「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(455ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface unevenness formation method comprises: the step of forming an energy-sensitive negative type resin composition containing at lest one or more kinds of polymerizable monomer or oligomer; the step of emitting 0.005 to 1.0J/cm^2 of active energy rays at least one or more times via a mask formed in a pattern; and the step of subjecting to post-heating without an etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上０．００５〜１．０Ｊ／ｃｍ^２照射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁

A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁

In this case, this method is characterized by imaging the outermost-layer wiring pattern of the semiconductor packaging multilayer interconnection board by using the illumination 5 having a wave range below 450 nm which is a low wave range of a transmission spectral sensitivity characteristic and a reflection spectral sensitivity characteristic of an insulating base material comprising a polyimide film or a polyimide resin and an insulating layer, or by using a band-pass filter 4.例文帳に追加

ここで、ポリイミドフィルムもしくはポリイミド樹脂からなる絶縁基材及び絶縁層の透過分光感度特性及び反射分光感度特性の低波長域である４５０ｎｍ以下の波長域を有する照明５、もしくはバンドパスフィルタ４を用いて、半導体パッケージ用多層配線板の最外層の配線パターンを撮像することを特徴とする。 - 特許庁

The pattern forming method includes the steps of: forming a first film on a substrate to be treated; forming a second film consisting of a silicon film on the first film, which has an optical absorption factor to the EUV (Extreme Ultraviolet) light smaller than that of the first film; forming a resist film on the second film; selectively irradiating the EUV light to the resist film; and developing the resist film.例文帳に追加

被処理基板の上に第１の膜を形成する工程と、第１の膜の上に第１の膜よりもＥＵＶ（Extreme UltraViolet）光に対する光吸収係数が小さく、シリコン膜である第２の膜を形成する工程と、第２の膜の上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜にＥＵＶ光を選択的に照射する工程と、レジスト膜を現像する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter substrate in which a plurality of color filters are formed through patterning processes, such as pattern exposure and development by use of an exposure mask having a transflective region formed at an end of a transmissive region so as to reduce an overlapped step-like portion of the color filter formed on a black matrix 21a, and to provide the color filter substrate.例文帳に追加

ブラックマトリクス２１ａ上に形成される着色フィルタのオーバーラップ（重なり）段差を減少させるために、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法及びカラーフィルタ基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The first and second electrodes 3a and 3b are formed by a method for forming the pattern of a printed wiring board.例文帳に追加

導電膜２から離隔して配置される第１および第２の電極３ａ、３ｂと、第１および第２の電極の３ａ、３ｂ間に交流電圧を印加する交流電源５と、導電膜２に流れる電流または回路インピーダンスに基づいて導電膜２の表面抵抗を算出する算出手段７とを備え、第１および第２の電極３ａ、３ｂは、プリント配線板のパターン形成方法により作成されている。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet manufacturing method to perform alloy processing by heating a steel sheet galvanized in a galvanizing bath, the temperature pattern to perform alloy processing is determined based on the temperature integration value obtained by multiplying the heating or cooling temperature (T) in the alloy processing by the time (t), and adding the products.例文帳に追加

亜鉛メッキ浴にてメッキを施した鋼板を加熱して合金化処理を行う合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法において、前記合金化処理における加熱・冷却中の温度（Ｔ）と時間（ｔ）とを掛け合わせて積算した温度積分値に基づいて、前記合金化処理を行う温度パターンを決定することを特徴とする合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal plating material using a polymer material is characterized in that a polymer electrolytic material is used as the polymer material, ion injection is carried out onto the surface of the polymer electrolytic material via a mask having a predetermined pattern, and thereafter the polymer electrolytic material is subjected to nonelectrolytic plating.例文帳に追加

高分子材料を用いて金属メッキ材料を製造する方法であって、前記高分子材料として高分子電解質材料を用い、所定のパターンを有するマスクを介して当該高分子電解質材料の表面にイオン注入を行なった後、当該高分子電解質材料に無電解メッキを施すことを特徴とする金属メッキ材料の製造方法。 - 特許庁

