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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
In this fine pattern formation method, the process of covering the substrate having the photoresist with a cover molding agent, the process of shrinking the cover molding agent in question by heat treatment and narrowing the intervals between the photoresist patterns by its shrinkage action, and the process of removing the cover molding agent are performed several times.例文帳に追加
ホトレジストパターンを有する基板上に、被覆形成剤を被覆する工程、熱処理により該被覆形成剤を収縮させ、その収縮作用によりホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を、複数回に亘って行うことを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 特許庁
To provide an original plate for letterpress printing with which the problems with the use of the conventional negative film and its alternative and the problems with formation of a mask pattern by an ink composition directly on the surface of a photosensitive resin layer can be simultaneously solved and a method for manufacturing a letterpress printing plate using the original plate for letterpress printing.例文帳に追加
凸版印刷において、従来のネガフィルムおよびその代替品を用いた場合の問題点と、感光性樹脂層表面に直接インク組成物によりマスクパターンを形成する場合の問題点とを同時に解決することのできる凸版印刷用原版と、該凸版印刷用原版を用い凸版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the printed wiring board 108 includes a step of forming a wiring pattern 106 with a metal diffusion preventing layer 103 on the conductive frame 101 by electrolytic plating, a step of forming an insulating layer 107 on a wiring layer forming surface of the conductive frame 101, and a step of removing the conductive frame 101.例文帳に追加
導電性フレーム101上に、電解めっきにより、金属拡散防止層103が形成された配線パターン106を形成する工程と、前記導電性フレーム101の配線層形成面に絶縁層107を形成する工程と、前記導電性フレーム101を除去する工程とを含むプリント配線板108の製造方法。 - 特許庁
The method for producing the fine particle pattern includes at lest a dendritic branch molecule-adding process in which the dendritic branch molecules are added onto a base material having a surface mutually interacting with the dendritic branch molecules, a composite particle-forming process in which the composite particles are formed by forming the fine particles in the dendritic branch molecules.例文帳に追加
樹状分岐分子を、該樹状分岐分子と相互作用可能な表面を有する基材上に付与する樹状分岐分子付与工程と、前記樹状分岐分子に微粒子を生成して複合粒子を形成させる複合粒子形成工程と、を少なくとも含むことを特徴とする微粒子パターンの製造方法である。 - 特許庁
The method for exposure includes a process of first exposure by using a chromium mask 1 having a shading region 11 as a two-dimensional random pattern and a process of second exposure by using a chromium-free phase shift mask 2 having a part 15 of the phase shifter edge 16 of the phase shifter 20 in the position corresponding to the shading region 11.例文帳に追加
二次元ランダムパターン形状である遮光領域11を有するクロムマスク1を用いて第1の露光を行う工程と、遮光領域11に対応する位置に位相シフタ20の位相シフタエッジ16の一部15を有するクロムレス位相シフトマスク2を用いて第2の露光を行う工程とを備えることによって上記課題を解決する。 - 特許庁
In this manufacturing method and the apparatus, identification marks (markers) are formed on each side of a base sheet simultaneously when forming patterns, and the identification marks are read immediately before punching to find out the pattern centers on both sides of the disk to set the punching position so as to minimize the eccentricity of both the faces of the disk.例文帳に追加
基板シートの各面にパターン形成と同時に位置合わせ用の識別子(マーカー)を形成しておき、打ち抜き工程の直前に各面の識別子を読み取って各面に形成されたパターンの中心位置を求め、ディスク両面の偏心量がなるべく小さくなるような打ち抜き位置を設定する製造方法及び製造装置。 - 特許庁
To provide a plasma-etching method which prevents the surface and the sidewall of ArF photoresist from being roughened when high anisotropy plasma-etching is performed by applying a high bias voltage, and forms a pattern of a desired shape by controlling occurrence of striation, LER and LWR, and to provide a computer storage medium.例文帳に追加
高いバイアス電圧を印加した異方性の高いプラズマエッチングを行う際においても、ArFフォトレジストの表面及び側壁の荒れを抑制することができ、ストライエーション、LER、LWRの発生を抑制して所望形状のパターンを精度良く形成することのできるプラズマエッチング方法及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁
