「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(455ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for manufacturing the smooth laminate which comprises laminating a resistance alloy layer on at least one side of a smooth electroconductive plate, the resistor having the required resistance value can be formed to the inside of the wiring pattern formed by etching by laminating the resistance alloy layer on the smooth electroconductive plate immediately after activation treatment is applied to the electroconductive plate.例文帳に追加

平滑導電板の少なくとも一方の面に抵抗合金層を積層してなる平滑積層体の製造方法において、平滑導電板に活性化処理を施した直後に抵抗合金層を積層することによって、所要の抵抗値を有する抵抗器をエッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする平滑積層体を製造する。 - 特許庁

To provide a heat resistant negative type photosensitive resin composition having satisfactory adaptability independently of the structure of a polybenzoxazole precursor to which photosensitivity is imparted and also having good sensitivity and resolution, to provide a method for producing a pattern of good shape using the composition and excellent in sensitivity, resolution and heat resistance, and to provide high reliability electronic parts.例文帳に追加

本発明は、感光性を付与するポリベンゾオキサゾール前駆体がいかなる構造であっても充分に対応でき、しかも感度や解像度も良好な耐熱性ネガ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法、信頼性の高い電子部品を提供するものである。 - 特許庁

The method for producing a wiring board comprises a step for laying a composite sheet 10, where an adhesive sheet 12 containing thermosetting resin is boded to or impregnated partially with a porous film 13, on a wiring layer 2 having a wiring pattern 2a formed on an insulation layer 1 and then integrating the multilayer by hot press or hot press following to press.例文帳に追加

絶縁層１上に配線パターン２ａが形成された配線層２に対し、熱硬化性樹脂を含有する接着性シート１２が多孔質膜１３に接着又はその少なくとも一部が含浸された複合シート１０を少なくとも積層した状態で、その積層物を加熱加圧又は加圧後に加熱加圧して一体化させる工程を含む配線基板の製造方法。 - 特許庁

The method includes steps of forming an in-situ mask on a photosensitive element, exposing the element to chemical rays via the in-situ mask in an environment, having an inert gas and an oxygen concentration ranging from 190,000 to 100 ppm, and processing the exposed element to prepare a relief printing form, having a pattern of an embossed surface segment.例文帳に追加

この方法は、感光性エレメントの上にｉｎ−ｓｉｔｕマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび１９０，０００から１００ｐｐｍの間の酸素濃度を有する環境内においてｉｎ−ｓｉｔｕマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension.例文帳に追加

フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。 - 特許庁

The user situation perception method is to analyze a signal obtained by at least one of a plurality of sensors arranged in the user device, to recognize at least one of unit behaviors which are sequentially generated by an object, to analyze a pattern of the recognized unit behavior and to perceive a present situation of the user is disclosed.例文帳に追加

ユーザの状況認知方法であって、ユーザ装置に備えられた複数のセンサのうち、少なくとも一つのセンサにより獲得される信号を分析して、客体（ｏｂｊｅｃｔ）により順次発生される少なくとも一つの単位行動を認識し、認識される単位行動のパターンを分析して、ユーザの現在状況を認知するユーザの状況認知方法が開示される。 - 特許庁

A repairing method for a discontinued wire of a wiring board is constituted to provide a step of forming resist 6 at a circuit pattern excepting the discontinued wiring part, a step of applying conductive paste 7 at the discontinued part on the resist 6 formed, a step of hardening the conductive paste 7 and a step of eliminating the resist 6 from the wiring board.例文帳に追加

配線基板の断線部分を修正する方法において、前記断線部分を含む回路パターン以外の部分にレジストを形成する工程と、前記レジストを形成した上から前記断線部分に導電ペーストを塗布する工程と、前記導電ペーストを固化させる工程と、前記配線基板から前記レジストを除去する工程と、を具えるように構成する。 - 特許庁

In the method, vibration-related information is determined by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, by mapping the intensity of the aerial image into an image map wherein the image map includes values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at the respective sampling locations, and by measuring the intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for a microstructure array includes the processes of: forming an insulating layer 3 on a conductive portion 2 of a substrate 1, forming an opening 4 having a periodic repetitive array pattern on the insulating layer 3, and forming an electrodeposition layer 7 on the opening 4 and the insulating layer 3 through the opening 4 by the electrodeposition of the conductive portion 2 as a negative or positive electrode.例文帳に追加

