「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(451ページ目) - Weblio英語例文検索

Concerning the producing method for a multilayer printed wiring board constituted by laminating and molding through a prepreg outer layer metal foil and an inner layer circuit board having mutually separated circuit groups on the same face, a dummy printed circuit board with which a similar pattern is formed in the area with no circuit on the inner layer circuit board is placed at the stage internal position of a press, heated and pressed.例文帳に追加

外層金属箔と、互いに隔てられた回路群を同一面上に有する内層回路板とをプリプレグを介して積層成形することからなる多層プリント配線板の製造方法において、内層回路板の回路のない領域に相似するパターンを形成したダミープリント基板をプレスの段内位置に入れて加熱加圧する。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus whose film quality, pattern precision and electric connection of a thin film heater and heater wiring used for a microreactor, are secured well simply, to provide a manufacturing method therefor, and to provide a fuel cell system which uses the chemical reaction apparatus having such a simple and highly reliable construction as a fuel supply apparatus or the like .例文帳に追加

マイクロリアクタに用いる薄膜ヒータやヒータ配線等の膜質やパターン精度、電気的接続を良好かつ簡易に確保することができる化学反応装置及びその製造方法を提供し、以て、このような簡易かつ信頼性の高い構成を有する化学反応装置を、燃料供給装置等に適用した燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

To provide an RFID tag operable even under an environment of high temperature and high humidity and its manufacturing method which can be installed regardless of a conductive substance or non-conductive substance without reducing a communication distance by securing adhesion reliability between an antenna pattern and an IC chip by using lamination by a general-purpose laminator device.例文帳に追加

通信距離を短縮することなく導電性物体や非導電性物体に関わらずに設置可能であって、汎用のラミネータ装置によるラミネート加工を用いてアンテナパターンとＩＣチップとの接着信頼性を確保し、高温高湿の環境下においても、動作可能なＲＦＩＤタグとそのの製造方法とを提供すること。 - 特許庁

A method of decorating a resin eyeglasses frame is characterized in that polyurethane-based adhesive (13) is applied onto the surface of the resin eyeglasses frame polished and finished to have a prescribed form, then, after drying the adhesive, epoxy-based adhesive (14) is applied and dried, then, the pattern (16) is transferred and formed thereon by hot-pressing.例文帳に追加

所定の形状に整えられ、磨き上げられ最終の製品に仕上げられた樹脂製眼鏡フレーム（１１）の表面に、ポリウレタン系接着剤（１３）を塗布し、乾燥の後、エポキシ系接着剤（１４）を塗布後乾燥させ、その上に転写による模様（１６）をホットプレスにより形成した事を特徴とする樹脂製眼鏡フレームの加飾方法の提供。 - 特許庁

To provide a floor member capable of imparting high design property equivalent to a conventional wooden floor member composed of a natural lumber solid member and supplying products having stable design quality such as color and pattern inexpensively in a large quantity and having sufficient physical properties such as surface strength and durability as the floor member and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

従来の天然木無垢材からなる木質床材等に匹敵する高意匠性の付与が可能であり、色調や絵柄等の意匠品質の安定した製品を安価に大量供給可能であり、しかも床材として十分な表面強度や耐久性等の物性をも備えた床材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer laminate for producing a letterpress plate capable of reducing the effect of oxygen in the air on a photosensitive resin layer in exposure and capable of obtaining a good pattern after development, with respect to a multilayer laminate for producing a letterpress plate including a photosensitive resin layer and a mask layer, and to provide a method for producing a letterpress plate using the multilayer laminate.例文帳に追加

感光性樹脂層とマスク層とを有する凸版印刷版製造用多層積層体において、露光時に、感光性樹脂層に対する空気中の酸素の影響を低減でき、現像後に良好なパターンを得ることができる凸版印刷版製造用多層積層体、及びこれを用いて行う凸版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic device 10 having a plating step for plating a metal on a resist pattern 13 provided on a substrate 11 to be plated has a coating step for previously applying a plating solution or a solvent for the plating solution on the substrate 11 to be plated under a reduced pressure atmosphere before the plating step.例文帳に追加

