「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(453ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of applying an even phosphor coating by preventing residual liquid at the lower end of a glass tube or an uneven coating toward the circumferential direction of the glass tube or of a wind ripple pattern, a cold cathode discharge tube made of this glass tube emitting light with stable optical characteristics and also a lighting system using the discharge lamp emitting light with uniform brightness.例文帳に追加

本発明は、ガラス管の下端部の液溜まりや円周方向もしくは風紋模様の膜ムラを防止し、均一な蛍光被膜を塗布する方法、そのガラス管を使用し安定した光特性で発光する冷陰極放電管、及びその放電管を使用した均一な輝度で光放出できる照明装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a reflection type electro-optical device capable of improving production efficiency by imparting a recessed and projected pattern for light scattering having a gentle surface shape to the surface of a light reflection film just by performing exposure and development to a photosensitive resin once, an electronic appliance provided with it, and a manufacturing method for the reflection type electro-optical device.例文帳に追加

感光性樹脂に対する露光、現像を１回、行うだけで光反射膜の表面になだらかな表面形状を備えた光散乱用の凹凸パターンを付与することにより、生産効率を向上することのできる反射型電気光学装置、それを備えた電子機器、および反射型電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask with a light blocking region capable of minimizing overexposure in the exposure field boundary on a wafer by enhancing the light blocking properties of the light blocking region on a reflective mask while eliminating the risk of damaging a transfer pattern, and to provide a reflective mask blank and a method of manufacturing a reflective mask.例文帳に追加

本発明は、転写パターンに損傷を及ぼす危険性を解消しつつ、反射型マスク上の遮光領域の遮光性を高めてウェハ上の露光フィールド境界部のオーバー露光を抑制できる遮光領域を有する反射型マスク、反射型マスクブランクス、および反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a game machine which can improve the players' interests suggesting the possibility at which a bonus is determined as the winning combination by a novel method using the combination of figures corresponding to a winning combination or a replay combination to be displayed on a pattern display area under an ordinary game state.例文帳に追加

一般遊技状態において、図柄表示領域に表示される入賞役やリプレイ役に対応する図柄の組合せを用いた斬新な方法によって、ボーナスが当籤役に決定されている可能性を遊技者に示唆することにより、遊技者の興趣を向上させることができる遊技機を提供することを目的とする。 - 特許庁

A method of manufacturing a thin film transistor comprises the steps of: forming a photoresist layer on a substrate; and selectively removing a part of the photoresist layer in a single exposure process and forming a primary photoresist pattern including a first part structure with a first width and a second part structure with a second width underlying the first part structure.例文帳に追加

前記基板の上にフォトレジスト層を形成するステップ、単一の露光プロセスで選択的に一部分のフォトレジスト層を取り除き、第一幅を有する第一部分の構造と、第二幅を有し、前記第一部分の構造の下にある第二部分の構造を含む第一フォトレジストパターンを形成するステップを含む薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing device, a manufacturing method and a manufacturing program for manufacturing a self-standing packaging bag by forming a cutoff line for opening the discharge opening of the bag in the pattern of cutting the side face of the bag for forming the opening as well as the side face of the bag round for facilitating discharge.例文帳に追加

自立型包装袋の注ぎ口を開封するときの切取り線を、自立型包装袋の側面部を切断するように構成することで、自立型包装袋の側面部の丸みと同様に注ぎ口も丸みが出来るので注ぎやすくなる自立型包装袋を製造する製造装置、製造方法、製造プログラムを提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a glazed substrate in which a glazed layer 2 is formed on a ceramic base 1 and in addition, a resist film 3 with a specified pattern is formed thereon and after an etching treatment, the resist film 3 is removed, by spraying sodium bicarbonate particles with a particle diameter of at most 250 μm with at least a pressurized liquid from a nozzle 5.例文帳に追加

セラミック基板１上にグレーズ層２を形成し、さらにその上に所定パターンのレジスト膜３を形成して、エッチング処理後にレジスト膜３を除去するグレーズ基板の製造方法において、ノズル５から粒子径が２５０μｍ以下の炭酸水素ナトリウム粒子を少なくとも加圧液体と共に吹付けてレジスト膜３を除去する。 - 特許庁

To provide a method for reliably forming a metal electrode pattern at an electrode on a semiconductor substrate by applying an adhesive sheet for releasing and removing a metal film to the metal film that is provided on the surface of an insulating part and an electrode part being provided on a semiconductor substrate, and appropriately releasing and removing a metal film on the surface of an insulation part by pulling and peeling.例文帳に追加