The method for controlling the surface topography of an adhesion plane comprises a step in which a microreplicated topography is formed from contacting a microembossed pattern to a layer of an adhesive so that the topography of the adhesive surface controls the performance of the adhesion interface when the adhesion interface is established between the layer of an adhesive and a supporting substrate.例文帳に追加

接着面の表面形態を制御する方法であって、接着剤層と支持基材との問に接着界面が確立されると、接着面の表面形態がその接着剤と前記支持基材との間の接着界面の性能を制御するように、微細エンボスパターンを接着剤層に接触させて、微細複製接着面を形成するステップを含む方法を開示する。 - 特許庁

An operation selection result database 114 of a recommended operation selection device 110 is configured to adapt similarity between a series of operations performed till this time and individual operations registered in a personal operation database 111 by a pattern matching method on the basis of the past plant data accumulated in a plant measured value database 150 and operation history data accumulated in an operation history database 160.例文帳に追加

推奨操作選定装置１１０の操作選定結果データベース１１４は、プラント計測値データベース１５０に蓄積された過去のプラントデータと、操作履歴データベース１６０に蓄積された操作履歴データとに基づくパターンマッチング手法により、これまで行われた一連の操作と個別操作データベース１１１に登録されている個別操作との類似度を採点する。 - 特許庁

As the manufacture, the made through hole is charged with resin paste, and after hardening of the charged resin paste, desmear treatment is applied to the laminate 1, and a metallic plated layer 4 by electrolytic plating method is made on this surface where desmear treatment is applied, and the needless section of the made plated layer 4 is removed by etching to form a wiring pattern.例文帳に追加

製造方法としては、形成したスルーホールに金属粒子を含有する樹脂ペーストを充填し、充填した樹脂ペーストの硬化後に、その積層体にデスミア処理を施して、このデスミア処理の施された表面に電解メッキ法による金属メッキ層（４）を形成し、形成されたメッキ層（４）の不要部分をエッチングにより除去し、配線パターンを形成する。 - 特許庁

The pattern forming method uses the composition.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び脂環構造を有する特定の基を側鎖に有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）酸の作用により水を発生する化合物、（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a printed circuit board with a high-density fine circuit pattern, by forming a high-density circuit by forming circuits in a portion where lands occupy to form a larger number of circuits in an insulating substrate with the same area, and a method capable of manufacturing the printed circuit board at low cost which makes signal transformation between layers smooth without requiring a complicated step.例文帳に追加

ランドが占める部分に回路を形成することができるようにして高密度の回路形成を可能とし、同一の面積の絶縁基板にさらに多い回路を形成して密集度の高い微細回路パターンの印刷回路基板を提供すること、層間の信号伝逹を円滑にし、複雑な工程を要せず安価な費用で印刷回路基板を生産できる製造方法を提供する。 - 特許庁

A hydrophobic mask layer 13 having water wettability lower than that of a conductive surface 12a is formed in at least a part on the conductive surface 12a of a substrate 12, a metal oxide is electrolytically deposited on the conductive surface 12a by an electrolytic deposition method, the metal oxide deposited on the hydrophobic mask layer 13 is removed to form a pattern of a metal oxide layer 14.例文帳に追加

基体１２の導電性表面１２ａ上の少なくとも一部に、水の濡れ性が導電性表面１２ａよりも低い疎水性マスク層１３を形成し、電解析出法により、導電性表面１２ａ上に金属酸化物を電解析出させるとともに、疎水性マスク層１３上に析出した金属酸化物を除去して、金属酸化物層１４をパターン形成する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition that has high fine dispersibility and high dispersion stability, high sensitivity, and high developability even in a high pigment concentration condition, a color filter that has high substrate adhesiveness, a high pattern shape, and high proper color characteristics, such as, contrast and color unevenness by using the colored curable composition, and to provide a manufacturing method for the composition.例文帳に追加