The formation method for a film pattern includes steps of forming a self-organizing film on a substrate surface which has fluid repellency, providing a fluid material on the self-organizing film and drying it, giving energy to the back side of the substrate, and sintering the dried fluid material.例文帳に追加
本発明は、基板の表面に、撥液性を有する自己組織化膜を形成する工程と、前記自己組織化膜上に液体材料を供与し、これを乾燥する工程と、前記基板の裏面側にエネルギーを付与する工程と、乾燥した前記液体材料を焼結させる工程と、を含むことを特徴とする膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The method for repairing the color filter having the wettable pattern consisting of a lyophilic region and a lyophobic region on a substrate and having the coloring layer formed on the lyophilic region is characterized by removing a coating liquid for forming the coloring layer adhering to the lyophobic region.例文帳に追加
上記目的を達成するために、本発明は、基板上に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有し、上記親液性領域に着色層を形成したカラーフィルタの修正方法であって、上記撥液性領域に付着した着色層形成用塗工液を除去することを特徴とするカラーフィルタの修正方法を提供する。 - 特許庁
To surely provide a method for forming a metal electrode pattern at the electrode part on a semiconductor substrate, by attaching an adhesive sheet for stripping off a metal film to the metal film provided on the surface of an insulating part and the electrode part formed on the semiconductor substrate, and then stripping off the metal film well form the surface of the insulating part.例文帳に追加
半導体基板上に形成された絶縁部と電極部の表面に設けた金属膜に金属膜剥離除去用接着シートを貼り付け、引き剥がしにより絶縁部表面の金属膜を良好に剥離除去して半導体基板上の電極部に確実に金属電極パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁
The method for laser marking includes a paint layer forming process that forms a paint layer 12 on the surface of the metal material 10 and a marking process that eradiates laser according to a predetermined pattern onto the paint layer 12 to remove the paint layer 12 from the portion where laser is eradiated and simultaneously form a recess 14 on the surface of the metal material 10.例文帳に追加
本発明に係るレーザマーキング法は、金属材料10の表面に塗膜12を形成する塗膜形成工程と、所定のパターンに沿って塗膜12の表面にレーザーを照射し、レーザーが照射された部分において塗膜12を除去すると同時に、金属材料10の表面に凹部14を形成するマーキング工程とを備えている。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a photosensitive resin composition which can maintain high adhesion and peeling characteristics, even if using a less rugged circuit board and is superior in plating and etching resistance and resolution, and a photosensitive element and a resist pattern which uses this resin composite, and to provide a printed circuit board.例文帳に追加
表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁
The method for fabricating an integrated circuit on a semiconductor wafer preferably comprises a step for designing a reticle including a pattern composition member having relatively small critical dimensions in order to form a corresponding circuit composition member based on an overlapped region formed using a plurality of exposing steps, through shift, such that the circuit composition member has relatively small necessary critical dimensions.例文帳に追加
好適には、上記方法は、下記のステップ、すなわち、回路構成部材が、必要な、比較的小さな臨界寸法を持つように、その間のシフトにより、複数の露出ステップを使用して形成した重畳領域に基づいて、対応する回路構成部材を形成するために、臨界寸法を持つパターン構成部材を含むレティクルを設計するステップを含む。 - 特許庁
To provide an ornament in which a region composed mainly of diamond like carbon and a region composed mainly of a material other than diamond like carbon are arranged at a prescribed pattern, and also having durability, to provide a method for producing an ornament by which the ornament can be produced, and to provide a timepiece provided with the ornament.例文帳に追加
主としてダイヤモンド様炭素で構成された領域と、主としてダイヤモンド様炭素以外の材料で構成された領域とが所定のパターンで配され、かつ、耐久性に優れた装飾品を提供すること、前記装飾品を製造することができる装飾品の製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。 - 特許庁