半導体基板上に形成された絶縁部と電極部の表面に設けた金属膜に金属膜剥離除去用接着シートを貼り付け、引き剥がしにより絶縁部表面の金属膜を良好に剥離除去して半導体基板上の電極部に確実に金属電極パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

In a method for manufacturing the electronic device, the electronic part 13 and the mounting board 11 are arranged so as to make one side 13a of the electronic part 13 confront one side 11a of the mounting board 11, and the connecting electrode 14 of the electronic part 13 is electrically connected and mechanically joined to the conductor pattern 12 of the mounting board 11.例文帳に追加

電子装置の製造方法では、電子部品１３の一方の面１３ａが実装基板１１の一方の面１１ａに対向するように、電子部品１３と実装基板１１とを配置し、電子部品１３の接続電極１４を実装基板１１の導体パターン１２に電気的に接続し且つ機械的に接合する。 - 特許庁

To provide a resin sheet with an attached color filter which is thin, light in weight, with a high gas barrier function and with low variation of yellow chromaticity, a precise and efficient method for manufacturing the resin sheet with the attached color filter preventing deviation of a pattern in laminating the color filter and the liquid crystal display device using the resin sheet with the attached color filter.例文帳に追加

本発明は薄型、軽量で高いガスバリア機能を有し黄色度変化率が小さいカラーフィルター付き樹脂シート、カラーフィルターを積層する際にパターニングの位置ずれを防止し精度よく効率的なカラーフィルター付き樹脂シートの製造方法、および上記カラーフィルター付き樹脂シートを用いた液晶表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same.例文帳に追加

銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

To provide an inspection method of a semiconductor element requiring to form a line for short-circuiting respective conductive patterns on a wafer in order to release charges generated in each conductive pattern during manufacturing process of a semiconductor element in which the inspection of electrical characteristics can be carried out appropriately before the wafer is diced.例文帳に追加

半導体素子の製造過程において各導電パターンに生じる電荷を逃すなどのために、各導電パターンを短絡させる短絡線をウエハー上に形成する必要がある半導体素子において、ウエハーの切断前に、電気的な特性の検査を適切に行うことができる半導体素子の検査方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the woody fiberboard having the woodgrain pattern expressed by unevenness, a roll having unevenness on its surface is rotated while pressed to a raw material mixture containing small woody pieces and a binder to shape unevenness on the raw material mixture while molding the raw material mixture into a board shape.例文帳に追加

凹凸により表現される木目模様を有する木質繊維板の製造方法であって、木質小片と結着剤とを含む原料混合物に対して、表面に凹凸を有するロールを押圧しながら回転させることにより、原料混合物を板状に成形しながら凹凸を賦型することを特徴とする製造方法に係る。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device comprises steps of forming a film 40 on a semiconductor substrate 10, forming a mask having a predetermined pattern on the film 40, etching the film 40 or the semiconductor substrate 10 using the mask, and conducting a treatment with a chemical containing at least one of primary to quarternary amines and fluorine.例文帳に追加

半導体基板１０上に膜４０を形成するステップと、膜４０上に、所定のパターンを有するマスクを形成するステップと、マスクを用いて、膜４０又は半導体基板１０にエッチングを行うステップと、第１級乃至第４級アミンのうちの少なくとも１つと、フッ素とを含む薬液によって処理を行うステップとを備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal mask for screen printing which can meet the requirements of an ultrafine and high definition pattern by significantly improving the followability in case a second dry film resist is formed on a first metallic film through the procedure to positively remove a first dry film resist after the first metallic film is formed by plating using the first dry film resist.例文帳に追加

第１のドライフィルムレジストを利用して第１の金属膜メッキを形成した後、第１のドライフィルムレジストを積極的に除去することにより、第２のドライフィルムレジストを第１金属膜上に形成する場合の追従性を著しく改善して、極微細でかつ高精細なパターンの要求に答えられるスクリーン印刷用メタルマスクの製造方法を得る。 - 特許庁

In a molding method of an inorganic foam panel wherein a slurry-like material 11 for producing an inorganic foam is cast into a mold 13 having a decorating surface 12 and foamed by heating to mold the inorganic foam panel having a decorating pattern, the whole of the decorating surface 12 is put in a state of being covered with the material 11 before the foaming by heating.例文帳に追加

無機質発泡体を生成するためのスラリー状の原料１１を加飾面１２を有する型１３内に注型し、加熱発泡させて加飾模様を有する無機質発泡体パネルを成形する無機質発泡体パネルの成形方法において、加熱発泡前に加飾面１２の全面を原料１１で覆った状態にする。 - 特許庁