高顔料濃度条件化においても、微細分散性および分散安定性が良好で、感度が高く、且つ現像性が良好な着色硬化性組成物を提供し、前記着色硬化性組成物を使用することによって基板密着性に優れ、パターン形状が良好で、しかもコントラストや色ムラ等の色特性が良好なカラーフィルタ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: selecting a first cell to be reduced, from layout pattern data designed in advance; calculating the area of a free space which is adjacent to the first cell; and fixing one side selected according to the area of the free space, and for reducing the first cell by changing the other side opposite to the one side.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタンデータから縮小対象の第１セルを選択するステップと、第１セルに隣接する空き領域の面積を算出するステップと、空き領域の面積に応じて選択された一辺を固定し、前記一辺に対向する他の辺を変動させて前記第１セルを縮小するステップとを具備する。 - 特許庁

Crystal having characteristics (dielectric loss tangent: tan δ) better than that of fluororesin, LTCC or the like used conventionally as a substrate of a resonance part 1 and on which a fine metal film pattern can be formed by a photolithographic method is used as a crystal substrate 10, and a conductive line is formed on the crystal substrate 10 to form an inductance element 11 in the resonance part 1.例文帳に追加

従来から共振部１の基板として用いられているフッ素樹脂やＬＴＣＣなどよりも良好な特性（静電正接：ｔａｎδ）を持ち、しかもフォトリソグラフィ法により微細な金属膜のパターンを形成できる水晶を水晶基板１０として用いて、この水晶基板１０上に導電線路を形成して共振部１のインダクタンス素子１１を構成する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet for flooring in which at least a transparent resin layer and a transparent surface protective layer are laminated in turn on a base material sheet and which has an embossed uneven pattern developing good designability even when the thickness of the transparent resin layer is as thick as at least 200 μm, and a method for producing the decorative sheet for flooring.例文帳に追加

基材シート上に、少なくとも透明性樹脂層及び透明性表面保護層が順に積層されている床材用化粧シートであって、透明性樹脂層の厚さが２００μｍ以上と厚い場合であっても良好な意匠性を発揮するエンボス凹凸模様を有する床材用化粧シート、並びに当該床材用化粧シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing the magnetic recording medium, the UV curable resin material for pattern transfer is used, containing: at least one of 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-ethyl-2-adamatyl acrylate and 1, 3-adamantan dimethanol diacrylate; isobonyl acrylate; a multifunctional acrylate; and a polymerization initiator, or containing at least one of the acrylates, a polymerization initiator and a fluorinated alcohol.例文帳に追加

２−メチルー２ーアダマンチルアクリレート、２-エチルー２-アダマンチルアクリレート、及び１，３−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも１種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも１つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

To provide an easy method of forming a solder resist pattern by which electrical short circuit caused by solder between connection pads for connecting mutually adjacent semiconductors is prevented, a solder amount for securely fixing electrical connection of an electrode terminal of an electronic component and the connection pad corresponding to it is secured, and a wiring board with dense wiring and excellent electrical connection reliability is manufactured.例文帳に追加

互いに隣接する半導体接続用の接続パッド間の半田による電気的な短絡がなく、電子部品の電極端子とこれに対応する接続パッドとの電気的な接続を確実に固定するための半田量を確保でき、電気的接続信頼性に優れる高密度配線の配線基板を作製するための簡単なソルダーレジストパターンの形成方法を提供。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.例文帳に追加

アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processor, an image forming device, an image processing method, a computer program, and a recording medium therefor, preventing such a problem of unclearly displaying design pattern which should be displayed when copying an obtained original is copied, in an image processing to add design data representing the design patterns to obtained image data.例文帳に追加

取得画像データに、地紋パターンを表す地紋データを付加する処理を行う画像処理において、得られる原稿が複写される際に現れるべき地紋パターンがはっきり顕在しない問題が生じる虞がある場合は、斯かる問題の発生を未然に防止出来る画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのＥＵＶ露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるＥＵＶ光反射率の低下に対し、ＥＵＶ光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The wiring method of the semiconductor integrated circuit includes: a process for reading a net level information in a state that a preset pattern is stopped at predetermined timing; and a process which when a wiring pair matched with a previously defined adjacent condition exists, performs wiring based on the net level information so that the wiring pair is turned to different potential or the wiring pair is not matched to the adjacent condition.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路の配線方法は、プリセットパタンを所定のタイミングで停止させた状態でのネットレベル情報を読み込む工程と、予め定義された隣接条件に適合する配線ペアが存在すると、ネットレベル情報に基づいて、配線ペアが異電位になるか、又は配線ペアが隣接条件に適合しなくなるように配線を行う工程と、を備える。 - 特許庁