被めっき用基板１１上に設けられたレジストパターン１３に、金属をめっきするめっき工程を有する電子デバイス１０の製造方法において、前記めっき工程の前に、被めっき用基板１１を減圧雰囲気下で、めっき液又はめっき液の溶媒を予め塗布する塗布工程を有する電子デバイス１０の製造方法である。 - 特許庁

This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.例文帳に追加

本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体１の表面上にめっきレジスト２をパターン形成する工程と、無電解めっき膜５を形成する工程と、電解めっき膜６を形成する工程と、めっきレジスト２を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a structure in a cell by which a structure in a cell can be efficiently formed with high definition by forming a desired imaging pattern on an exposure face of a photosensitive layer while suppressing production of jaggy without decreasing an exposure speed.例文帳に追加

前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うセル内構造の製造方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、セル内構造を高精細に、かつ効率よく形成可能なセル内構造の製造方法を提供する。 - 特許庁

Alternately, the method comprises the following process: directly pouring pneumatic combined oily confectionery dough into a heated mold to make its interfacial part melt, forming a thin layer on the interfacial part with the inner surface of the mold followed by pressing the dough using a cooled pressing pattern to make a shell, and charging edible material as a center stuffing inside the shell.例文帳に追加

また、第二の発明は、含気油性菓子生地を加熱したモ−ルドに直接注入し、界面部分を融解させ、モールド内面との界面部分に薄層を形成させた後に、冷却した押し型でプレスすることでシェルを作り、該シェルの内側にセンターとして可食物を充填することを特徴とする含気複合油性菓子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a black color hardening composition achieving satisfactory close adhesiveness onto a substrate, high sensitivity, and forming a fine pattern, to provide a light shielding color filter achieving high light shielding performance in an infrared region and its manufacturing method by use of the black color hardening composition, and to provide a solid imaging element preventing the occurrence of noise and improving quality of picture image.例文帳に追加

基板密着性が良好で、感度が高く、微細なパターンを成形できる黒色硬化性組成物を提供し、それを用いて赤外領域の遮光性が高い遮光性カラーフィルタおよびその製造方法を提供し、ノイズ発生が防止され、画質が向上した固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for imparting ID data to a biochemical analysis unit which surely imparts the desired ID data to the biochemical analysis unit for indicating a type of a specific binding material included in a solution and a type of a drop pattern and easily compares the ID data with a generated biochemical analysis data.例文帳に追加

生化学解析用ユニットに、どのような特異的結合物質を含む溶液が、どのようなパターンで、滴下されたかに関する所望のＩＤデータを、生化学解析用ユニットに確実に付与することができ、ＩＤデータと生成された生化学解析用データとを容易に照合することができる生化学解析用ユニットへのＩＤデータの付与方法を提供する。 - 特許庁

In platemaking plating method for enabling the lead frame or forming a semiconductor package to be subjected to metal plating required or wire bonding, there is a process for forming a resist film made of photoresist in the entire lead frame, and then exposing only the entire back to light, and then performing the pattern exposure of the front for development, metal plating, and resist peeling.例文帳に追加

半導体パッケージを形成するリードフレームにワイヤーボンディングのために必要な金属めっきを施す製版めっき方法において、リードフレーム全体にフォトレジストのレジスト膜を形成した後、まず先に裏面のみを全面露光し、次いで表面のパターン露光を行ってから、現像、金属めっき、レジスト剥離を行う工程を含むようにする。 - 特許庁

The method has the first process for extracting a single or plurality of feature points from the image of the search object, and the second process for searching for the feature pattern based on a positional relation between each feature point extracted in the first process and reference points predetermined for the preset feature patterns.例文帳に追加

このとき、探索対象の画像から、単数または複数の特徴点を抽出する第１の工程と、前記第１の工程で抽出した特徴点の各々と、前記所定の特徴パターンに対して予め決められた参照特徴点との位置関係に基づいて、前記特徴パターンを探索する第２の工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask, which can simply form a light shielding region and can achieve highly accurate pattern transfer, without increasing a manufacturing process such as resist coating, drawing, developing and etching, and without needing to prepare a special mask blank; an ion beam device for the reflective mask; and the reflective mask.例文帳に追加