The image synthesizing method comprises: a step for inputting a predetermined pattern image; a conversion step for coupling a plane conversion and a cylindrical column conversion; a coupling computation step for coupling linear difference coupling and alpha blend computation; and a horizontal synthesizing processing step for making processed images into one seamless wide angle image by horizontally coupling them mutually.例文帳に追加

所定のパターン画像を入力するステップ、平面及び円柱変換を結合する変換を行うステップ、線形差分結合とアルファブレンド計算を結合する結合計算を行うステップ、処理済画像を水平方向に互いに一緒にして１個の継ぎ目のない広角画像にする水平合成処理を行うステップから成る。 - 特許庁

To provide a measurement region setting device and a measurement region setting method capable of determining the optimum measurement point even in a color filter having a complex shape or having a TFT pattern in a lower layer and capable of determining the optimum measurement point independently of the color condition, and to provide a spectrometer.例文帳に追加

複雑な形状を有するカラーフィルタであったり、下層にＴＦＴパターンを有していたりしても最適な測定ポイントを決定することが可能であり、また、色具合によらずに最適な測定ポイントを決定することが可能となる測定領域設定装置、測定領域設定方法および分光測定装置を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method of an organic electroluminescent element is characterized by comprising: a step for providing a substrate with pixel electrodes formed; a step for laminating the donor substrate attached to a frame on the entire surface of the substrate; and a step for forming an organic film layer pattern on the pixel electrodes by radiating laser in a predetermined area of the donor substrate.例文帳に追加

本発明による有機電界発光素子の製造方法は、画素電極が形成された基板を提供する段階と、前記基板全面にフレームに付着されたドナー基板をラミネーションする段階と、前記ドナー基板の所定領域にレーザーを照射して前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。 - 特許庁

To provide a rubber blanket for fine line patterning capable of printing a target pattern by a surface rubber of the rubber blanket having surface roughness within a prescribed range with respect to surface roughness of a surface of a printing body, and a method for manufacturing the rubber blanket having prescribed surface roughness.例文帳に追加

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。 - 特許庁

To provide an unsaturated group-containing urethane resin for an active energy ray-curing which gives a coating film performance excellent in flexibility, softness, surface hardness, fouling resistance, weather resistance and the like, an active energy ray-curing composition using the resin and a method for forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

柔軟性、屈曲性等に優れ、かつ表面硬度、耐汚染性ならびに耐候性等にも優れた塗膜性能を得られる活性エネルギー線硬化用不飽和基含有ウレタン樹脂、該不飽和基含有ウレタン樹脂を用いた活性エネルギー線硬化組成物及び該活性エネルギー線硬化組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

The intensity computation is performed on a forward scatter term and a backward scatter term of an exposure intensity distribution function, the proximity effect is corrected by varying the size of a mask pattern so that the width of an exposure intensity distribution of specific energy intensity becomes equal to design size, and an area density method is used for the backward scatter intensity computation.例文帳に追加

露光強度分布関数における前方散乱項及び後方散乱項の強度計算を行い、所定のエネルギー強度における露光強度分布の幅が設計寸法と一致するようにマスクパターンの寸法を変更して近接効果補正を行うこと、また、後方散乱強度計算に面積密度法を用いることを特徴とする。 - 特許庁

This method for forming an electrode of a PDP is conducted wherein a photosensitive emulsion is coated on a substrate 1 to form a photosensitive film 50, a metal paste embedded mold is formed by exposing and developing an electrode pattern on the photosensitive film 50, a metal paste is embedded in the metal paste embedded mold and then the metal paste embedded mold is dissolved and removed.例文帳に追加

基板１上に感光乳剤を塗布して感光膜５０を形成し、前記感光膜５０上に電極パターンを露光して、これを現像することにより金属ペースト埋め込み型を形成し、前記金属ペースト埋め込み型に金属ペーストを埋め込んだのち、前記金属ペースト埋め込み型を溶解除去するＰＤＰの電極形成方法とする。 - 特許庁

In the medical action analyzing method and the program, basic medical examination information for each sickness and wound is extracted from medical examination information registered in a recording means 2 by an extraction means 4, a medical action for each sickness and wound is analyzed from the extracted basic medical examination information by an analysis means 5 and the standard medical action pattern is obtained.例文帳に追加

記録手段２に登録した診療情報から傷病毎の基本診療情報を抽出手段４により抽出し、抽出された基本診療情報から傷病毎の診療行為を解析手段５により解析して標準的な診療行為パターンを得る診療行為分析方法およびそのプログラムである。 - 特許庁