In the manufacturing method for the printer, a first and a second test patterns are printed by changing a relative position of adjoining short heads by a plurality of the number of times, a relative position between the short heads is determined by acquiring a joint density, and a density correcting value to an image part printed in an overlapping region is calculated on the basis of the pattern printed by the short heads at the determined relative position.例文帳に追加

隣接した短尺ヘッドの相対位置を複数変化させて第１、第２テストパターンを印刷し、繋ぎ目濃度を取得して短尺ヘッド間の相対位置を決定し、決定した相対位置である短尺ヘッドによって印刷されたパターンに基づいて重複領域で印刷される画像部分に対する濃度補正値を算出する印刷装置の製造方法 - 特許庁

In a method for carrying out the nano-imprint by inkjet in which an ink droplet D made of resist material is applied, the ink droplet D is applied on a substrate 3 so that an ink droplet interval Wa along a direction A approximately parallel to the direction of a line-shaped uneven pattern P1 becomes longer than an ink droplet interval Wb along a direction B approximately vertical to the direction A.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴Ｄを塗布しナノインプリントを行う方法において、ライン状凹凸パターンＰ１のライン方向に略平行な方向であるＡ方向に沿った液滴間隔Ｗａが、Ａ方向に略垂直な方向であるＢ方向に沿った液滴間隔Ｗｂより長くなるように、液滴Ｄを基板３上に塗布する。 - 特許庁

This production method includes processes of: plate-making first and second photosensitive layers 52a, 52b laminated on both sides of a laminated body 50 having a base material film 32, first and second electroconductive layers 40, 45 laminated on both sides of the base material film, and a light shielding layer laminated on the electroconductive layer; and thereafter etching the light shielding layer and the electroconductive layer to pattern them.例文帳に追加

製造方法は、基材フィルム３２と、基材フィルムの両側に積層された第１および第２の導電層４０，４５と、導電層上に積層された遮光層と、を有する積層体５０の両側に積層された第１および第２の感光層５２ａ，５２ｂを製版する工程と、その後、遮光層および導電層をエッチングしてパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a printing plate which sharply reproduces an edge shape with high resolution through laser irradiation so as to be used specially for a peel-apart printing method, patterns a water-repellent region corresponding to a printing area, and prevents disturbance of an edge shape of an ink pattern formed on the surface of an object to be printed resulting from the fact that a base material is hardly damaged on the laser irradiation.例文帳に追加

特に剥離印刷法に使用すべく、レーザ照射により、高い解像度でもってエッジの形状をシャープに再現しながら、画線部に対応する撥水性の領域をパターン形成できる上、前記レーザ照射の際に基材がダメージを受けにくいため、被印刷体の表面に形成されるインキパターンのエッジ形状が乱れたりしにくい印刷用版を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing metal foil with a pattern formed on at least one side thereof, includes the steps of: (A) precipitating metal by plating on a conductive surface of a conductive substrate for plating in which a recess is formed on the surface, the recess being formed so as to widen toward the opening direction; and (B) releasing the metal precipitated on the surface of the conductive substrate for plating.例文帳に追加

（Ａ）表面に開口方向に向かって幅広な凹部が形成されており、表面が導電性であるめっき用導電性基材の表面にめっきにより金属を析出させる工程、（Ｂ）上記めっき用導電性基材の表面に析出させた金属を剥離する工程を含むことを特徴とする、少なくとも片面にパターンが施された金属箔の製造方法。 - 特許庁

The method for producing paper that embosses a pattern after printing or printed matter includes, in a step for producing paper, coating the surface of paper with an aqueous solution of iron sulfate containing iron (II) sulfate or iron (III) sulfate to produce paper and printing the paper using dampening water containing an oxidizing substance such as a nitrate, chlorate, perchlorate, or permanganate, a part of peroxide, in a printing step.例文帳に追加