本発明は、レジスト塗布、描画、現像、エッチング等の製造工程を増やすことなく、特殊なマスクブランクを準備する必要もなく、簡便に遮光領域を形成することが可能であり、高精度なパターン転写を実現することが可能な反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

In this method for forming the barrier of the plasma display panel, which includes a process to pattern a barrier material layer by a sand blasting process through a mask 13 for sand blast after forming the barrier material layer 12 on a base 11 and providing the mask 13 for sand blast on it, a material having conductivity is used for the mask 13 for sand blast.例文帳に追加

基板１１上に障壁材料層１２を形成し、その上にサンドブラスト用マスク１３を設けた後、そのサンドブラスト用マスク１３を介してのサンドブラスト加工により障壁材料層１２をパターニングする工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法において、サンドブラスト用マスク１３として導電性を有するものを用いる。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board has a blackening step of blackening the surface of a conductive layer provided on an insulating substrate; a photolithography step of laminating a dry film on the blackened surface, and exposing and developing the dry film; and an etching step of etching the conductive layer exposed by the photolithography step to form the circuit pattern.例文帳に追加

絶縁基板上に設けられた導電層の表面を黒化する黒化処理工程と、黒化された該表面にドライフィルムを積層し、該ドライフィルムを露光、現像するフォトリソグラフィ工程と、該フォトリソグラフィ工程により露出した導電層をエッチングして回路パターンを形成するエッチング工程とを有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern-containing rubber sheet wherein colored vulcanized rubber particles are embedded in a rubber sheet, improved so as to be capable of removing air ready to be buried together in a green rubber sheet accompanied by the colored vulcanized rubber particles when the colored vulcanized rubber particles are embedded in the green rubber sheet.例文帳に追加

ゴムシートに着色加硫ゴム粒子が埋め込まれた模様入りゴムシートの製造方法であって、生ゴムシートの中に着色加硫ゴム粒子が埋め込まれる際に着色加硫ゴム粒子に同伴されて一緒に埋没されんとする空気を除去することが出来る様に改良された模様入りゴムシートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tape carrier for a semiconductor device and its manufacturing method wherein no copper corrosive cracking on a conductor pattern occurs, nor thickness abnormality on a pure tin part in a tin plating layer occurs, while an insulating film such as a high temperature hardening solder resist can be adopted without increasing the number of processes and complicating a manufacturing process.例文帳に追加

導体パターンの銅食われや錫めっき層における純錫部の厚さ異常を生じる虞がなく、かつ工程数の増大や製造工程の煩雑化等を招くことなしに高温硬化型のソルダレジストのような絶縁性被膜を採用することができる半導体装置用テープキャリアおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This deterioration rate prediction method for the underwater structure installed in water has a step for determining a corresponding deterioration state of the underwater structure out of deterioration environmental patterns a, b, c classified into a plurality of numbers in response to differences in deterioration states, and a step for calculating the deterioration rate pursuant to a prediction expression corresponding to the corresponding deterioration environmental pattern.例文帳に追加

水中に設置された水中構造物の劣化速度予測方法であって、劣化状況をその違いに応じて複数に分類した劣化環境パターン(a)(b)(c)のいずれに、水中構造物の劣化状態が該当するかを判別するステップと、該当する劣化環境パターンに対応する予測式で劣化速度を算出するステップとを有している。 - 特許庁

To provide an organic EL display device in which a second electrode is deposited so that the whole surface of a film pattern using an inorganic material can be covered and as a result a film surface and end portion of the inorganic layer does not react with oxygen and moisture and a display failure does not occur since a dark spot is not created and durability can be improved; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

無機材料を用いた膜のパターン全面を被覆するように第２電極を成膜することにより、無機層の膜表面及び端部が酸素や水分に反応せず、ダークスポットが発生しないため表示不良がなく、耐久性を向上させることができる有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for correcting pattern defects includes the steps for: feeding raw material gas to a correcting portion of a correcting object mask in a reduced-pressure atmosphere, applying an energy beam thereto, and depositing a material including silicon by energy beam-induced chemical vapor deposition; and performing either of an oxidation treatment, a nitriding treatment, and an oxynitriding treatment for at least a part of the deposited material.例文帳に追加