Further, the synchronization code recovery circuit and method of this invention applies error correction to the next synchronization candidate recovered at a plurality of synchronization locations, generates the most proper location information of the succeeding synchronization pattern on the basis of the result of error correction and recovers the synchronization code at a location corresponding to the location information when no synchronization code is detected from the received bit stream.例文帳に追加
また本発明は、入力されるビットストリームから同期コードが検出されなければ、複数の同期位置で復旧される次の同期候補に対してエラー訂正を行った後、エラー訂正結果に基づいて最も適した次の同期パターンの位置情報を発生させ、この位置情報に対応する位置で同期コードを復旧する。 - 特許庁
To provide an interactive game device, a method for controlling the same and a recording medium in which its program is recorded, wherein a mental state of an answerer included in voices expressed by the answerer is analyzed and his true intention is disclosed by controlling a question pattern so as not to be constant and amusement obtained by a player is able to be increased.例文帳に追加
回答者の発する音声に含まれた回答者の心理状態を分析し、質問のパターンが一定にならないように制御することで回答者の本音を明らかにし、遊技者の得られる面白みを増すことができる対話型遊技装置、対話型遊技装置の制御方法、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁
The control method for the sensor system includes the step of determining whether to activate the specific function by the size of a first total pattern to be detected, wherein whether to activate the specific function is determined by the size of the first total image to be detected and the length of the time of detecting the first total image.例文帳に追加
上記課題を解決するために本発明では、検出する第一総画像のサイズにより特殊機能を起動するかないか判断する前記ステップと、検出する第一総画像のサイズと第一総画像を検出する時間の長さにより特殊機能を起動するかないか判断するセンサーシステム用制御方法を提供する。 - 特許庁
The plating or electroforming method of determining the energization start time in secondary plating when subjecting a primary plating film to secondary plating after a plating work is subjected to the replating or additional stages exclusive of the plating, such as resist pattern forming as the non-energization time for a specified period after the work is immersed in the plating liquid before the start of the plating.例文帳に追加
めっきワークに、再めっきもしくはレジストパターン形成などのめっき以外の追加工程を経た後、第一次めっき膜上に第二次めっきをする際に、第二次めっきにおける通電開始時間を、前記めっきワークをめっき液中に浸漬してからめっき開始時まで一定時間無通電とするめっきもしくは電鋳方法。 - 特許庁
To provide a method for forming a fine metallic pattern of a semiconductor element, based on a damascene technique which can ensure broad width of a metallic layer for improving the operational speed of the element and can easily control steps by etching only the metal layer without etching the metallic layer, anti-diffusion layer and bonding layer at the same time.例文帳に追加
金属膜の幅を広く確保可能として素子の動作速度を向上させることができ、従来のように金属膜,拡散防止膜及び接着膜を同時に蝕刻せずに、金属膜のみを蝕刻することにより工程を容易に制御可能である象嵌技法を利用した半導体素子の微細金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A method for forming a pattern includes: bringing a composition containing a release agent and a urethane acrylate resin, which is obtained by reacting a tertiary amine, acrylate and isocyanate, into contact with a relief structure provided in a mold, curing the composition as in that state; and releasing the composition after cured from the mold.例文帳に追加
本発明のパターン形成方法は、第3級アミンとアクリレートとイソシアネートとを反応させることにより得られるウレタンアクリレート樹脂と離型剤とを含んだ組成物を、型に設けられたレリーフ構造に接触させ、この状態で前記組成物を硬化させることと、硬化後の前記組成物と前記型とを互いから剥離することとを含む。 - 特許庁
The method includes steps of providing a carrier having flakes dispersed therein onto the surface of an article, wherein all of the flakes have a beam-splitting grating pattern encoding the information thereon, aligning the flakes, in parallel with a sloped plane forming a slope angle with the surface of the article and solidifying the carrier.例文帳に追加
本方法は、その内部に分散された薄片を有し物品の表面の上にコートされる担体を用意するステップであって全ての薄片はその上に情報が符号化されているビーム分割格子パターンを有するステップと、薄片を物品の表面に対して傾斜した角度を成す傾斜面に平行に配列させるステップと、担体を固化させるステップと、を含む。 - 特許庁