紙を製造する工程において、硫酸鉄（ＩＩ）あるいは硫酸鉄（ＩＩＩ）を有する硫酸鉄水溶液を紙の表面に塗布して紙を製造した後、印刷工程で硝酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、過マンガン酸塩、一部の過酸化物などの酸化性物質を有する湿し水を用いて印刷する、印刷後に模様の浮き出る紙または印刷物の製造方法。 - 特許庁

To provide a colored curing composition for a solid image pickup device capable of forming a cured film of high chroma saturation which is restrained in the precipitation of needle crystal of the cured film even if it contains polyhalogenated zinc phthalocyanine as a coloring agent, a color filter for a solid image pickup device restrained in the generation of needle-like foreign matter and equipped with a good rectangle color pattern, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

着色剤としてポリハロゲン化亜鉛フタロシアニンを含有する場合であっても、硬化膜の針状結晶の析出が抑制された高彩度の硬化膜を形成しうる固体撮像素子用着色硬化性組成物、針状異物の発生が抑制され、良好な矩形状の着色パターンを備える固体撮像素子用カラーフィルタ、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method of manufacturing the semiconductor device, in the semiconductor device 1 having a structure wherein a semiconductor chip 8 mounted on a principal surface of a package substrate 2 is sealed by a sealing member 11, conductor patterns 4 for wiring are arranged on the principal surface and the back surface of the package substrate 2, and a conductor pattern 4 for a dummy is arranged in a region where no conductor patterns 4 for wiring therein are arranged.例文帳に追加

パッケージ基板２の主面上に実装された半導体チップ８を封止部材１１によって封止した構成を持つ半導体装置１において、パッケージ基板２の主面および裏面に、配線用の導体パターン４を配置した他に、その配線用の導体パターン４が配置されていない領域にダミー用の導体パターン４とを配置した。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the parallax barrier 5A includes a pattern forming step of forming an aperture 53 to allow light to pass, and a light shielding part 52 configured to block the light on a thermally contracted barrier substrate 51 so that the plurality of the apertures 53 and the plurality of the light shielding parts 52 are alternately arranged at least in one direction, and a thermal contraction step of contracting the barrier substrate 51 by heating.例文帳に追加

この視差バリア５Ａは、熱収縮性を有するバリア基板５１に、光を通過させる複数の開口部５３、及び光を遮断する複数の遮光部５２が少なくとも一方向に交互に配列するように開口部５３及び遮光部５２を形成するパターン形成工程と、バリア基板５１を加熱して収縮させる加熱収縮工程とを備える。 - 特許庁

A molding mold is formed with a negative-engraved pattern on an inner face of the molding mold to be deeper than a squeezed deformation of an outer surface of layer-like prepregs after laminated, by molding pressure of the molding mold, and to be communicated with a mold outside, in this molding method for the composite molding material for molding/curing the plurality of layer-like prepregs after laminated and put into the molding mold.例文帳に追加

複数層の層状プリプレグを積層してから成形型内に入れて成形／硬化させる複合材成形品の成形方法において、前記成形型は、成形型の内面に、陰刻模様を、前記成形型の成形圧力による、前記積層後の層状プリプレグの外表面の絞り変形より深く、型外と連通するように形成する複合材成形品の成形方法。 - 特許庁

To provide a TAB (Tape Automated Bonding) tape increasing the reliability in a semiconductor package manufacturing process by preventing generation of foreign matter such as Cu particles with no presence of a Cu or metal pattern layer in a sprocket hole part where friction is generated due to a drive roller in progress of assembling a panel with a drive IC (Integrated Circuit) or a chip/drive IC; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ドライブＩＣまたはチップ／ドライブＩＣとパネルとのアセンブリ進行時に、駆動ローラにより摩擦が発生するスプロケットホールの部位にＣｕまたは金属パターン層が存在せず、Ｃｕパーティクルなどの異物の発生を防止することによって、半導体パッケージの製造工程において信頼性を向上させることができるＴＡＢテープ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a film of a block copolymer, including at least two kinds of polymers, on a substrate; heating the block copolymer film; irradiating the heated block copolymer film with UV light; and supplying a developing solution to the UV light-irradiated block copolymer film.例文帳に追加