マイクロ構造体アレイの作製方法は、基板１の導電性部２上に絶縁層３を形成する工程、絶縁層３に周期的な繰り返し配列パターンを有する開口部４を形成する工程、導電性部２を陰極ないし陽極として電着により開口部４を通じて開口部４及び絶縁層３上に電着層７を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide recorded matter including a pattern (printed part) excellent in glossy feeling and scuff resistance, a method of production, capable of producing such recorded matter in a good efficiency, an ultraviolet light-curing type inkjet composition capable of suitably being used for producing such recorded matter, and also powder used for producing such ultraviolet light-curing type inkjet composition.例文帳に追加

光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）を備えた記録物を提供すること、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、当該記録物の製造に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる粉末を提供すること。 - 特許庁

This particulate-adsorbed pattern-formed material is formed by the method comprising a step to imagewisely form the region having polymerization initiating ability on the surface of the substrate , a step to produce a graft polymer having a nonionic polar group in the region by atom transfer radical polymerization and a step to make particulate adsorbed on the produced graft polymer.例文帳に追加

基板表面に重合開始能を有する領域を画像様に形成する工程と、該領域に原子移動ラジカル重合を用いて非イオン性極性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに微粒子を吸着させる工程と、を含むことを特徴とする微粒子吸着パターン形成方法、及びそれを用いて作製された微粒子吸着パターン材料。 - 特許庁

To provide an electrical inspection method of a film carrier tape for mounting determinable electronic components, without generating external appearance defects due to discharge breakage until a distance between projections extended between pieces of wiring is a comparatively long wiring pattern so that the insulation fault can be caused by folding a film carrier, and to provide an electrical device and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

例えばフィルムキャリアを折り曲げることにより絶縁不良が引き起こされる可能性があるような、配線間に延出する突起間の距離が比較的長い配線パターンまで、放電破壊による外観不良を生じることなく判別可能な電子部品実装用フィルムキャリアテープの電気検査方法および電気検査装置ならびにコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To realize a verification method of proximity effect correction in electron beam image drawing wherein verification by a real image drawing member is omitted and accurate verification can be performed, by fetching and verifying correction quantity of a proximity effect operating unit which is prepared for preventing proximity effect which exerts influence upon mutual patterns by pattern density at the time of real image drawing, in the course of real image drawing.例文帳に追加

実描画時のパターン密度により図形相互に影響を与える近接効果を防止するために準備される近接効果演算ユニットの補正量を実描画途中で取りだし、検証することにより、実描画材料による検証を省略して正確な検証を行うことができる電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法を実現する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor device, a substrate 20 carrying a wiring pattern 22 is mounted on a bonding stage 30, equipped with a heater 50 and a cooler 60 and the semiconductor chip 10 is mounted on the substrate 20 while the expansion or contraction of the substrate 20 is controlled by controlling the temperature of the stage 30 by means of the heater 50 and the cooler 60.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、加熱器５０及び冷却器６０を備えるボンディングステージ３０に配線パターン２２が形成された基板２０を載置し、前記加熱器５０及び前記冷却器６０によって前記ボンディングステージ３０の温度をコントロールすることで前記基板２０の膨張又は収縮をコントロールし、前記基板２０に半導体チップ１０を搭載する。 - 特許庁

The method has the process of forming a pattern with a slant part prepared therein to a photoresist 52 in the periphery of a silicon exposed part for forming the nozzle 31 by carrying out exposure and development to the photoresist 52 formed on a silicon substrate 51, and the process of forming the hole to be the nozzle 31 of a taper shape by carrying out anisotropic dry etching using the photoresist 52 as a mask.例文帳に追加

シリコン基板５１に形成したフォトレジスト５２に対して露光及び現像を行って、ノズル３１を形成するためのシリコン露出部分周辺におけるフォトレジスト５２に対して、傾斜部分を設けたパターンを形成する工程と、フォトレジスト５２をマスクとして異方性ドライエッチングを行って、テーパ形状のノズル３１となる穴を形成する工程とを有する。 - 特許庁

