prebakingとは 意味・読み方・使い方

A step of prebaking a photosensitive resist using the substrate heating device is carried out to manufacture the color filter at high quality.例文帳に追加

本発明の基板加熱装置を用いて感光性レジストのプリベーク工程を行うことにより、カラーフィルタを高品質で製造することができる。 - 特許庁

The exposure-development step thus follows the prebaking in a short time and the change of the resist pattern can be reduced.例文帳に追加

これによって、プリベークから短時間で連続して感光・現像工程に移ることが可能となり、レジストパターンの変動を減少させることができる。 - 特許庁

In a prebaking section 30, the wafer coated with a color resist film in this way is treated at a temperature of 80°C or higher, thus tightly baking the color resist film.例文帳に追加

一方、プリベーク部３０では、こうしてカラーレジスト膜が被膜されたウエハを「８０℃」以上の温度で熱処理することで、カラーレジスト膜の焼き締めを行う。 - 特許庁

Since the time from prebaking to exposure is made fixed, dimensional errors among lots or between wafers in the same lot can be diminished.例文帳に追加

即ち、プリベークから感光までの間の時間が一定となるため、ロット間の或いは同一ロットのウェハ間の寸法誤差を減少させることが可能となる。 - 特許庁

After prebaking, a mask with a predetermined pattern having at least one slit is placed on top of the photoresist film and the photoresist film is exposed to a light.例文帳に追加

前熱処理後、少なくとも一つのスリットを有する予め決定されたパターンを有するマスクをフォトレジスト膜上に配置し、このフォトレジスト膜が光に対して露出される。 - 特許庁

To provide a heat treatment device and a heat treatment method that can suppress entry of resist into a hole along its depth due to prebaking after resist application to suppress a defect in plating formation.例文帳に追加

レジスト塗布後のプリベークによるレジストの孔の深さ方向への入り込みを抑制できて、メッキ形成不良を抑制できる熱処理装置および熱処理方法を提供することにある。 - 特許庁

First, a photoresist film is formed on a substrate, and a prebaking step is conducted by heating the substrate having the photoresist film at a first temperature of from about 110°C to about 130°C.例文帳に追加

まず、フォトレジスト膜が基板上に形成され、前熱処理工程がフォトレジスト膜を有する基板を約１１０℃から約１３０℃の第１温度で加熱することにより実施される。 - 特許庁

A prebaking unit 34 is provided with a placing table 56 for placing a wafer W, a laser beam source 57 generating laser beam and a reflecting device 59 for reflecting the laser beam from the laser beam source 57.例文帳に追加

プリベーキングユニット３４に，ウェハＷを載置する載置台５６と，レーザ光を発生するレーザ光源５７と，レーザ光源５７からのレーザ光を反射させるための反射装置５９とを備える。 - 特許庁