This system includes a discrimination part 118 which discriminates whether a cell connected to a critical path has the voltage drop violation, an improvement method decision part 116 which selects an optimum one of plural relocation patterns prepared for improving the voltage drop violation and a voltage drop improvement part 117 which executes the relocation according to the selected relocation pattern.例文帳に追加
クリティカルパスに接続するセルに電圧降下違反があるか否かを判別する判別部118と、電圧降下違反を改善するための複数の再配置パターンの中から最適なものを選択する改善手法決定部116と、選択された再配置パターンに基づき再配置を行う電圧降下改善部117を備える。 - 特許庁
(1) The method for forming a conductor interconnection circuit on a semiconductor wafer comprises a step for laying a metal foil for forming interconnection on the side for forming the electrodes of the semiconductor wafer having circuit elements formed on the surface, a step for forming an interconnection pattern on the metal foil, a step for etching the metal foil, and a step for removing resist and forming an interconnection.例文帳に追加
(1)表面に回路素子の形成された半導体ウェハ上の電極形成面側に配線形成用金属箔を積層する工程、該金属箔上に配線パターンを形成する工程、金属箔のエッチングを行う工程、および、レジストを除去して配線を形成する工程を含む、半導体ウェハ上の導体配線回路形成方法。 - 特許庁
To provide a coating method of a perforated thin plate with a viscous liquid capable of uniformly the whole surface including hole peripheral wall surfaces of hole parts of the perforated thin plate with the viscous liquid by surely preventing the generation of a stripped pattern due to the clogging of the hole parts of the perforated thin plate with the viscous liquid or the concentration of the viscous liquid.例文帳に追加
穴開き薄板の穴部の粘性液による目詰まりや粘性液の濃淡による縞模様が生じるのを確実に防止して、穴開き薄板の穴部の穴周壁面を含む表面全体に粘性液を所定厚みに均一に塗布することのできる穴開き薄板へ粘性液の塗布方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
This method comprises the steps of exposing only the parts within a metal layer 30, formed on the surface of a substrate 20 where a ball pad 62 and/or a bonding pad 63 are/is to be formed, forming a gold-plated layer 60 on the exposed metal layer 30, and selectively removing the metal layer 30 and forming the circuit pattern 32 on the substrate.例文帳に追加
基板20の表面に形成された金属層30中ボールパッド62及び/またはボンディングパッド63が形成される部分のみ露出される段階と、露出された金属層30に金メッキ層60が形成される段階と、金属層30が選択的に除去されて基板上に回路パターン32が形成される段階とが含まれる。 - 特許庁
A manufacturing method for the printed wiring board has at least a process wherein a photoresist layer is formed on a board or on a material of the board having a copper foil of 1 to 5 μm thickness on an outmost layer of insulating resin, a conductive circuit is formed by pattern copper plating after exposure and development, and the photoresist layer is peeled off by an oxidizer.例文帳に追加
最外層の絶縁樹脂上に1〜5μm厚の銅箔を有する基板もしくは基板材料上にフォトレジスト層を形成し、露光、現像後、パターン銅めっきにより導体回路を形成し、酸化剤によってフォトレジスト層を剥離する工程を少なくとも有することを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
In the reciprocity failure evaluating method for the photoreceptor, respective potentials of a photoreceptor to exposure energy after multi-beam simultaneous exposure of an exposure pattern and sequential exposure between multi-beam scanning exposure processes are measured and compared with each other and it is evaluated whether the photoreceptor as a body to be inspected has a reciprocity failure according to the comparison result.例文帳に追加
本発明の感光体の相反則不軌評価方法によれば、露光パターンにマルチビームの同時露光と、マルチビーム走査露光間の順次露光とにおける露光後の感光体の露光エネルギーに対する各電位を測定し、測定した各電位を比較して、比較した結果に応じて被検査体の感光体が相反則不軌を生じるか否かを評価する。 - 特許庁
To provide a laminate for a flexible printed wiring board which is excellent in adherence property and close contact property of a conductor forming a circuit with a polyimide film, is excellent in reliability without impairing characteristics such as dielectric characteristic, humidity resistance, and heat resistance or the like of a polyimide film, and enables fine pattern machining of the flexible printed wiring board, and its manufacturing method.例文帳に追加