In a wafer-shaped SOI substrate 10, an epitaxial silicon layer 22, which is a convex formation material layer, is formed through an epitaxial growth method on a second silicon layer 16 constituting an SOI layer of the mark formation area 150, which is a scribe line area, and then the corresponding epitaxial silicon layer is etched to pattern a convex 22a as a positioning mark.例文帳に追加

ウェハ状のＳＯＩ基板１０のうち、スクライブライン領域であるマーク形成領域１５０のＳＯＩ層を構成する第２のシリコン層１６上に、エピタキシャル成長法によって凸部形成用材料層であるエピタキシャルシリコン層２２を形成した後、当該エピタキシャルシリコン層に対してエッチングを行って、位置合わせ用マークとしての凸部２２ａをパターニング形成する。 - 特許庁

To provide an adhesive resin composition capable of restraining a conductive paste from being deformed or diffused toward its periphery, when baking a laminate bonded with the second ceramic green sheet onto the first ceramic green sheet having the pattern-like conductive paste on its surface, via the adhesive resin composition, and a manufacturing method for a ceramic substrate using the same.例文帳に追加

表面にパターン状の導電ペーストを有する第１のセラミックグリーンシートに第２のセラミックグリーンシートを、接着用樹脂組成物を介して接着した積層体を焼成する際に、導電ペーストが変形したり、周囲へ拡散したりするのを抑制することのできる接着用樹脂組成物およびそれを用いたセラミック基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide three-dimensionally moldable natural wood veneer having high transparency and effectively usable when a natural grain pattern is formed to the surface of a furniture member or the like to impart a high grade feeling thereto without bringing about the problem wherein wrinkles are caused in veneer or a material is cracked even when a complicated shape or a three-dimensional curved surface is molded, and its manufacturing method.例文帳に追加

複雑な形状や三次元曲面の成型時にも突き板に皺が生じたり材料が割れる等の問題を引き起こすことなく、かつ、高い透明性を有することにより、家具部材等の表面に天然木目模様を形成して高級感を付与する際に有効に使用することができる天然木突き板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device for automatically controlling a train and a method for automatically controlling a train improving system maintenability and reducing a running cost by an on-train device controlling train traveling speed based on a speed control pattern calculated by the on-train device from a speed control table transmitted to each track circuit by a ground device.例文帳に追加

本発明の課題は、地上装置が各軌道回路に伝送する速度制御テーブルにより列車の車上装置が演算した速度制御パターンに基づいて、当該車上装置が列車の走行速度を制御することでシステムの保守性の向上をはかり運用コストを低減する自動列車制御装置及び自動列車制御方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an automatic focus detecting method capable of always detecting a high-precision focus even on an object image to be processed which has a step and is composed of a complicated pattern in a device which performs image processing such as size measurement by using a combination of a microscope and an imaging device which picks up a light image of an object formed by the microscope.例文帳に追加

顕微鏡とこれにより形成され被写体の光像を撮像する撮像装置とを組み合わせ、寸法測定等の画像処理を行う装置において、段差があり、複雑なパタ−ンで構成される被写体像でも、常に、処理対象となる被写体像に対して高精度の焦点を検出することができる自動焦点検出方法を提供する。 - 特許庁

The pattern formation method comprises the steps of: forming a resist film on a semiconductor substrate; forming the antistatic film on the resist film; exposing an electron beam to the resist film; peeling the antistatic film by using peeling liquid with a temperature of 30°C or more and 35°C or less; and performing a development to the resist film to form predetermined patterns.例文帳に追加

パターン形成方法が、レジスト膜を半導体基板上に形成する工程、前記レジスト膜上に帯電防止膜を形成する工程、前記レジスト膜に対して電子線を露光する工程、温度３０℃以上３５℃以下の剥離液を用いて前記帯電防止膜を剥離する工程、および前記レジスト膜に対して現像を行い所定のパターンを形成する工程とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element includes at least a step (a) of forming a patterned resistance layer 2 on an insulating substrate 1, and a step (b) of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element by forming a wiring pattern 3 which is brought into contact with the resistance layer 2 on the insulating substrate 1.例文帳に追加

抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法において、少なくとも（ａ）絶縁性基板１上にパターニングされた抵抗層２を形成する工程、（ｂ）前記絶縁性基板上に前記抵抗層に接する配線パターン３を形成し、抵抗素子内蔵プリント配線板を作製する工程、を含むことを特徴とする抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide an electronic component mounting wiring board which is free from influence of electromagnetic noise generated from an electronic component and electromagnetic noise from an outside, and to provide an electromagnetic noise removal method in the electronic component mounting wiring board wherein an electronic component is embedded in an insulating member disposed between wiring patterns and the electronic component is electrically connected to at least a part of the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターン間に配置された絶縁部材中に電子部品が埋設され、前記電子部品が前記配線パターンの少なくとも一部と電気的に接続されてなる電子部品実装配線板において、前記電子部品が発生する電磁ノイズ及び外部からの電磁ノイズの影響を除去してなる電子部品実装配線板、及びその電磁ノイズ除去方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a short circuit and disconnection due to large deformation of bonding wires for connecting electrodes of semiconductor chips and the conductor pattern of a printed wiring board in a semiconductor device manufacturing method, wherein the semiconductor chips are mounted face up on the printed wiring board formed with a protective insulation film by using a film-like resist, and then the plurality of semiconductor chips are collectively sealed by transfer molding.例文帳に追加

フィルム状レジストを用いて保護絶縁膜を形成したプリント配線板に半導体チップをフェースアップ実装し、トランスファモールドで前記複数の半導体チップを一括して封止する半導体装置の製造方法において、前記半導体チップの電極とプリント配線板の導体パターンを接続するボンディングワイヤの大きな変形による短絡、断線を防ぐ。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel equipped at least with a plurality of transparent electrodes 2a, 3a, a plurality of bus electrodes 2b, 3b and a plurality of blackstripes is one of first forming at least a transparent electrode film 14 over a whole display area, then forming bus electrodes 2b, 3b and blackstripes and afterwards patterning the transparent electrode film into a given pattern shape.例文帳に追加

少なくともガラス基板上に複数の透明電極２ａ，３ａと複数のバス電極２ｂ，３ｂと複数のブラックストライプを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、少なくとも表示領域全面に透明電極膜１４を形成した後、バス電極２ｂ，３ｂとブラックストライプを形成し、その後透明電極膜１４を所定のパターン形状にパターニングする方法である。 - 特許庁

The method for testing a semiconductor integrated circuit having a novolatile memory element and a peripheral circuit part other than the novolatile memory element comprises a first step for applying a high voltage to all memory cells in the novolatile memory element and a second step for imparting a test pattern to the peripheral circuit part other than the novolatile memory element while applying a high voltage wherein both steps are performed simultaneously.例文帳に追加

不揮発性記憶素子と不揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備えた半導体集積回路の試験方法において、不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加する第１のステップと、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高電圧を印加しながら試験パターンを付与する第２のステップとを有し、上記両ステップを同時に実施する。 - 特許庁

To improve the reliability of products by forming a conductive layer correctly without increasing man-hours or raising cost of material and without giving damage to the conductive layer for forming a wiring pattern, in the manufacturing method of the substrate for printed circuit board wherein a conductive layer for solder connection is formed in the hole after forming holes for forming external connection terminals on an insulating layer.例文帳に追加

絶縁層に外部接続端子形成用のホールを形成してから、そのホール内に半田接続用の導電層を形成するプリント配線板用基材の製造方法において、工数を増やしたり材料費を高くしたりすることなく、配線パターン形成用の導体層にダメージを与えずに導電層を正確に形成して製品の信頼性を向上する。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: subjecting a photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a substrate to fixing processing using a processing agent containing a silver halide solvent in at least one process among processing processes up to electrolytic plating processing after (A) image exposure, (B) curing development processing, and (C) removal of uncured parts.例文帳に追加

基板上に、少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、（Ａ）画像状露光、（Ｂ）硬化現像処理、（Ｃ）未硬化部の除去を実施した後、無電解めっき処理を施すまでの処理工程の少なくとも一工程で、ハロゲン化銀溶剤を含有する処理剤で定着処理することを特徴とする導電性パターンの形成方法。 - 特許庁

To establish a shielding method in which noise being generated from a printed board is reduced easily and significantly without requiring a significantly multilayered printed board by enhancing a ground plane to obtain a return path of signal stably thereby suppressing high frequency noise being generated from a signal pattern or suppressing common mode noise or differential mode noise being generated between a ground layer and a power supply layer.例文帳に追加