The manufacturing method for a layer pattern comprises a step (a) forming a first layer located on a substrate and a second layer located on the first layer thereby forming a region partitioned by the first layer and the second layer on the substrate, and a step (b) discharging a liquid material from the discharge part of a discharge device to the above region.例文帳に追加

層パターン製造方法は、基板上に位置する第１の層と前記第１の層上に位置する第２の層とを形成することで、前記第１の層と前記第２の層とによって区画された領域を前記基板上に形成するステップ（ａ）と、吐出装置の吐出部から前記領域に液状の材料を吐出するステップ（ｂ）と、を含む。 - 特許庁

To provide a barrier rib forming resin compound with excellent barrier rib forming characteristics, stability of preservation, and removal operation efficiency of relief pattern after elapse of time, and a barrier rib formation resin compound element with excellent workability; and a barrier rib manufacturing method which can shorten the manufacturing process of the barrier rib, and form the barrier rib with good shape.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのバリアリブ形成性及び保存安定性、経時のレリーフパターンはく離除去性に優れたバリアリブ形成用樹脂組成物、さらに作業性に優れるバリアリブ形成用樹脂組成物エレメント並びにプラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成できるバリアリブの製造法を提供する。 - 特許庁

The coating method enables the feed of the article to be coated on a conveying line while maintaining constant attitude to turn the color paler when a distance between a spray gun and the article to be coated increases and further a spraying pattern of the spray gun is formed such that it spreads in a direction of crossing an advancement direction of the article to be coated.例文帳に追加

塗装方法として、被塗装品を、搬送ライン上で一定の姿勢を維持させたままで送り、スプレーガンと被塗装品との距離が離れるほど色彩が淡くなるようにしたことを特徴とし、また、スプレーガンの噴霧パターンを、被塗装品の進行方向に交差する方向に広がるように形成させたことを特徴とする。 - 特許庁

The surface treatment method for the transparent conductive film comprises selectively changing the charge injection efficiency of the transparent conductive film by irradiating the transparent conductive film with ions in a plasma and then selectively irradiating it with electron beams having energy of a threshold value or larger for luminance disappearance, and, in turn, granting the desired luminescent pattern thereto.例文帳に追加

本発明の透明導電性膜の表面処理方法は、透明導電性膜にプラズマ中のイオンを照射した後、輝度消失のしきい値エネルギー以上の電子線を選択的に照射することにより、透明導電性膜の電荷注入効率を選択的に変化させ、もって所望の発光パターンを付与することを特徴とする。 - 特許庁

The color filter is characterized by having a transparent substrate, a lyophilic part arranged on the transparent substrate with a specified pattern having a contact angle with a liquid smaller than that of the transparent substrate and the pixel parts arranged by coating the lyophilic part with plural colors with an inkjet method.例文帳に追加

本発明は、透明基板と、この透明基板上に所定のパターンで設けられ、前記透明基板よりも液体との接触角が小さい親液性部と、この親液性部上にインクジェット方式により複数色を塗布して設けられた画素部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより上記目的を達成する。 - 特許庁

To provide a dipping type method and apparatus for removing resist with proper in-plane uniformity as compared with a shower system, without damaging wiring pattern in which re-adhesion of stripped metal dust is prevented, while enhancing the resist removing speed.例文帳に追加

本発明の目的は、シャワー式に比較して面内均一性がよく、配線パターンをキズ付けることの少ないディップ式のレジスト除去方法及び装置において、一旦剥離した金属屑が半導体基板に再付着することを防止するとともに、レジスト除去の処理スピードを向上させられるレジスト除去方法及び装置を提供することである。 - 特許庁

The method of manufacturing a structure comprises: a stage where a first catalyst 31 is formed on a substrate 10; a stage where the projection pattern of second catalysts 32 is formed on the first catalyst 31 by printing; and a stage where an electroless plating film 40 is formed on the first catalyst 31 and the second catalysts 32.例文帳に追加

本発明は、基板１０上に第１の触媒３１を形成する工程と、第１の触媒３１上に第２の触媒３２の凸パターンを印刷によって形成する工程と、第１の触媒３１および第２の触媒３２上に無電解めっき膜４０を形成する工程とを有する構造体の製造方法である。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes exposing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing polymer (A), an ethylenically unsaturated compound (B), a photopolymerization initiator (C) and at least one compound (D) selected from perylene, naphtho[2,3-a]pyrene, benzopyrene, dibenzo[b,def]chrysene and 9,10-diphenylanthracene with a laser exposer having an exposure wavelength of 390-420 nm.例文帳に追加

カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び、ペリレン、ナフト〔２，３−ａ〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔ｂ，ｄｅｆ〕クリセン、９，１０−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｄ）を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が３９０〜４２０ｎｍのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 - 特許庁

In a manufacturing method of the decorative sheet in which a pattern is printed on the surface of a thermoplastic resin base material and an acrylic transparent thermoplastic resin is heat-laminated through an anchor agent, the thermoplastic resin base material is added with porous calcium carbonate and the temperature of the heating roll at the heat lamination is 100-140°C.例文帳に追加

熱可塑性樹脂基材の表面に絵柄模様を印刷し、アンカー剤を介してアクリル系透明熱可塑性樹脂シートを熱ラミネートしてなる化粧シートの製造方法において、前記熱可塑性樹脂基材に多孔質炭酸カルシウムを添加してなり、熱ラミネート時の熱ロールの温度が１００〜１４０℃であることを特徴とする。 - 特許庁

In a method for manufacturing semiconductor devices wherein a plurality of semiconductor elements formed on a wafer 5 are separated into individual devices by a dicing saw cutting the wafer 5 along scribe lines 30 in between the elements, at least the metal pattern is removed before dicing from the dicing lines 40 along which the wafer 5 is to be cut by the saw.例文帳に追加

半導体装置としてのウエハ５上に複数の半導体素子を形成した後、素子間のスクライブライン３０に沿ってダイシングソーで半導体装置を切断する半導体装置の製造方法において、スクライブライン３０のダイシングソーで切断する部分であるダイシングライン４０から少なくともメタルパターンをダイシング前に除去した。 - 特許庁

To provide a droplet discharge head capable of reducing a manufacturing cost for the droplet discharge head by making pitch units between nozzles equal to array pitch units such as filter elements and picture pixels by using an existing, commonly distributed droplet discharge head, and to provide a droplet discharge device, and a pattern forming base manufacturing method.例文帳に追加

一般に流通している既存の液滴吐出ヘッドを用いて、ノズル間ピッチ単位をフィルタエレメントや絵素ピクセル等の配列ピッチ単位と等しくなるようにして液滴吐出ヘッドの製作コストの低減を図ることができる液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置及びパターン形成基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Of the fluorescent display tube with a positive electrode layer pattern-formed by the photolithography method, the positive electrode layer is a calcined body of granular conductive metal powder and frit glass powder, with an average particle size of the former and the latter of 1 to 30 μm, each, and the former being granular aluminum metal powder.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によりパターン形成される陽極層を有する蛍光表示管であって、陽極層は粒状導電性金属粉末とフリットガラス粉末との焼成体であり、粒状導電性金属粉末とフリットガラス粉末の平均粒子径がそれぞれ１〜３０μｍであり、粒状導電性金属粉末が粒状アルミニウム金属粉末である。 - 特許庁

The pattern forming method includes: a step of selectively forming an under active layer containing a polymerization initiator on a surface of a layer to be etched on a substrate; a step of forming a polymer layer on the under active layer by living radical polymerization of an organic monomer; and a step of selectively etching the layer to be etched through the polymer layer as a mask.例文帳に追加

基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a data transfer device and a data transfer method for, when a signal column whose pattern is the same as that of a control signal column for showing the end position of a packet exists in data to be transferred, suppressing the decrease of a transfer processing speed as much as possible when converting the signal column into another signal column.例文帳に追加

転送の対象となるデータにパケットの終了位置を表すための制御信号列と同じパターンの信号列が存在する場合にはその信号列を他の信号列に変換する処理を行う場合に、転送処理速度の低下をできるだけ抑えることが可能なデータ転送装置およびデータ転送方法を得ること。 - 特許庁

In this method of forming a carbon nanotube, a desired carbon nanotube aligned structure is formed by forming a resist film on a flat substrate by coating an ultra violet sensitive resin for photo development, composing an aligned structure of a desired resist film pattern by exposing and developing it, and then treating it with a plasma in a reduced pressure atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

平坦な基板に写真現像用の紫外線感光性樹脂を塗布してレジスト膜を形成し、これを露光、現像してレジスト膜の所望パターンの配列構造を構成し、その後これを酸素を含む減圧雰囲気下でプラズマ処理し、所望のカーボンナノチューブ配列構造を基板上に形成することを特徴とするカーボンナノチューブの形成方法である。 - 特許庁