減圧雰囲気中で被修正マスクの修正部位に原料ガスを供給するとともにエネルギビームを照射してエネルギビーム誘起化学蒸着によりシリコンを含有する材料を堆積させる工程と、前記堆積した材料の少なくとも一部に対して酸化処理、窒化処理、或いは、酸窒化処理のいずれかを行う工程とを設ける。 - 特許庁

To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.例文帳に追加

電極材料としてＰｔを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたＰｔ電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加

放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor light emitting device using nitride based III-V compound semiconductors, which has longer operating life by making the crystallinity of a optical wave guide to be good, and particularly, in a semiconductor laser, has a high symmetry of light intensity distribution in a far field pattern and a reduced aspect ratio of a radiation angle, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

光導波層の結晶性を良好とすることができることにより長寿命で、しかも特に半導体レーザでは遠視野像における光強度分布の対称性が高く、放射角のアスペクト比の低減を図ることができる、窒化物系ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体を用いた半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of depositing a transparent conductive film by the magnetron sputtering without any wasteful consumption of a sputtering target material, and easily controlling the resistivity and the transmittance of the transparent conductive film in a target for the magnetron sputter which has a mask on a substrate to perform the pattern-forming of the transparent conductive film on the substrate by the magnetron sputtering method.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、マグネトロンスパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成するためのマグネトロンスパッタ用ターゲットにおいて、マグネトロンスパッタリングにより、スパッタリングターゲット材の消費に無駄が無く透明導電膜を形成でき、また透明導電膜の抵抗率や透過率の制御が容易にできるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a video signal processing circuit and a method for a display device, which can execute excellent color reproduction display by suppressing image quality disturbance in color pseudo contour in a specific gradation region such as a low gradation region, occurrence of an image with a saturation resulting from missing bits or the like and occurrence of a color pattern noise.例文帳に追加

低階調領域等の特定の階調領域において色の疑似輪郭状の画質妨害が発生したり、ビット落ちのような彩度の画像となってしまったり、色のパターンノイズが発生することを抑制することができ、良好な色再現表示を行うことができる表示装置の映像信号処理回路及び方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method including a step for forming a negative resist layer (thick film resist layer) 13 on a substrate 10, a step for forming a plating film 14 on the substrate 10 and a step for removing the negative resist layer 13 from the substrate 10, a positive resist layer 12 is formed before forming the negative resist layer 13.例文帳に追加

基板１０上にネガレジスト層（厚膜レジスト層）１３を形成する工程と、基板１０上にめっき皮膜１４を形成する工程と、剥離液に浸漬し、基板１０からネガレジスト層１３を剥離させる工程とを含むパターン形成方法において、ネガレジスト層１３を形成する前にポジレジスト層１２を形成するようにした。 - 特許庁

The manufacturing method of the plasma display comprises a process of forming partition walls on a substrate 10, a process of forming liquid-repellent layers 16 by giving the surface of the substrate 10 and the partition walls 14 a liquid-repelling treatment, and a process of forming address electrodes of a given pattern by applying liquid matter including conductive particles on the substrate 10 by an inkjet.例文帳に追加

プラズマディスプレイの製造方法は、基板１０上に隔壁１４を形成する工程と、基板１０および隔壁１４の表面を撥液処理して撥液層１６を形成する工程と、導電性粒子を含む液状体を基板１０上にインクジェットによって付与し、所定パターンのアドレス電極を形成する工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a base board for pattern coating, which can prevent supplied ink from being mixed with each other outside an area in which barrier ribs are formed, and at the same time, can prevent ink supplied outside the area in which the barrier ribs are formed from flowing into an area in which barrier ribs are formed, in selectively supplying ink by a coating method.例文帳に追加

