「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(453ページ目) - Weblio英語例文検索

For forming a light transmission path with SiO2, a mask such as resist pattern is formed on the substrate 1, a well in semicircular form is formed by etching the substrate 1 using the mask, SiO2 exhibiting flowability is grown in the shape of the cross section of a round using the mask through a liquid phase CVD method, and SiO2 is solidified.例文帳に追加

ＳｉＯ_2 で光伝送路を形成するには、基板上にレジストパターンなどのマスクを形成し、このマスクを用いて基板をエッチングすることにより半円形の溝を形成し、このマスクを用いて液相ＣＶＤ法により溝の部分に流動性を有するＳｉＯ_2 を円形の断面形状に成長させた後、このＳｉＯ_2 を固化させる。 - 特許庁

To provide printed matter, which has no problem on manufacturing cost and the desired matte pattern with surface unevenness on which can be favorably reproducibly and stably obtained, its forming method and an intermediate transfer recording medium in order to obtain a mat-like printed matter, which has a thermally transferred image thereon and the surface of which has fine unevenness.例文帳に追加

熱転写画像を有する印画物で、表面に微細な凹凸を有するマット状の印画物を得るために、製造コスト上、問題がなく、また表面凹凸を有した所望のマット柄を再現性良く、安定して得られることができる印画物とその形成方法、及びその印画物を形成するために使用する中間転写記録媒体を提供する。 - 特許庁

In the method for feeding electronic components contained in a tubular stick sequentially to a pickup position by oscillating the electronic components, oscillation pattern for carrying the electronic components to the pickup position is switched depending on the state of electronic components in the way of carriage.例文帳に追加

筒状のスティックに収容された電子部品を送り出し、該電子部品を振動駆動することで電子部品のピックアップ位置まで順次供給する電子部品供給方法において、電子部品をピックアップ位置まで搬送するための振動駆動を、搬送途中の電子部品の状態に応じて異なる種類の振動パターンに切り換えて行う。 - 特許庁

In the electron beam lithography device and the method for correcting the displacement amount, the backside shape distribution data of a place abutting on the pin of the pinch chuck are extracted from the backside shape distribution data of the EUV mask required for correcting the positional misalignment of a pattern, and the displacement amount is calculated only from the extracted backside shape distribution data.例文帳に追加

パターンの位置ずれ補正するために必要なＥＵＶマスクの裏面形状分布データのうち、前記ピンチャックのピンに接触する箇所の裏面形状分布データを抽出し、この抽出された裏面形状分布データのみから、前記位置ずれ量を算出する電子ビーム描画装置及び位置ずれ量補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low-inductance type laminated chip which has a stable operation characteristic even in a high frequency, and its manufacturing method by improving an internal pattern of the laminated chip, so that the directions of currents in the internal electrodes of mutually adjoining layers are opposite to each other and by balancing their inductance elements.例文帳に追加

この発明の目的は、積層チップの内部パタ-ンを改善して、相互に隣り合う層の内部電極から流れる電流の方向が相互に反対となるようにして、インダクタンス成分を相殺させることによって、高周波でも安定された動作特性をもつ低インダクタンス型積層チップおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a printed circuit board in which optical waveguides for a large area in various shapes are formed in a core layer, by performing an exposure process for the core layer using an exposure film formed with an optical waveguide pattern, after the ultraviolet ray setting core layer and clad layer are applied to the printed circuit board, and also to provide the manufacturing method of this board.例文帳に追加

紫外線によって硬化するコア層とクラッド層をプリント回路基板に塗布した後、光導波路パターンが形成された露光フィルムを用いてコア層に対する露光工程を行うことにより、コア層に様々な形状の大面積用光導波路が形成されたプリント回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises a step for executing a selective etching process using TMAH (Tetra-Methyl-Ammonium-Hydroxide) to form a plurality of trenches with slow inclination of the side surface, and a step for forming a gate pattern at the top of the substrate so that at least the inclination part of the trench acts as a part of a channel.例文帳に追加

