling is performed by using a temper rolling liquid containing an ingredient which is easily foamed and a temper rolling apparatus of the hot-dip galvanized steel sheet.例文帳に追加
発泡しやすい成分を含む調質圧延液を用いて調質圧延する際に、上述のようなポリッシャーを使用しても、泡模様のトラブルを生じることなく、ワークロール表面の亜鉛粉を除去することができる溶融亜鉛系めっき鋼帯の製造方法、及び溶融亜鉛系めっき鋼帯の調質圧延装置を提供する。 - 特許庁
According to the method of the invention for recording information on a write once-read many optical recording medium, the pulse pattern of a laser beam for forming a first recording mark is set based on at least one of the length of a blank area disposed after the first recording mark and the length of a second recording mark formed after the first recording mark.例文帳に追加
本発明による追記型光記録媒体への情報記録方法は、第1の記録マークを形成するためのレーザビームのパルスパターンを、前記第1の記録マークの後に設けられるブランク領域の長さ及び前記第1の記録マークの次に形成される第2の記録マークの長さの少なくとも一方に基づいて設定する。 - 特許庁
This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、(ア)半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、(イ)前記レアメタル層上にTaO膜を形成する工程と、(ウ)前記TaO膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、(エ)前記パターニングされたTaO膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁
The apparatus and method for optically inspecting a printed circuit board make it possible to use light in an infrared band to reduce excessive detection of products that are judged to be defective due to a nonconducting foreign matter, and make it possible to simultaneously carry out an electrical circuit pattern inspection and an appearance inspection, thus enabling an improvement in speed of inspection.例文帳に追加
開示されたプリント回路基板の光学検査装置及びその方法によれば、赤外線帯域の光を利用して非伝導性異物によって不良品と判別される過検出を低減することができ、電気的な回路パターン検査及び外観検査を同時に処理することができるため、検査速度を向上させることができる。 - 特許庁
This manufacturing method includes two processes: a photolithographic process wherein the projecting parts 102 of a prescribed pattern are formed in a photosensitive resin layer 101 on a base 100 as shown in Fig.1 (A), and a laser engraving process wherein the angle α of inclination of the lateral side 104 of the projecting part 102 is corrected by laser engraving as shown in Fig.1 (B).例文帳に追加
本発明の製造方法は、図1(A)に示すように、基材100上の感光性樹脂層101に所定パターンの凸部102を形成するフォトリソ工程図と、図1(B)に示すように、凸部102の側面104の傾斜角度αを、レーザー彫刻によって修正するレーザー彫刻工程の2つの工程を含んでいる。 - 特許庁
This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加
投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも1つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁
This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加
表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部18を有する電子線放出素子10を用意する工程と、電圧を印加して錐体部18から電子線19を放出させて、電子線感応性のレジスト層22を暴露する工程と、レジスト層22の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁
In the coating method carried out by applying under coating on the surface of the floor material, providing a middle coating layer thereon and surface-finishing with the application of a top coating using a transparent coating material; the uneven pattern is provided on the middle coating layer and the surface-finishing coating is applied thereon by a similar way as the coating of a smooth surface.例文帳に追加
床材の表面に下塗り塗装を施し、その上に中塗り塗装層を設け、さらに透明塗料で上塗りして表面仕上げを行う塗装方法であって、上記中塗り塗装層に凹凸模様が設けられ、さらに、平滑な表面を形成するように表面仕上げ塗装を行う床材の化粧塗装方法および化粧床材A。 - 特許庁
In this gradation/shade forming method for forming a pattern with gradations in a shade 10 of a luminaire provided with a semi-transparent shade, a light transmitting member is interposed between the shade 10 and a light source in a manner as not to be parallel to the surface of the shade 10, so that shadows 5 of the light transmitting member are formed with gradations.例文帳に追加
半透明のシェードを備えた照明器具のシェード10にグラデーションのついた模様を形成するグラデーション形成方法であって、前記シェードと光源との間に、光透過性部材を前記シェードの面と非並行に配設することによって、前記光透過性部材の陰影5をグラデーション付きで形成することを特徴とする。 - 特許庁
To provide an optical disk of high quality satisfying a BD standard and a low price capable of maintaining high transferability of a signal recording pattern in duplication of the optical disk and reducing a material cost and the number of manufacturing steps since the use of an expensive polycarbonate film is not needed and a hard coat film forming step can be omitted; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
本発明は、光ディスクの複製において、信号記録パターンの高い転写性を維持でき、且つ、高価なポリカーボネイトフィルムを使用する必要がなく、ハードコート成膜工程が省けるので、材料費及び製造工程数が削減でき、BD規格をもクリアする高品質・低価格の光ディスクおよびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A sine-wave or sine-wave half-wave type resist pattern corresponding to grating grooves is formed on a substrate 10 by a holographic exposure method, and then the substrate 10 and resist 21 are etched until the resist reaches an approximately 1/3 height through a 1st etching stage of irradiating them with an ion beam obliquely at the same angle as a blaze angle while using CF_4 as etching gas.例文帳に追加