塗布法によってインキを選択的に供給する際に、供給されたインキが、隔壁が形成される領域外で混ざり合うことを防ぐとともに、隔壁が形成される領域外に供給されたインキが、隔壁の形成された領域に流れ込むことを防ぐことができるパターン塗布用基板を提供することである。 - 特許庁

A method of manufacturing the electromagnetic wave shielding material sequentially performs a pattern exposure, a development processing, a physical development and/or a deposition treatment to the original plate for the electromagnetic wave shielding material having layers which contain on a support at least the silver halide particles, a crosslinking binder resin, and a water-soluble compound which is not crosslinked with the crosslinking binder resin.例文帳に追加

支持体上に、少なくともハロゲン化銀粒子と、架橋性バインダー樹脂、及び前記架橋性バインダー樹脂に架橋していない水溶性化合物、を含有する層を有する電磁波遮蔽材料用原版に、パターン露光、現像処理、物理現像及び／又はメッキ処理、を順次行うことを特徴とする電磁波遮蔽材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a highly reliable wiring board including a highly reliable conductor pattern with a stable line width, for which generation of cracks, disconnection and a short-circuit or the like is prevented, to provide a ceramic compact suitably usable in manufacturing of the wiring board, and to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the wiring board.例文帳に追加

クラック、断線、ショート等の発生が防止された、線幅の安定した信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること、また、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁

The conductive material using a silver-salt sensitized material containing at least a layer of a halide silver emulsion layer on a support body as a conductive material precursor has a peak half-value width of 0.41 or less at 2θ=38.2° in an X-ray diffraction method of a silver image pattern deposited on the conductive material.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料において、導電性材料に析出した銀画像パターンのＸ線回折法での２θ＝３８．２°のピークの半値幅が０．４１以下であることを特徴とする導電性材料を用いる。 - 特許庁

To provide a sequence conversion method capable of enhancing the compression rate by means of sequence conversion resulting from adaptively combining a conversion by pixel rearrangement and a conversion adopting an exclusive-OR arithmetic operation between prescribed blocks not necessarily adjacent to each other depending on a threshold value pattern of a dither matrix on the basis of a value with respect to an information amount by each block.例文帳に追加

画素の並べ替えによる変換と、ディザマトリックスの閾値パターンに応じて必ずしも隣接しない所定のブロック間における排他的論理和演算による変換とを、ブロック毎の情報量に関する値に基づいて適応的に組み合わせた系列変換により行うことで圧縮率が向上する系列変換方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical waveguide substrate including an optical element and an optical waveguide 5 optically connected to the optical element, a composite substrate having a substrate 4 which can be etched and an etching stop member 2 provided on one face of the substrate is prepared, and a mask having a desired pattern is formed on the substrate which can be etched.例文帳に追加

光学素子と、該光学素子に光学的に接続された光導波路３と、を備える光導波路基板を作製する方法において、エッチング可能な基板４と、該基板の一方の面に設けられたエッチングストップ部材２と、を有する複合基板を準備し、上記エッチング可能な基板上に、所望のパターンを有するマスクを形成する。 - 特許庁

To provide an image processor and its processing method, which perform filter processing according to a power variation rate, phase information by pixels of interest, and phase information control parameters (low-pass coefficients) for controlling the frequency characteristics of a filter and perform power variational processing which suppresses generation of a cyclic striped pattern such as moire without unnecessary reduction of resolution.例文帳に追加

変倍率と、各注目画素毎の位相情報と、フィルタの周波数特性を制御するための位相情報制御パラメータ（ローパス係数）とに応じて、フィルタ処理を行い、不必要に解像度を落とすことなく、モアレなどの周期的な縞模様の発生を抑えた変倍処理を行える画像処理装置及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

To irradiate the whole substrate with an electronic beam having a uniform irradiation energy and also to shorten the plotting time in an electron beam plotting method for plotting a desired pattern on a substrate coated with a photosensitive material by rotating the substrate by a rotary stage and moving the electronic beam in the radial direction of the rotation.例文帳に追加