本発明は、ＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａ−Ｍｅｔｈｙｌ−Ａｍｍｏｎｉｕｍ−Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）を用いた選択的エッチング工程を実施し、側面の傾斜が緩慢な複数のトレンチを形成するステップと、少なくとも前記トレンチの傾斜部分がチャネルの一部になるように前記基板上部にゲートパターンを形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.例文帳に追加

反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the flexible printed circuit board includes: a step of adhering masking tape 2 with its pattern opened onto a resin sheet 3; a step of forming an adhesion layer 5 on the resin sheet 3, onto which the masking tape 2 is adhered, by coating ultraviolet curing paint; and a step of forming a metal conductive layer 8 on the adhesion layer 5 by evaporating a metal conductive film.例文帳に追加

樹脂シート３上にパターンが開口されたマスキングテープ２を貼り付ける工程と、マスキングテープ２が貼り付けられた樹脂シート３上に、紫外線硬化型塗料を塗付して、密着層５を形成する工程と、密着層５上に金属導電膜を蒸着させて金属導電層８を形成する工程とを含むフレキシブル基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a power-saving driving device and a method for an identical load pattern apparatus which consider the loss characteristics of all components to minimize an amount of loss without obtaining loss characteristics data by conducting preliminary tests on wiring electric characteristics, the presence/absence of an electromagnetic noise eliminating element, the loss characteristics of each motor, a temperature change, etc.例文帳に追加

配線の電気的特性、電磁ノイズ除去用素子の有無、モータごとの損失特性及び温度変化、等を予め実験して損失特性のデータを取得することなく、すべての構成要素の損失特性を考慮して損失量を最小化することができる同一負荷パターン装置の省電力駆動装置及び方法を提供する。 - 特許庁

In this method of forming a barrier rib, the paste for forming barrier rib including at least the inorganic fine grains, the binder resin and the solvent is used so as to provide a barrier rib forming layer on a glass board, and after forming a resist pattern on the barrier rib forming layer, water or alkali solution is injected with pressurization for development, and a barrier rib is thereby formed.例文帳に追加

少なくとも無機微粒子と、バインダー樹脂と、溶剤とを含む隔壁形成用ペーストを用いて、ガラス基板上に隔壁形成層を設け、該隔壁形成層上にレジストパターンを形成させたのち、水またはアルカリ水溶液を加圧噴射する現像によって隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレーパネル用の隔壁形成方法。 - 特許庁

The method comprises: a process of forming a photo epoxy buffer layer having a groove pattern on the rear surface of a wafer substrate for marking scribe lines to be diced; a process of etching the substrate along the marking groove in the photo epoxy layer; and a process of cutting the wafer along the etching groove by a mechanical force from the front or rear surface to separate the wafer into singulated IC packages.例文帳に追加

ダイシングされるスクライブ線をマーキングするためにウエーハの基板の裏面に溝パターンを有するフォトエポキシバッファ層を形成する工程、フォトエポキシ層中のマーキング溝に沿って基板をエッチングする工程、表面または裏面から機械的な力によりエッチング溝に沿ってウエーハを切断し、個別のＩＣパッケージに分離する工程からなる。 - 特許庁

It has been found that a substrate having protrusions for controlling alignment having a high definition pattern can be manufactured at low costs and in a short step as compared with the case by photolithography, when the protrusions for controlling alignment of the liquid crystal display is formed by a printing method using a coating liquid having a specified composition by which burning is prevented and printability is heightened.例文帳に追加

液晶表示装置の配向制御用突起を、焼きつきを防止し、印刷性を高めた特定の組成を有する塗工液を用いて印刷法により形成した場合、フォトリソグラフィーによる場合と比べ低コストかつ短い工程で、精細パターンの配向制御用突起を有する基板を製造できることを見出した。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a gate electrode of a fine structure by effecting etching to two kinds of insulating films in independent steps, respectively, for substantially reducing the thicknesses of the insulating films, and thus shortening etching time and effectively mitigating aspect ratio, thereby optimizing conditions of thickness, exposure and development of a resist film for obtaining a fine and good resist opening pattern.例文帳に追加