グラウンドプレーンを強化して信号のリターン経路が安定して得られるようにすることにより信号パターンから発生する高周波ノイズを抑えたり、グラウンド層と電源層との間に生ずるコモンモードノイズやディファレンシャルモードノイズを抑えて、プリント基板をそれほど高多層化させることなく、プリント基板から発生するノイズを簡単に大きく低減するシールド方法の確立。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂及び（Ａ’）特定の一般式で表されるトリフェニルスルホニウム構造を有する繰り返し単位(a0)を有する樹脂を含有し、且つ、樹脂（Ａ）及び／又は樹脂（Ａ’）が、ラクトン構造及びシアノ基を有する繰り返し単位(a1)を有する樹脂である感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes steps of applying a chemically amplified resist composition on a base 1 to form a resist film 2 and selectively exposing the resist film 2 through a photo mask 5 a plurality of times, wherein a total of transmissivity of a light-shielding part of the photo mask 5 used for each of selective exposures is 0 to less than 12%.例文帳に追加

支持体１上に、化学増幅型レジスト組成物を塗布してレジスト膜２を形成し、当該レジスト膜２に対して、フォトマスク５を介して選択的露光を複数回行うレジストパターン形成方法であって、前記選択的露光毎に用いられるフォトマスク５の遮光部の透過率の総和を０〜１２％未満とすることを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the metal oxide thin-film pattern in a predetermined region on a substrate includes a process of applying an ink composition containing ions of metal to become metal oxide in an ink jet manner, wherein the ink composition has a viscosity of 3 to 40 mPa s and a surface tension of 10 to 70 mN/m.例文帳に追加

基板上の所定の領域に金属酸化物薄膜パターンを製造する方法であって、該金属酸化物となる金属のイオンを含むインク組成物をインクジェット方式により塗布する工程を含み、該インク組成物の、粘度が３〜４０ｍＰａ・ｓ、かつ表面張力が１０〜７０ｍＮ／ｍであることを特徴とする金属酸化物薄膜パターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

A photo-sensitive paste containing inorganic particulates and photo-sensitive organic component is applied onto a base board so that a coating film is formed, which is exposed to light and developed, and a bulkhead pattern is accomplished, and this method of manufacturing a plasma display is characterized by that the allowable width of photo-exposure in the exposing process is over 10%.例文帳に追加

無機微粒子と感光性有機成分を含む感光性ペーストを基板上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜を露光し、現像する工程を経て隔壁パターンを形成するプラズマディスプレイの製造方法であって、該露光工程における露光量許容幅が１０％以上であることを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法によって達成される。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask having a mask pattern formed of step parts of two or more kinds of height, includes, before a stage of forming at least one kind of step part in 2nd order or later, a stage of making the substrate surface smooth by coating the step parts formed in the previous stage with the photosensitive resin and then polishing the photosensitive resin.例文帳に追加

マスクパターンが２種類以上の高さの段差部から形成されるフォトマスクの製造方法において、２番目以降に形成される少なくとも１種類の段差部形成工程の前に、前工程によって形成された段差部に感光性樹脂を塗布し、次いで研磨を行うことにより基板表面を平滑にする工程を含むフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

In the method for dry etching which by using the metallic film of a high melting point formed through an oxide film on the surface of a substrate 14 arranged in a chamber by introducing reactant gas in the chamber 15 and energizing the reactant gas to generate plasma to generate active species and ions with a regist pattern as a mask, an induction coupled plasma(ICP) is used as a plasma source.例文帳に追加

チャンバー１５内に反応性ガスを導入し、その反応性ガスを励起してプラズマを発生させることにより活性種およびイオンを生成し、チャンバー内に配置した基板１４の表面に酸化膜を介して形成された高融点金属薄膜を、レジストパターンをマスクとして用いてドライエッチングする方法において、プラズマ源として、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）を用いる。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the composition of an antireflection film material for a photoresist which enables the formation of an antireflection film having high absorbance with respect to light of wavelengths used for exposure and the reduction in the adverse effect of standing waves caused by the reflection from a substrate, to improve the limit resolving power of the photo resist and to obtain a good resist profile and also to provide a resist pattern forming method using the composition.例文帳に追加