感光材料が塗布された基板を回転ステージにより回転させるとともに、電子線を上記回転の半径方向に移動させながら照射して所望のパターンを基板上に描画する電子線描画方法において、基板全体に一様な照射エネルギーの電子線を照射するとともに、描画時間の短縮を図る。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of forming an amorphous silicon layer 13 on a substrate such as a plastic substrate 11, a process of patterning the amorphous silicon layer 13 and forming a prescribed pattern to be a thin film transistor, and a process of crystallizing the patterned amorphous silicon layer 13 thereafter, and the semiconductor device provided with the thin film transistor is manufactured.例文帳に追加

プラスチック基板１１等の基板上にアモルファスシリコン層１３を形成する工程と、アモルファスシリコン層１３をパターニングして、薄膜トランジスタとなる所定のパターンを形成する工程と、その後、パターニングされたアモルファスシリコン層１３を結晶化する工程とを有して、薄膜トランジスタを有する半導体装置を製造する。 - 特許庁

To provide a reflective mask, capable of obtaining a reflection signal having sufficient contrast even for a reflective mask for EUV exposure, when detecting an alignment mark using a laser drawing device, thus forming a resist pattern for forming a light-shielding region with good position accuracy, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ露光用の反射型マスクにおいても、レーザ描画装置を用いてアライメントマークを検出する際に、十分なコントラストを有する反射信号を得ることができ、それゆえ、位置精度良く、遮光領域形成用レジストパターンを形成することができる反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.例文帳に追加

銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Ａｕボールをボンディングした後にＡｕワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第１のめっき及び第２のめっきを施したことにある。 - 特許庁

The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加

（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps 201 and 202 of forming a chemically amplified resist layer on a semiconductor substrate; a step 203 of patternwise exposing the chemically amplified resist layer; a step 204 of heating the chemically amplified resist layer after the exposure; a first developing step 205 in which alkali concentration is high; and a second developing step 206 in which alkali concentration is low.例文帳に追加

半導体基板上に化学増幅型レジスト層を形成する工程２０１、２０２と、化学増幅型レジスト層をパターン露光する工程２０３と、露光処理後に化学増幅型レジスト層を加熱する工程２０４と、アルカリ濃度の高い第一現像処理工程２０５、その後アルカリ濃度の低い第二の現像処理工程２０６を含む。 - 特許庁

In an original plate exposure method for forming a latent image by irradiating a resist layer formed on a substrate with an exposure beam while the substrate 15 is rotated, when a space pattern is formed, the exposure beam is blanked (31) or the exposure beam is deflected to a latent image to be recorded next (33).例文帳に追加

基板１５を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することのよって潜像を形成する原盤露光方法において、スペースパターンを形成する場合に、露光ビームをブランキングさせるか（３１）、もしくは、次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか（３３）、の何れかを選択的に実行する。 - 特許庁

The lithography method is characterized by applying the resist containing an aliphatic polyester selected from a group comprising polylactic acid, polybutylene succinate and polycaprolacton on a body to be treated, selectively exposing a part of the resist to ultraviolet rays so as to decompose and volatilize the resist on the part irradiated with the ultraviolet rays and making the resist pattern on the part not irradiated with the ultraviolet rays remain.例文帳に追加

被処理体上に、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートおよびポリカプロラクトンからなる群より選択される脂肪族ポリエステルを含有するレジストを塗布し、前記レジストの一部に選択的に紫外線を露光して紫外線照射部のレジストを分解して揮発させ、紫外線未照射部にレジストパターンを残存させることを特徴とするリソグラフィー方法。 - 特許庁

There is provided a manufacturing method of a display which has a sealant 3 at the recessed areas lower than the other areas on the transfer electrode sections 15 on the drive element substrate 9 having signal input terminals 12, and the sealant 3 is applied so as to have wider pattern in the transfer electrode sections 15 than in the other areas.例文帳に追加

信号入力用端子12が配置された駆動素子基板9に存在するトランスファ電極15部での他の領域よりも凹である領域にシール材3が接する表示装置の製造方法において、トランスファ電極部のシールパターンの幅について、トランスファ電極部15以外の部分におけるシールパターンの幅よりも太くなる様にシール材3を塗布する。 - 特許庁