回路を形成する導体とポリイミドフィルムとの接着性及び密着性に優れると共に、ポリイミドフィルムが備える誘電特性、耐湿性、耐熱性等の特性を損なうことなく信頼性に優れた積層体であって、フレキシブルプリント配線板のファインパターン加工が可能となるフレキシブルプリント配線板用積層体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus, control method thereof, program, recording medium with the program recorded thereon, and a process cartridge with which image formation is performed using a single color and a plurality of colors other than an uncorrectable color by performing correction on colors other than an undetectable color if an image position deviation correcting pattern can not be detected.例文帳に追加
画像位置ずれ補正用パターンを検出できない場合には、検出できない色以外に関して補正を行い、単色及び補正ができない色を使用しない複数色を使用して画像形成を行う画像形成装置、該装置の制御方法、プログラム、及び該プログラムを記録した記録媒体、プロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁
This image forming apparatus or method for forming an image by causing a color material to adhere onto a print medium includes a means for measuring the output density gradation characteristic of the image forming device, and a color material consumption calculating means for calculating the color material consumption based on the dot pattern and output density gradation characteristic of the halftone image.例文帳に追加
色材をプリント媒体上に付着させることで画像を形成する画像形成装置または方法において、画像形成装置の出力濃度階調特性を測定する手段と、ハーフトーン画像のドットパターンと出力濃度階調特性に基づいて、色材の消費量を算出する色材消費量算出手段と、を有する。 - 特許庁
The manufacturing method of the lower panel for the plasma display panel includes a process for preparing a base substrate, a process for forming a material layer for a barrier rib on the base substrate, a process for forming the barrier rib pattern by irradiating the X-ray on the material layer for the barrier rib, a process for developing and patterning the material layer for the barrier rib.例文帳に追加
基底基板を準備する工程と、基底基板上に隔壁用素材層を形成する工程と、隔壁用素材層上にX線を照射することによって隔壁パターンを形成する工程と、隔壁用素材層を現像してパターン化する工程と、を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用下部パネルの製造方法が提供される。 - 特許庁
A substrate provided with a wiring pattern 2 which has the land part 3 is prepared and after preliminary solder 4 is provided on at least the surface of the land 3 as a preliminary solder forming method, a resist layer 5 formed of thermosetting resin, etc., is applied onto the entire surface of the substrate as a resist layer forming process and dried and half-hardened.例文帳に追加
ランド部3を有する配線パターン2が設けられた基板1を用意し、まず予備半田形成方法として、少なくともランド部3の表面に予備半田4を設けた後、レジスト層形成工程として、基板1上の全面に熱硬化性樹脂等からなるレジスト層5を塗布し、このレジスト層5を乾燥して半硬化させる。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a hot-dip galvanized steel sheet by which zinc powder on the surface of a work roll is removed without occurrence of the trouble of bubble pattern even when polishers are used when temper rolling is performed by using a temper rolling liquid containing an ingredient which is easily foamed and a temper rolling apparatus of the hot-dip galvanized steel sheet.例文帳に追加
発泡しやすい成分を含む調質圧延液を用いて調質圧延する際に、上述のようなポリッシャーを使用しても、泡模様のトラブルを生じることなく、ワークロール表面の亜鉛粉を除去することができる溶融亜鉛系めっき鋼帯の製造方法、及び溶融亜鉛系めっき鋼帯の調質圧延装置を提供する。 - 特許庁
According to the method of the invention for recording information on a write once-read many optical recording medium, the pulse pattern of a laser beam for forming a first recording mark is set based on at least one of the length of a blank area disposed after the first recording mark and the length of a second recording mark formed after the first recording mark.例文帳に追加
本発明による追記型光記録媒体への情報記録方法は、第1の記録マークを形成するためのレーザビームのパルスパターンを、前記第1の記録マークの後に設けられるブランク領域の長さ及び前記第1の記録マークの次に形成される第2の記録マークの長さの少なくとも一方に基づいて設定する。 - 特許庁
This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、(ア)半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、(イ)前記レアメタル層上にTaO膜を形成する工程と、(ウ)前記TaO膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、(エ)前記パターニングされたTaO膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁
The apparatus and method for optically inspecting a printed circuit board make it possible to use light in an infrared band to reduce excessive detection of products that are judged to be defective due to a nonconducting foreign matter, and make it possible to simultaneously carry out an electrical circuit pattern inspection and an appearance inspection, thus enabling an improvement in speed of inspection.例文帳に追加
開示されたプリント回路基板の光学検査装置及びその方法によれば、赤外線帯域の光を利用して非伝導性異物によって不良品と判別される過検出を低減することができ、電気的な回路パターン検査及び外観検査を同時に処理することができるため、検査速度を向上させることができる。 - 特許庁
This manufacturing method includes two processes: a photolithographic process wherein the projecting parts 102 of a prescribed pattern are formed in a photosensitive resin layer 101 on a base 100 as shown in Fig.1 (A), and a laser engraving process wherein the angle α of inclination of the lateral side 104 of the projecting part 102 is corrected by laser engraving as shown in Fig.1 (B).例文帳に追加
本発明の製造方法は、図1(A)に示すように、基材100上の感光性樹脂層101に所定パターンの凸部102を形成するフォトリソ工程図と、図1(B)に示すように、凸部102の側面104の傾斜角度αを、レーザー彫刻によって修正するレーザー彫刻工程の2つの工程を含んでいる。 - 特許庁
This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加
投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも1つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁
This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加
表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部18を有する電子線放出素子10を用意する工程と、電圧を印加して錐体部18から電子線19を放出させて、電子線感応性のレジスト層22を暴露する工程と、レジスト層22の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern capable of effectively preventing occurrence of halation and stationary waves at the time of forming, on a highly reflective film like a metallic film, a positive chemically amplifiable resist having a fundamental composition comprising an acid generating compound by irradiation with radiation and a resin to be increased in solubility in an aqueous alkaline solution by action of an acid.例文帳に追加
放射線照射により酸を発生する化合物及び酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分から成る基本組成を有するポジ型化学増幅型レジストを金属膜などの高反射性膜に施す際に、有効にハレーション及び定在波の発生を防止してレジストパターンを形成しうる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor light emitting device using nitride based III-V compound semiconductors, which has longer operating life by making the crystallinity of a optical wave guide to be good, and particularly, in a semiconductor laser, has a high symmetry of light intensity distribution in a far field pattern and a reduced aspect ratio of a radiation angle, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
光導波層の結晶性を良好とすることができることにより長寿命で、しかも特に半導体レーザでは遠視野像における光強度分布の対称性が高く、放射角のアスペクト比の低減を図ることができる、窒化物系III−V族化合物半導体を用いた半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering target capable of depositing a transparent conductive film by the magnetron sputtering without any wasteful consumption of a sputtering target material, and easily controlling the resistivity and the transmittance of the transparent conductive film in a target for the magnetron sputter which has a mask on a substrate to perform the pattern-forming of the transparent conductive film on the substrate by the magnetron sputtering method.例文帳に追加
基板上にマスクを設け、マグネトロンスパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成するためのマグネトロンスパッタ用ターゲットにおいて、マグネトロンスパッタリングにより、スパッタリングターゲット材の消費に無駄が無く透明導電膜を形成でき、また透明導電膜の抵抗率や透過率の制御が容易にできるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
To provide a video signal processing circuit and a method for a display device, which can execute excellent color reproduction display by suppressing image quality disturbance in color pseudo contour in a specific gradation region such as a low gradation region, occurrence of an image with a saturation resulting from missing bits or the like and occurrence of a color pattern noise.例文帳に追加
低階調領域等の特定の階調領域において色の疑似輪郭状の画質妨害が発生したり、ビット落ちのような彩度の画像となってしまったり、色のパターンノイズが発生することを抑制することができ、良好な色再現表示を行うことができる表示装置の映像信号処理回路及び方法を提供する。 - 特許庁