２種の絶縁膜に対し独立した工程でエッチングを行い、絶縁膜の厚みを事実上薄くして、エッチング時間の短縮やアスペクト比を実効的に緩和して、微細で良好なレジスト開ロパタンを得るためのレジスト膜厚・露光・現像条件を最適化して、微細構造のゲート電極を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an unsaturated group-containing urethane resin for an active energy ray-curing which gives a coating film performance excellent in flexibility, softness, surface hardness, fouling resistance, weather resistance and the like, an active energy ray-curing composition using the resin and a method for forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

柔軟性、屈曲性等に優れ、かつ表面硬度、耐汚染性ならびに耐候性等にも優れた塗膜性能を得られる活性エネルギー線硬化用不飽和基含有ウレタン樹脂、該不飽和基含有ウレタン樹脂を用いた活性エネルギー線硬化組成物及び該活性エネルギー線硬化組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection method of a semiconductor element requiring to form a line for short-circuiting respective conductive patterns on a wafer in order to release charges generated in each conductive pattern during manufacturing process of a semiconductor element in which the inspection of electrical characteristics can be carried out appropriately before the wafer is diced.例文帳に追加

半導体素子の製造過程において各導電パターンに生じる電荷を逃すなどのために、各導電パターンを短絡させる短絡線をウエハー上に形成する必要がある半導体素子において、ウエハーの切断前に、電気的な特性の検査を適切に行うことができる半導体素子の検査方法を提供すること。 - 特許庁

The image synthesizing method comprises: a step for inputting a predetermined pattern image; a conversion step for coupling a plane conversion and a cylindrical column conversion; a coupling computation step for coupling linear difference coupling and alpha blend computation; and a horizontal synthesizing processing step for making processed images into one seamless wide angle image by horizontally coupling them mutually.例文帳に追加

所定のパターン画像を入力するステップ、平面及び円柱変換を結合する変換を行うステップ、線形差分結合とアルファブレンド計算を結合する結合計算を行うステップ、処理済画像を水平方向に互いに一緒にして１個の継ぎ目のない広角画像にする水平合成処理を行うステップから成る。 - 特許庁

To provide a measurement region setting device and a measurement region setting method capable of determining the optimum measurement point even in a color filter having a complex shape or having a TFT pattern in a lower layer and capable of determining the optimum measurement point independently of the color condition, and to provide a spectrometer.例文帳に追加

複雑な形状を有するカラーフィルタであったり、下層にＴＦＴパターンを有していたりしても最適な測定ポイントを決定することが可能であり、また、色具合によらずに最適な測定ポイントを決定することが可能となる測定領域設定装置、測定領域設定方法および分光測定装置を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method of an organic electroluminescent element is characterized by comprising: a step for providing a substrate with pixel electrodes formed; a step for laminating the donor substrate attached to a frame on the entire surface of the substrate; and a step for forming an organic film layer pattern on the pixel electrodes by radiating laser in a predetermined area of the donor substrate.例文帳に追加

本発明による有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にフレームに付着されたドナー基板をラミネーションする段階と、前記ドナー基板の所定領域にレーザーを照射して前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the woody fiberboard having the woodgrain pattern expressed by unevenness, a roll having unevenness on its surface is rotated while pressed to a raw material mixture containing small woody pieces and a binder to shape unevenness on the raw material mixture while molding the raw material mixture into a board shape.例文帳に追加

凹凸により表現される木目模様を有する木質繊維板の製造方法であって、木質小片と結着剤とを含む原料混合物に対して、表面に凹凸を有するロールを押圧しながら回転させることにより、原料混合物を板状に成形しながら凹凸を賦型することを特徴とする製造方法に係る。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device comprises steps of forming a film 40 on a semiconductor substrate 10, forming a mask having a predetermined pattern on the film 40, etching the film 40 or the semiconductor substrate 10 using the mask, and conducting a treatment with a chemical containing at least one of primary to quarternary amines and fluorine.例文帳に追加

半導体基板１０上に膜４０を形成するステップと、膜４０上に、所定のパターンを有するマスクを形成するステップと、マスクを用いて、膜４０又は半導体基板１０にエッチングを行うステップと、第１級乃至第４級アミンのうちの少なくとも１つと、フッ素とを含む薬液によって処理を行うステップとを備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal mask for screen printing which can meet the requirements of an ultrafine and high definition pattern by significantly improving the followability in case a second dry film resist is formed on a first metallic film through the procedure to positively remove a first dry film resist after the first metallic film is formed by plating using the first dry film resist.例文帳に追加

