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CDUとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 キリスト教民主同盟
「CDU」を含む例文一覧
該当件数 : 23件
Angela Merkel, the leader of the Christian Democratic Union (CDU), has been chosen as the country's first woman chancellor.発音を聞く 例文帳に追加
キリスト教民主同盟(CDU)のアンゲラ・メルケル党首が同国で初の女性首相に選ばれたのだ。 - 浜島書店 Catch a Wave
LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD THAT COMPENSATES FOR RETICLE INDUCED CDU例文帳に追加
リソグラフィ装置及びレチクル誘導ＣＤＵを補償するデバイス製造方法 - 特許庁
To provide a lithographic apparatus and a device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU.例文帳に追加
リソグラフィ装置及びレチクル誘導ＣＤＵを補償するデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁
An LDU 23 accesses a CDU 22 and PDUs 21a-21h one after another to collect game information on the game machines and peripheral devices connected to the CDU 22 and the PDUs 21a-21h respectively.例文帳に追加
ＬＤＵ２３はＣＤＵ２２および各ＰＤＵ２１ａ〜ｈに対して輪番にアクセスし、ＣＤＵ２２および各ＰＤＵ２１ａ〜ｈに接続された各遊技機および周辺機器の遊技情報を収集する。 - 特許庁
To improve operability of a CDU by enabling easy restoration of data contents in an MC(a memory card) even if mistakenly writing data into the MC.例文帳に追加
ＭＣ（メモリカード）に誤ってデータを書き込んでも、ＭＣデータ内容を容易に復元できるようにし、ＣＤＵの操作性を向上させる。 - 特許庁
To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD (critical dimension) uniformity (CDU) can be produced.例文帳に追加
優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a pattern forming method capable of attaining both CDU (Critical Dimension Uniformity) performance and defect performance at high levels.例文帳に追加
ＣＤＵ（Critical Dimension Uniformity）性能と欠陥性能とを高い水準で両立させることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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「CDU」を含む例文一覧
該当件数 : 23件
In this integrated control display, data transmission/reception between the CDU 1 and the MC 4 integrates a radio 2 and a navigation device 3 to execute display and control.例文帳に追加
ＣＤＵ１とＭＣ４間のデータ送受信によって、無線機２や航法装置３を統合して表示及び制御する。 - 特許庁
To provide a resist composition for producing a resist pattern that has excellent CD uniformity (CDU) and few incidence numbers of defects.例文帳に追加
優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥の発生数が少ないレジストパターン製造用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition for acquiring a pattern having a high focus margin (DOF), CD uniformity (CDU), and a mask error factor (MEF), and a forming method of a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加
優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a resist composition which shows high resolution, good configuration, a depth of focus (DOF), a good mask error factor (MEF) and good CD uniformity (CDU).例文帳に追加
高い解像度；良好な形状、フォーカスマージン（ＤＯＦ）、マスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びＣＤ均一性（ＣＤＵ）を示すレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
Variations (CDU) in the error (CD) in an applied pattern are measured for different frequencies and amplitudes of the injected error over a frequency band of interest for a given axis.例文帳に追加
関心周波数帯域に亘って所与の軸について注入された誤差、の異なる周波数および振幅について、付与されたパターンにおける誤差（ＣＤ）の変動（ＣＤＵ）が測定される。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.例文帳に追加
種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
In an MC reading process, the data stored in the MC 4 are loaded to a memory of the CDU 1, and is copied to a backup table when the reading number of the MC 4 is one.例文帳に追加
ＭＣ読み込み処理で、ＭＣ４に記憶されているデータをＣＤＵ１のメモリにロードし、ＭＣ４の読み込み回数が１回目であれば、ＭＣ４に記憶されているデータをバックアップ用テーブルにコピーする。 - 特許庁
To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.例文帳に追加
微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
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