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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23003件



例文

This method has a process step (S1) of condensing exposure light 112 to a master disk 108 coated with a photosensitive material 111 and subjecting the master disk to scanning exposure while modulating the light quantity thereof and a process step (S2) of forming the three-dimensional pattern shapes of the depth meeting exposure energy by developing the exposed master disk 108.例文帳に追加

感光性材料111が塗布された原盤108に露光光112を集光してその光量を変調しながらスキャニング露光する工程(S1)と、その露光された原盤108を現像することで露光量に応じた深さの3次元パターン形状を形成する工程(S2)と、を備える。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

This machining method for the encoder glass disk is so formed that the glass pane 1 sticking with an ultraviolet hardening tape 10 is mounted on an absorbing stand 12, the mechanical coordinates of the disk pattern 2 are determined by reading the alignment marks 11 on the glass pane 1 by a CCD camera 15, and the edge 17 of the coring grinding wheel cuts it to provide the glass disk.例文帳に追加

本発明によるエンコーダ用ガラスディスクの加工方法は、紫外線硬化テープ(10)を貼着したガラス板(1)を吸着台(12)上に載置し、ガラス板(1)のアライメントマーク(11)をCCDカメラ(15)で読み取ってディスクパターン(2)の機械座標を決定し、コアリング用砥石(16)の刃(17)が切断してガラスディスクを得る方法である。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, a mask pattern having a first mask 6b covering from a first region 1a to a second region 1b, a space part 7b provided above the second region, and a second mask 6c covering from the second region 1b to a third region 1c, is provided on conductive films 5a and 5b.例文帳に追加

半導体装置の製造方法では、導電膜上5a,5bにおいて、第1の領域1aから第2の領域1bまでを覆う第1のマスク6b、第2の領域の上方にスペース部7b、及び第2の領域1bから第3の領域1cまでを覆う第2のマスク6cを有するマスクパターンを設ける。 - 特許庁

例文

To provide an exposure method without causing any resolution failure on a face of an exposure object in a direct exposure device that forms a desired exposure pattern on a face of an exposure object by irradiating the face of the exposure object with light rays through a plurality of spatial light modulation elements, and to provide a computer program therefor.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁


例文

This pattern correction method alternately executes a process for applying a correction fluid 20 to the rib-missing defective part 35a, and a process for regularly baking the applied correction fluid 20 by local heating at a temperature in a range melting both the correction fluid 20 and a normal part of the rib 35 without breaking the shapes thereof.例文帳に追加

このパターン修正方法では、リブ欠け欠陥部35aに修正液20を塗布する工程と、修正液20とリブ35の正常な部分との両方が溶け、かつそれらの形状が崩れない範囲の温度で、塗布された修正液20を局所加熱により本焼成する工程とを交互に行なう。 - 特許庁

To provide an unexposed original disk for an optical recording medium wherein formation of a pit pattern and a groove is facilitated while the constitution of an exposure device, condition determination before exposure and exposure machine operation during exposure are simplified at a reduced cost, to provide its exposure method and to provide an undeveloped original disk for the optical recording medium obtained by the exposure.例文帳に追加

ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストを抑制できる光記録媒体用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤の提供。 - 特許庁

In this method for coating the building board, a natural groove pattern coating film with stereoscopic effect is formed by spraying a coating material adjusted to have 2,000-300,000 mPa s viscosity to the groove part of the building board using a fine spray nozzle having 0.3-3.0 mm diameter at 0.02-0.3 mPa atomizing air pressure.例文帳に追加

建築板の溝部に対して、口径0.3〜3.0mm、アトマイズエアー圧力0.02〜0.3mPaの微細噴霧ノズルで、粘度2,000〜30,000mPa・sに調整した塗料を噴霧することにより、自然で立体感のある溝模様塗膜を形成させることを特徴とした建築板の塗装方法とする。 - 特許庁

To provide a polymer which has dry etching resistance, is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, has small line edge roughness of resist patterns and can resist to thin resist films, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

DUVエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

This image preparation method includes the selection (first selection) of the optional color display image out of the plurality of kinds of color display images, on the image selection dialogue 60, and the selection (second selection) of the optional monochromated pattern out of the plurality of kinds of optional monochromated patterns corresponding to the first-selected color display images.例文帳に追加

画像選択ダイアログ60に、複数種類のカラー表示画像の中からの任意のカラー表示画像を選択(第1選択)することと、この第1選択したカラー表示画像に対応する複数種類のモノクロ化パターン中から任意のモノクロ化パターンを選択(第2選択)することとを実施可能とする。 - 特許庁

例文

This manufacturing method for the printed board includes a printing process wherein a paste material 4 is extruded toward one printing matter 5 through a cavity part by scanning a screen mask 1 with the cavity part while pressing it by means of a plurality of squeegees 2 and 3, so that a pattern can be formed on the surface of the printing matter 5.例文帳に追加

印刷基板の製造方法は、空隙部を有するスクリーンマスク1を複数のスキージ2,3で押圧しながら走査することによって、ペースト材料4を上記空隙部を通して一つの被印刷物5に向けて押し出して、被印刷物5の表面にパターンを形成する印刷工程を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a card by thermally laminating a layer having printed patterns, characters, or the like and an overcoat layer on a card base material, which does not cause inconvenience such as cracks or peeling-off in the overcoat layer due to bubbles generated under the overcoat layer, or cracks in the pattern printed layer.例文帳に追加

カード基材に絵柄や文字等を印刷した層と、オーバーコート層とを熱ラミネートして作製するカードの製造方法において、オーバーコート層の下に気泡が発生してオーバーコート層に亀裂が生じたり剥がれたり、または、絵柄印刷層に亀裂が入るという不具合を発生させない製造方法を提供する。 - 特許庁

In the fine pattern correction method, laser light α, irradiated on a given position deviated from the center 32a of an objective lens 32, refracted with the objective lens 32, and directed toward a focus F is irradiated aslant from upward on a side wall face of the correction part 30 consisting of correction paste 21 coated on a rib chip defect 85.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、対物レンズ32の中心32aから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ32で屈折して焦点Fに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥85に塗布した修正ペースト21からなる修正部30の側壁面に斜め上方から照射する。 - 特許庁

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which center distances of respective parts can be automatically adjusted in the multiple type page imposed printing in response to the results of measurement obtained through the thickness of an ink film or the amount of embossing of a picture pattern having the embossed part of a sample printed article.例文帳に追加

サンプル印刷物のエンボス部を有する図柄のインキ皮膜厚さやエンボス量を測定し、それらの測定結果に応じて多面付け印刷に際して、各部の芯間距離を自動的に調整し得るようにした多面付け印刷における印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process where resin 30 is provided on one surface of a wiring board 20 where a thin-film pattern is formed on at least one surface of a base substrate 22, and the identification display is made depending upon whether the resin 30 is exposed from a surface opposite to the surface where the resin 30 is provided.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、ベース基板22の少なくとも一方の面に薄膜パターンが形成された配線基板20の一方の面に樹脂30を設ける工程を含み、前記樹脂30が設けられる面とは反対側の面からの、前記樹脂30の露出の有無によって識別表示がされる。 - 特許庁

The method comprises the steps of: cleaning an etching residue of the workpiece remaining on the etched pattern with a first chemical liquid; rinsing the workpiece subjected to cleaning with the first chemical liquid with a rinse liquid; and applying an application liquid designed to form an insulating film to the workpiece subjected to rinsing.例文帳に追加

前記被加工物のエッチング加工された前記パターン間のエッチング残渣を第1の薬液により洗浄する工程と、前記第1の薬液による洗浄の後前記被加工物をリンス液でリンスする工程と、前記リンスの後前記被加工物に絶縁膜形成用の塗布液を塗布する工程とを備える。 - 特許庁

A CPU data reading controller 104 for reading out data from a memory 103 in accordance with a block access request from a CPU 101 converts the block access data on the basis of a specific method when a specific pattern '1111' is included in the data read out from the accessed memory and supplies the converted data to the CPU 101.例文帳に追加