第１のドライフィルムレジストを利用して第１の金属膜メッキを形成した後、第１のドライフィルムレジストを積極的に除去することにより、第２のドライフィルムレジストを第１金属膜上に形成する場合の追従性を著しく改善して、極微細でかつ高精細なパターンの要求に答えられるスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法を得る。 - 特許庁

In a molding method of an inorganic foam panel wherein a slurry-like material 11 for producing an inorganic foam is cast into a mold 13 having a decorating surface 12 and foamed by heating to mold the inorganic foam panel having a decorating pattern, the whole of the decorating surface 12 is put in a state of being covered with the material 11 before the foaming by heating.例文帳に追加

無機質発泡体を生成するためのスラリー状の原料１１を加飾面１２を有する型１３内に注型し、加熱発泡させて加飾模様を有する無機質発泡体パネルを成形する無機質発泡体パネルの成形方法において、加熱発泡前に加飾面１２の全面を原料１１で覆った状態にする。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。 - 特許庁

To provide a rubber blanket for fine line patterning capable of printing a target pattern by a surface rubber of the rubber blanket having surface roughness within a prescribed range with respect to surface roughness of a surface of a printing body, and a method for manufacturing the rubber blanket having prescribed surface roughness.例文帳に追加

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

The intensity computation is performed on a forward scatter term and a backward scatter term of an exposure intensity distribution function, the proximity effect is corrected by varying the size of a mask pattern so that the width of an exposure intensity distribution of specific energy intensity becomes equal to design size, and an area density method is used for the backward scatter intensity computation.例文帳に追加

露光強度分布関数における前方散乱項及び後方散乱項の強度計算を行い、所定のエネルギー強度における露光強度分布の幅が設計寸法と一致するようにマスクパターンの寸法を変更して近接効果補正を行うこと、また、後方散乱強度計算に面積密度法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

This method for forming an electrode of a PDP is conducted wherein a photosensitive emulsion is coated on a substrate 1 to form a photosensitive film 50, a metal paste embedded mold is formed by exposing and developing an electrode pattern on the photosensitive film 50, a metal paste is embedded in the metal paste embedded mold and then the metal paste embedded mold is dissolved and removed.例文帳に追加

基板１上に感光乳剤を塗布して感光膜５０を形成し、前記感光膜５０上に電極パターンを露光して、これを現像することにより金属ペースト埋め込み型を形成し、前記金属ペースト埋め込み型に金属ペーストを埋め込んだのち、前記金属ペースト埋め込み型を溶解除去するＰＤＰの電極形成方法とする。 - 特許庁

In the medical action analyzing method and the program, basic medical examination information for each sickness and wound is extracted from medical examination information registered in a recording means 2 by an extraction means 4, a medical action for each sickness and wound is analyzed from the extracted basic medical examination information by an analysis means 5 and the standard medical action pattern is obtained.例文帳に追加

記録手段２に登録した診療情報から傷病毎の基本診療情報を抽出手段４により抽出し、抽出された基本診療情報から傷病毎の診療行為を解析手段５により解析して標準的な診療行為パターンを得る診療行為分析方法およびそのプログラムである。 - 特許庁

The manufacturing method for a layer pattern comprises a step (a) forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer thereby forming a region partitioned by the first layer and the second layer on the substrate, and a step (b) discharging a liquid material from the discharge part of a discharge device to the above region.例文帳に追加

層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁

To provide a barrier rib forming resin compound with excellent barrier rib forming characteristics, stability of preservation, and removal operation efficiency of relief pattern after elapse of time, and a barrier rib formation resin compound element with excellent workability; and a barrier rib manufacturing method which can shorten the manufacturing process of the barrier rib, and form the barrier rib with good shape.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのバリアリブ形成性及び保存安定性、経時のレリーフパターンはく離除去性に優れたバリアリブ形成用樹脂組成物、さらに作業性に優れるバリアリブ形成用樹脂組成物エレメント並びにプラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成できるバリアリブの製造法を提供する。 - 特許庁