少なくとも２種類のポリマーを含むブロック共重合体の膜を基板に形成するステップと、前記ブロック共重合体の膜を加熱するステップと、加熱された前記ブロック共重合体の膜に紫外光を照射するステップと、紫外光の照射を経た前記ブロック共重合体の膜に現像液を供給するステップとを含むパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound having excellent transparency in exposition at ≤300 nm wavelength, especially ≤160 nm wavelength, e.g. exposition by using F_2 laser as a light source, also excellent in etching resistance in dry etching and useful as a base resin of a resist material excellent in developing characteristics, a resist material, and a method for forming a pattern by using the same.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下、特に波長１６０ｎｍ以下での露光、例えばＦ_２レーザーを光源とする露光において、優れた透明性を有し、かつドライエッチングに対するエッチング耐性に優れ、かつ現像特性に優れたレジスト材料のベース樹脂として有用な新規高分子化合物並びにレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin letterpress for high-definition printing which ensures a uniform relief depth and avoids reduction in relief strength while maintaining edge sharpness of relief protrusions, or to provide a method for manufacturing an element panel for an organic El display by which a high-definition pattern of a luminescent layer of an organic EL element can be uniformly and stably formed using the resin letterpress plate.例文帳に追加

一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method for the semiconductor device has a process forming a photo-resist film on a film to be etched 11, a process forming rectilinear resist patterns 50 placed on the film to be etched 11 by exposing and developing the photo-resist film and a process forming a rectilinear pattern 11a by etching the film to be etched 11 while using the resist patterns 50 as masks.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、被エッチング膜１１上にフォトレジスト膜を形成する工程と、フォトレジスト膜を露光及び現像することにより、被エッチング膜１１上に位置する直線状のレジストパターン５０を形成する工程と、レジストパターン５０をマスクとして被エッチング膜１１をエッチングすることにより、直線パターン１１ａを形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The method is characterized by including: a step in which a porous body having three-dimensionally continuous cavities is exposed to a three-dimensional wiring pattern having at least two different two-dimensional patterns in the incident direction of light; and a step in which cavities of the exposed part of the porous body after exposed or unexposed part are selectively filled with a conductive material or its precursor.例文帳に追加

三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも２つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an imprint mold structure which efficiently and uniformly transfers a pattern by enhancing flow of a composition of an imprint resist layer when the imprint mold structure is pressed against the imprint resist layer, an imprint method which is improved in transfer accuracy by using the imprint mold structure, and a magnetic recording medium which is improved in recording and reproduction properties.例文帳に追加

インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

The method comprises processes of: forming a clad layer 12 on a substrate 11; forming in the clad layer 12 a mask 13 corresponding to the core pattern of the optical waveguide and forming a groove 14 for imbedding the core therein; forming the core 15 in the groove 14 through selective epitaxial growth; and forming an upper clad 16 on the core 15 through the selective epitaxial growth.例文帳に追加

基板１１上に、クラッド層１２を形成する工程と、クラッド層１２に光導波路のコアのパターンに応じたマスク１３を形成し、コアを埋め込むための溝１４を形成する工程と、選択エピタキシャル成長により溝１４にコア１５を形成する工程と、選択エピタキシャル成長によりコア１５の上に上部クラッド１６を形成する工程とを備えた。 - 特許庁

To provide an electron device package that covers an electron device with a heat radiation layer in which a cavity is formed before pattern buildup, prevents the gap between adhesives from being generated by injecting the adhesive via one side of the cavity while providing negative pressure via the other side of the cavity, and can stabilize handling and can be miniaturized, and to provide a method of manufacturing the electron device package.例文帳に追加

パターンビルドアップの前に、キャビティが形成された放熱層で電子素子をカバーし、キャビティの一側を介して陰圧を提供しながら、キャビティの他側を介して接着剤を注入することにより、接着剤間の空隙の発生を防止し、ハンドリングの安定化及び小型化を具現することができる、電子素子パッケージ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