CPU101からのブロック・アクセス要求に応じてメモリ103からデ−タを読出すCPU用デ−タ読出し制御装置104において、アクセスしたメモリからのリード・データに特殊パタ−ン1111があるときは、そのブロック・アクセス・データを特定の方式に従って変換しCPU101に供給する。 - 特許庁

The wireless base station equipment 3 employs SDMA (spatial division multiple access) method in which a plurality of antenna elements 11a, 11b, and 11c are used to form beam of the radiation pattern having different directivity for each user terminal, and the same channel is simultaneously assigned to a plurality of user terminals for communication.例文帳に追加

無線基地局装置3は、複数のアンテナ素子11a,11b,11cを用いてユーザ端末毎に指向性の異なる放射パターンのビームを形成し、複数のユーザ端末に対して同時に同じチャネルを割当てて通信を行う空間分割多重接続(SDMA:Spatial Division Multiple Access)方式の無線基地局装置である。 - 特許庁

This method for performing the calibration of the camera for photographing an object from different directions has a 1st step to obtain the projection matrix of the camera and a 2nd step to a photograph a chart for calibration where a dot pattern is displayed from the different directions by the camera, so that the previous projection matrix is corrected by using the obtained image.例文帳に追加

対象物を異なる方向から撮影するためのカメラのキャリブレーションを行う方法であって、カメラの投影行列を求める第1のステップと、ドットパターンが表示された校正用チャートを異なる方向からカメラで撮影し、得られた画像を用いて先の投影行列を修正する第2のステップとを有してなる。 - 特許庁

To provide a conductive wiring structure where a catalyst that is to be the base of the conductive wiring pattern can be steadily bonded to a plastic substrate, to increase the adhesiveness of the plastic substrate and the conductive wiring, without using a specific processing or treatment accompanied with a complicated man-hour or various defects and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

煩雑な工数や種々の不具合を伴う特別な加工や処理を必要とせずに、プラスチック基材と導体配線との密着性を高めるために、導体配線パターンのベースとなる触媒がプラスチック基材と強固に接着できる導体配線構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element without causing any problem of color unevenness even when being used for a compact liquid crystal display of a transflective type for performing a retardation control by a retardation layer in a pattern lamination layer part composed of the retardation layer and a step difference adjustment layer.例文帳に追加

位相差層と段差調整層とからなるパターン積層部における該位相差層により位相差制御を可能とする光学素子において、小型の半透過半反射型の液晶表示装置に用いた場合であっても色ムラの問題が生じることがない光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In an embodiment, the method includes a step of acquiring information about the shift in the characteristics and a step of determining a desired change in phase to compensate at least partially for the shift in the characteristics to be applied to at least part of a radiation beam used to apply a pattern feature to a substrate.例文帳に追加

一実施形態では、この方法には、特性のずれに関連する情報を得る工程と、基板にパターンフィーチャを加えるために使用される放射ビームの少なくとも一部に加えられる、特性のずれを少なくとも部分的に補償することになる所望の位相変化を決定する工程が含まれている。 - 特許庁

In the wax pattern in the lost wax casting method in which a plurality of product parts as a whole are fitted to a center sprue part or runner parts which is branched from the center sprue part through two or more gate parts in each product part, a notch is formed in the center sprue part or the runner part between the gates of one of the product parts.例文帳に追加

センタースプルー部又はセンタースプルー部から分岐されたランナー部に全体として複数の製品部が各製品部で二つ以上のゲート部を介して取付けられたロストワックス鋳造法におけるワックス模型において、各製品部のいずれかのゲート部間のセンタースプルー部又はランナー部にノッチを形成した。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.例文帳に追加

(ア)化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び(エ)有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic laminate that is restrained from being deformed, improved in the adhesion of a conductor pattern to a ceramic green sheet, capable of restraining conductor paste from oozing out, and superior in quality and reliability even when the ceramic green sheets are made thinner so as to increase the laminated ceramic sheets in the number of layers.例文帳に追加

セラミックグリーンシートを薄層化して積層数を増加した場合にも、セラミック積層体の変形を抑えることができるとともに、導体パターンとセラミックグリーンシートの密着性を向上でき、且つ導体ペーストのにじみを抑制できる高品質かつ高信頼性のセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