露光に用いられる波長の光に対して吸光度が高い反射防止膜が形成され、基板からの反射により発生する定在波の悪影響を低減することができ、その結果、フォトレジストの限界解像力が向上し、良好なレジストプロファイルが得られるフォトレジスト用反射防止膜材料組成物及びそれを用いたレジストパターン形成法を提供すること。 - 特許庁

The method includes: a step where an anodically oxidized coating is formed to light metal or an alloy thereof; a step where it is dipped into an aqueous solution containing at least one or more water soluble compounds selected from the group consisting of a water soluble zirconium compound, a water soluble vanadium compound and a water soluble titanium compound; and further; a step where a design pattern is printed or transferred thereto.例文帳に追加

軽金属又はそれらの合金に対して陽極酸化皮膜を形成する工程と、その後に、それぞれ水溶性のジルコニウム化合物、バナジウム化合物、チタン化合物の郡から選ばれた少なくとも１つ以上の水溶性化合物を含有する水溶液に浸漬する工程の後に、さらに、意匠模様を印刷又は転写する工程を含むことを特徴とする - 特許庁

To provide a method for producing a rolled food having a spiral pattern such as a cinnamon roll while preventing the escape of a filling material such as cinnamon sugar from the rolled food and suppressing the unrolling of the rolled food caused by the peel of the spiral joint part in the case of eating the rolled food subjected to heat-treatment such as baking.例文帳に追加

シナモンロールのような渦巻き模様を呈する巻き上げ食品を製造する際に、シナモンシュガーのようなフィリング材が巻き上げ食品から漏出することを防止可能とし、さらに、焼成等熱処理された巻き上げ食品を食する際に、渦状の合わせ部分からの剥がれによる巻き解けを抑制可能な巻き上げ食品の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

A resist pattern manufacturing method comprises a first process of applying a resist 11 on a substrate, a second process of exposing the resist 11 to light reaching the substrate so as to enable a plurality of regions of the resist 11 to be exposed to light varying in intensity corresponding to the plurality of regions, and a third process of baking the resist 11 after the exposure process is finished.例文帳に追加

レジストパターン製造方法において、基板にレジスト１１を塗布する工程と、前記基板まで到達する光で前記レジスト１１を露光する工程であって、前記レジスト１１は複数の領域を有し、それぞれの前記複数の領域が異なる強さで露光される前記露光工程と、前記露光工程後、前記レジスト１１をベークする工程とを有すること。 - 特許庁

To prevent the variation in developing pattern size near one end of a substrate and near the other end due to a time difference in the feed of a developer, in a developing method using a developing device for scanning a semiconductor substrate having an exposed photosensitive resin film with a rod-like developer jetting nozzle having a size corresponding to the diameter of the semiconductor substrate, in the still state of the substrate.例文帳に追加

露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。 - 特許庁

The method includes steps of forming a silicon nitride film 103 on a p-type silicon substrate 101, forming an aperture of a predetermined pattern on the silicon nitride film 103, forming a gate trench 104 on a semiconductor substrate 101 with a silicon nitride film 108 used as a mask, and thereafter embedding a polysilicon film 106 inside the gate trench 104 and in the aperture thereby self-alignedly forming a gate electrode.例文帳に追加

Ｐ型シリコン基板１０１上にシリコン窒化膜１０３を形成し、シリコン窒化膜１０３に所定のパターンの開口を形成し、シリコン窒化膜１０８をマスクとして用いて半導体基板１０１にゲートトレンチ１０４を形成した後、ゲートトレンチ１０４の内部および開口内にポリシリコン膜１０６を埋め込むことにより、ゲート電極を自己整合的に形成する。 - 特許庁

To provide a liquid droplet discharge apparatus capable of preventing an unnecessary pattern from being formed (plotted) on a work while preventing a work transfer table from being deflected, an electro-optical apparatus manufactured by using the liquid droplet discharge apparatus, a manufacturing method of the electro-optical apparatus using the liquid droplet discharge apparatus, and an electronic apparatus provided with the electro-optical apparatus.例文帳に追加

ワーク搬送テーブルの撓み変形を防止しつつ、ワーク上に不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができる液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