The coating method enables the feed of the article to be coated on a conveying line while maintaining constant attitude to turn the color paler when a distance between a spray gun and the article to be coated increases and further a spraying pattern of the spray gun is formed such that it spreads in a direction of crossing an advancement direction of the article to be coated.例文帳に追加

塗装方法として、被塗装品を、搬送ライン上で一定の姿勢を維持させたままで送り、スプレーガンと被塗装品との距離が離れるほど色彩が淡くなるようにしたことを特徴とし、また、スプレーガンの噴霧パターンを、被塗装品の進行方向に交差する方向に広がるように形成させたことを特徴とする。 - 特許庁

The surface treatment method for the transparent conductive film comprises selectively changing the charge injection efficiency of the transparent conductive film by irradiating the transparent conductive film with ions in a plasma and then selectively irradiating it with electron beams having energy of a threshold value or larger for luminance disappearance, and, in turn, granting the desired luminescent pattern thereto.例文帳に追加

本発明の透明導電性膜の表面処理方法は、透明導電性膜にプラズマ中のイオンを照射した後、輝度消失のしきい値エネルギー以上の電子線を選択的に照射することにより、透明導電性膜の電荷注入効率を選択的に変化させ、もって所望の発光パターンを付与することを特徴とする。 - 特許庁

The color filter is characterized by having a transparent substrate, a lyophilic part arranged on the transparent substrate with a specified pattern having a contact angle with a liquid smaller than that of the transparent substrate and the pixel parts arranged by coating the lyophilic part with plural colors with an inkjet method.例文帳に追加

本発明は、透明基板と、この透明基板上に所定のパターンで設けられ、前記透明基板よりも液体との接触角が小さい親液性部と、この親液性部上にインクジェット方式により複数色を塗布して設けられた画素部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより上記目的を達成する。 - 特許庁

To provide a dipping type method and apparatus for removing resist with proper in-plane uniformity as compared with a shower system, without damaging wiring pattern in which re-adhesion of stripped metal dust is prevented, while enhancing the resist removing speed.例文帳に追加

本発明の目的は、シャワー式に比較して面内均一性がよく、配線パターンをキズ付けることの少ないディップ式のレジスト除去方法及び装置において、一旦剥離した金属屑が半導体基板に再付着することを防止するとともに、レジスト除去の処理スピードを向上させられるレジスト除去方法及び装置を提供することである。 - 特許庁

The method of manufacturing a structure comprises: a stage where a first catalyst 31 is formed on a substrate 10; a stage where the projection pattern of second catalysts 32 is formed on the first catalyst 31 by printing; and a stage where an electroless plating film 40 is formed on the first catalyst 31 and the second catalysts 32.例文帳に追加

本発明は、基板１０上に第１の触媒３１を形成する工程と、第１の触媒３１上に第２の触媒３２の凸パターンを印刷によって形成する工程と、第１の触媒３１および第２の触媒３２上に無電解めっき膜４０を形成する工程とを有する構造体の製造方法である。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes exposing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing polymer (A), an ethylenically unsaturated compound (B), a photopolymerization initiator (C) and at least one compound (D) selected from perylene, naphtho[2,3-a]pyrene, benzopyrene, dibenzo[b,def]chrysene and 9,10-diphenylanthracene with a laser exposer having an exposure wavelength of 390-420 nm.例文帳に追加

カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び、ペリレン、ナフト〔２，３−ａ〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔ｂ，ｄｅｆ〕クリセン、９，１０−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が３９０〜４２０ｎｍのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 - 特許庁

In a manufacturing method of the decorative sheet in which a pattern is printed on the surface of a thermoplastic resin base material and an acrylic transparent thermoplastic resin is heat-laminated through an anchor agent, the thermoplastic resin base material is added with porous calcium carbonate and the temperature of the heating roll at the heat lamination is 100-140°C.例文帳に追加