In the pattern forming method including a step for forming a negative resist layer (thick film resist layer) 13 on a substrate 10, a step for forming a plating film 14 on the substrate 10 and a step for removing the negative resist layer 13 from the substrate 10, a positive resist layer 12 is formed before forming the negative resist layer 13.例文帳に追加
基板10上にネガレジスト層(厚膜レジスト層)13を形成する工程と、基板10上にめっき皮膜14を形成する工程と、剥離液に浸漬し、基板10からネガレジスト層13を剥離させる工程とを含むパターン形成方法において、ネガレジスト層13を形成する前にポジレジスト層12を形成するようにした。 - 特許庁
The manufacturing method of the plasma display comprises a process of forming partition walls on a substrate 10, a process of forming liquid-repellent layers 16 by giving the surface of the substrate 10 and the partition walls 14 a liquid-repelling treatment, and a process of forming address electrodes of a given pattern by applying liquid matter including conductive particles on the substrate 10 by an inkjet.例文帳に追加
プラズマディスプレイの製造方法は、基板10上に隔壁14を形成する工程と、基板10および隔壁14の表面を撥液処理して撥液層16を形成する工程と、導電性粒子を含む液状体を基板10上にインクジェットによって付与し、所定パターンのアドレス電極を形成する工程と、を有する。 - 特許庁
To provide a base board for pattern coating, which can prevent supplied ink from being mixed with each other outside an area in which barrier ribs are formed, and at the same time, can prevent ink supplied outside the area in which the barrier ribs are formed from flowing into an area in which barrier ribs are formed, in selectively supplying ink by a coating method.例文帳に追加
塗布法によってインキを選択的に供給する際に、供給されたインキが、隔壁が形成される領域外で混ざり合うことを防ぐとともに、隔壁が形成される領域外に供給されたインキが、隔壁の形成された領域に流れ込むことを防ぐことができるパターン塗布用基板を提供することである。 - 特許庁
A method of manufacturing the electromagnetic wave shielding material sequentially performs a pattern exposure, a development processing, a physical development and/or a deposition treatment to the original plate for the electromagnetic wave shielding material having layers which contain on a support at least the silver halide particles, a crosslinking binder resin, and a water-soluble compound which is not crosslinked with the crosslinking binder resin.例文帳に追加
支持体上に、少なくともハロゲン化銀粒子と、架橋性バインダー樹脂、及び前記架橋性バインダー樹脂に架橋していない水溶性化合物、を含有する層を有する電磁波遮蔽材料用原版に、パターン露光、現像処理、物理現像及び/又はメッキ処理、を順次行うことを特徴とする電磁波遮蔽材料の製造方法。 - 特許庁
To provide a highly reliable wiring board including a highly reliable conductor pattern with a stable line width, for which generation of cracks, disconnection and a short-circuit or the like is prevented, to provide a ceramic compact suitably usable in manufacturing of the wiring board, and to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the wiring board.例文帳に追加
クラック、断線、ショート等の発生が防止された、線幅の安定した信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること、また、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁
The conductive material using a silver-salt sensitized material containing at least a layer of a halide silver emulsion layer on a support body as a conductive material precursor has a peak half-value width of 0.41 or less at 2θ=38.2° in an X-ray diffraction method of a silver image pattern deposited on the conductive material.例文帳に追加
支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料において、導電性材料に析出した銀画像パターンのX線回折法での2θ=38.2°のピークの半値幅が0.41以下であることを特徴とする導電性材料を用いる。 - 特許庁
To provide a sequence conversion method capable of enhancing the compression rate by means of sequence conversion resulting from adaptively combining a conversion by pixel rearrangement and a conversion adopting an exclusive-OR arithmetic operation between prescribed blocks not necessarily adjacent to each other depending on a threshold value pattern of a dither matrix on the basis of a value with respect to an information amount by each block.例文帳に追加
画素の並べ替えによる変換と、ディザマトリックスの閾値パターンに応じて必ずしも隣接しない所定のブロック間における排他的論理和演算による変換とを、ブロック毎の情報量に関する値に基づいて適応的に組み合わせた系列変換により行うことで圧縮率が向上する系列変換方法を提供する。 - 特許庁
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