ホログラフィック露光法により基板10上に格子溝に対応した正弦波状又は正弦半波状のレジストパターン21を作製し、その後、CF_4をエッチングガスとしてブレーズ角と同じ角度で斜めからイオンビームを照射する第1エッチング工程によりレジストが約1/3の高さになるまで基板10とレジスト21とを削る。 - 特許庁
In a dyeing method of the dyeing object 10 for dyeing by hanging the dyeing object 10 using aluminum worked into a pellicle frame covering the whole surface of a circuit pattern formed on a transparent substrate as a base body on the jig 11 and dipping into a dyeing solution 36, the dyeing is performed while rocking the jig 17, on which the dyeing object 10 is hung.例文帳に追加
透明基板に形成された回路パターンの全面を覆うペリクル枠に加工されるアルミニウムを基体とする染色対象物10を治具17に掛けて染色液36に浸漬し染色処理を行う染色対象物の染色処理方法において、染色対象物10を掛けた治具17を揺動させて染色処理を行う。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can suppress remaining of an oxide layer on a surface layer of a conductive pattern, suppresses an increase in dielectric constant of a surface layer of an insulating film, and also suppresses a decrease in adhesiveness between the insulating film and a diffusion preventive film when SiOH, SiCOH, or an organic polymer is used for the insulating film.例文帳に追加
SiOH、SiCOH、又は有機ポリマーを絶縁膜として使用した場合に、導電パターンの表層に酸化層が残ることを抑制でき、絶縁膜の表層の比誘電率が上昇することを抑制でき、かつ絶縁膜と拡散防止膜の密着性が低下することを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device includes an element placing step of placing the semiconductor element 1 in the recess of a mold 10 having the recess, and a connecting step of electrically connecting the wiring pattern 5 connected to the semiconductor element 1 to the wiring terminal of a display unit 20 of an object to be connected with the state that the semiconductor element 1 is placed in the mold 10 as it is.例文帳に追加
半導体素子1を、凹部を有してなる型10のその凹部に載置する素子載置工程と、半導体素子1が型10に載置された状態のままで、その半導体素子1に接続されている配線パターン5と接続対象である表示体20の配線端子とを電気的に接合する接合工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
In this method for processing the seam between the composed images of the present invention, an image pattern 22 extended along the seam 3 is superposed to eliminate the strange feeling in the seam between an image 1 image-picked up using one camera 12 mounted on a vehicle 10 and an image 2 image-picked up using the other camera 13 mounted on the vehicle 10.例文帳に追加
本発明の合成画像間のつなぎ目部処理方法は、車両10に搭載されている一のカメラ12を用いて撮像された画像1と車両に搭載されている他のカメラ13を用いて撮像された画像2との間のつなぎ目部3の違和感を解消するためにつなぎ目部3に沿って延びる画像パターン22を重畳させる。 - 特許庁
The laser crystallization method includes steps of: providing a substrate on which a silicon thin film is formed; positioning the laser mask composed of four blocks having a periodicity pattern including a plurality of transmission regions and one cut-off region on the substrate; and crystallizing the silicon thin film by emitting laser beams via the laser mask.例文帳に追加
レーザー結晶化方法は、シリコン薄膜が形成された基板を提供する段階と、前記基板上に、複数の透過領域及び1つの遮断領域を含む周期性パターンを有する4つのブロックにより構成されるレーザーマスクを位置させる段階と、前記レーザーマスクを介してレーザービームを照射して、前記シリコン薄膜を結晶化する段階とを含む。 - 特許庁
By this method, AC voltage electrification based upon a specific electrification pattern is repeated in steps and the water tree generation type of the cable insulator is evaluated by using a distribution of residual electric charge quantities measured in the steps of the AC voltage electrification.例文帳に追加
CVケーブルに直流電圧を課電した後に接地し、その後に交流電圧を課電して残留電荷を測定する方法において、所定の課電パターンからなる交流電圧課電をステップ状に複数回行い、各ステップの交流電圧課電時に測定される残留電荷量の分布からケーブル絶縁体の水トリー発生態様を評価することを特徴とする。 - 特許庁
The resist pattern forming method includes the steps of: forming a buffer-containing film containing an acid and a salt thereof on a substrate to be processed; forming a photoresist film containing a photoacid generator on the buffer-containing film; exposing the photoresist film; and developing the photoresist film.例文帳に追加
被処理基板上に、酸とその酸の塩とを含む緩衝剤含有膜を形成する工程と、前記緩衝剤含有膜の上に、光酸発生剤を含むフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を露光する工程と、前記フォトレジスト膜を現像する工程と、を備えたことを特徴とするレジストパターン形成方法が提供される。 - 特許庁
This method also includes a step for etching the predetermined region of the inter-layer insulating films, and then for stopping the etching process at the etching stop films to form a damascene pattern.例文帳に追加
所定の構造が形成された半導体基板101の上部に誘電定数が低い物質を用いたエッチング停止膜102,104を形成し、層間絶縁膜103,105を形成する段階;及び上記層間絶縁膜の所定領域をエッチングし、上記エッチング停止膜でエッチング工程が停止するようにしてダマシンパターンを形成する段階を含む。 - 特許庁
The method of manufacturing the laminated inductor having a cavity between conductor patterns includes steps of patterning a ceramic green sheet having at least a conductive material, an insulator material and a vanishing material so that one or more surfaces of a conductor pattern made of the conductive material are brought into contact with the insulator material, laminating, pressing and vanishing the ceramic green sheet.例文帳に追加
少なくとも、導電材料、絶縁体材料、消失材料を有するセラミックグリーンシートを、導電材料からなる導体パターンの1面以上が絶縁体材料と接するようにパターンニングして積層、プレス、消失処理することを特徴とする、導体パターン間に空洞部を有する積層型インダクタの製造方法。 - 特許庁
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