熱可塑性樹脂基材の表面に絵柄模様を印刷し、アンカー剤を介してアクリル系透明熱可塑性樹脂シートを熱ラミネートしてなる化粧シートの製造方法において、前記熱可塑性樹脂基材に多孔質炭酸カルシウムを添加してなり、熱ラミネート時の熱ロールの温度が１００〜１４０℃であることを特徴とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing semiconductor devices wherein a plurality of semiconductor elements formed on a wafer 5 are separated into individual devices by a dicing saw cutting the wafer 5 along scribe lines 30 in between the elements, at least the metal pattern is removed before dicing from the dicing lines 40 along which the wafer 5 is to be cut by the saw.例文帳に追加

半導体装置としてのウエハ５上に複数の半導体素子を形成した後、素子間のスクライブライン３０に沿ってダイシングソーで半導体装置を切断する半導体装置の製造方法において、スクライブライン３０のダイシングソーで切断する部分であるダイシングライン４０から少なくともメタルパターンをダイシング前に除去した。 - 特許庁

To provide a droplet discharge head capable of reducing a manufacturing cost for the droplet discharge head by making pitch units between nozzles equal to array pitch units such as filter elements and picture pixels by using an existing, commonly distributed droplet discharge head, and to provide a droplet discharge device, and a pattern forming base manufacturing method.例文帳に追加

一般に流通している既存の液滴吐出ヘッドを用いて、ノズル間ピッチ単位をフィルタエレメントや絵素ピクセル等の配列ピッチ単位と等しくなるようにして液滴吐出ヘッドの製作コストの低減を図ることができる液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置及びパターン形成基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Of the fluorescent display tube with a positive electrode layer pattern-formed by the photolithography method, the positive electrode layer is a calcined body of granular conductive metal powder and frit glass powder, with an average particle size of the former and the latter of 1 to 30 μm, each, and the former being granular aluminum metal powder.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によりパターン形成される陽極層を有する蛍光表示管であって、陽極層は粒状導電性金属粉末とフリットガラス粉末との焼成体であり、粒状導電性金属粉末とフリットガラス粉末の平均粒子径がそれぞれ１〜３０μｍであり、粒状導電性金属粉末が粒状アルミニウム金属粉末である。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step of selectively forming an under active layer containing a polymerization initiator on a surface of a layer to be etched on a substrate; a step of forming a polymer layer on the under active layer by living radical polymerization of an organic monomer; and a step of selectively etching the layer to be etched through the polymer layer as a mask.例文帳に追加

基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a data transfer device and a data transfer method for, when a signal column whose pattern is the same as that of a control signal column for showing the end position of a packet exists in data to be transferred, suppressing the decrease of a transfer processing speed as much as possible when converting the signal column into another signal column.例文帳に追加

転送の対象となるデータにパケットの終了位置を表すための制御信号列と同じパターンの信号列が存在する場合にはその信号列を他の信号列に変換する処理を行う場合に、転送処理速度の低下をできるだけ抑えることが可能なデータ転送装置およびデータ転送方法を得ること。 - 特許庁

In this method of forming a carbon nanotube, a desired carbon nanotube aligned structure is formed by forming a resist film on a flat substrate by coating an ultra violet sensitive resin for photo development, composing an aligned structure of a desired resist film pattern by exposing and developing it, and then treating it with a plasma in a reduced pressure atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

平坦な基板に写真現像用の紫外線感光性樹脂を塗布してレジスト膜を形成し、これを露光、現像してレジスト膜の所望パターンの配列構造を構成し、その後これを酸素を含む減圧雰囲気下でプラズマ処理し、所望のカーボンナノチューブ配列構造を基板上に形成することを特徴とするカーボンナノチューブの形成方法である。 - 特許庁

A liquid crystal blind 17 that a reduced projection exposure apparatus has is driven by a liquid crystal driving method to variably set an irradiation pattern of the irradiation light, and forms an optical opening section capable of controlling transmission and blocking of light by liquid crystal cell by application of a voltage to an electrode corresponding to the liquid crystal cell, so that the shape of an irradiation area can be optionally set.例文帳に追加

この縮小投影露光装置に備えられた液晶ブラインド１７は、液晶駆動方式で駆動されて照射光の照射パターンを可変設定し、各液晶セルに対応した電極への電圧印加で各液晶セル毎に光の透過、遮断を制御できる光学的開口部を成すため、照射領域の形状を任意に設定できる。 - 特許庁