As the manufacturing method of the packing for seal, in the case of the annular packing for seal, the packings are cut out in such a pattern that one packing for seal is plurally arranged in a circular or an elliptical shape on a material plate.例文帳に追加

また、本発明に係るシール用パッキンの製造方法は、弾性を有する柔軟な材料板から切り抜き成形される環状のシール用パッキンの製造方法において、材料板に1つのシール用パッキンが長円又は楕円状にして複数並べたパターンで切り抜き成形されることを特徴とする。 - 特許庁

The production method comprises the steps of forming an uneven pattern 3 and the grooves 5 on the four sides of the surface 2 of the ceramic building green plate 1 when the pressing is performed on a surface 2 of the ceramic building green plate 1 and forming a plurality of the drain grooves 6 formed on at least one side in parallel with the groove 5 on a trimming part 7.例文帳に追加

窯業系建築生板1の表面2にプレスする際に、窯業系建築生板1の表面2の四周に凹凸模様3と同時に溝部5を形成し、この溝部5に連設するように少なくとも一辺に複数個形成した排水溝6をトリミング部7に形成する製造方法である。 - 特許庁

To provide a device and a method of manufacturing a light guide plate capable of correctly forming a desired pattern on the light guide plate, of manufacturing the light guide plate excelling in quality by preventing deformation of the light guide plate, of increasing a yield, and of reducing manufacturing cost; and a scraper used for them.例文帳に追加

導光板に所望のパターンを正確に形成すると共に、導光板の変形を抑制して品質に優れた導光板の製作を可能にし、歩留まりを増大させると共に、製造コストを下げられる導光板の製造方法及び製造装置とそれに用いられるスクレーパを提供する。 - 特許庁

To provide a control method of a printing press using prepress data in which digital data of monochromatic photograph, figure, and characters and digital image data of each color obtained in a prepress region can be utilized effectively in place of pattern area rate gauge and associated apparatus in a print region required for presetting the ink key opening.例文帳に追加

インキキー開度のプリセットに必要とする刷版領域における絵柄面積率計及び関連器材の使用の代わりに、プリプレス領域において得られるモノクロ写真、図形、文字のデジタルデータ及び色別画像デジタルデータの有効利用を可能とするプリプレスデータを用いた印刷機の制御方法を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing method for the electromagnetic-wave shielding transparent film, the conductive metallic foil is laminated to a plastic supporter through the resin layer using the smooth surface of the metallic foil as the resin layer side, and a part of the metallic foil is removed so that an opening ratio reaches 50% or more and the geometric pattern is formed.例文帳に追加

プラスチック支持体に樹脂層を介して導電性金属箔をその滑らかな面を樹脂層側にして積層し、その導電性金属箔を開口率が50%以上となるように一部除去して幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールド性透明フィルムの製造方法。 - 特許庁

The method of forming an oxide film pattern includes a step of forming an oxide film on a semiconductor substrate, a step of implanting boron ions of 1.0×10^16 pieces/cm^2 or more into the oxide film in a predetermined region, and a step of wet-etching a region where no boron ion is implanted in the oxide film.例文帳に追加

半導体基板上に酸化膜を形成する工程と、所定領域の酸化膜上に1.0×10^16個/cm^2以上のボロンイオンを注入する工程と、前記酸化膜における前記ボロンイオンの注入されなかった領域を湿式エッチングする工程と、を含む酸化膜パターンの形成方法とした。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a (first) mask material film 13 on the film 12 to be worked, a step of making a tapered opening pattern 18 on the film 13, and a step of etching the film 12 by using the film 13 as a mask.例文帳に追加

被加工膜12上に(第1の)マスク材料膜13を形成する工程と、前記(第1の)マスク材料膜13にテーパ形状の開口パターン18を形成する工程と、前記(第1の)マスク材料膜13をマスクに用いて前記被加工膜12をエッチング加工する工程とを備えた半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method, the resist layer of a desired color is formed on an ultraviolet ray absorption layer 16 on the element of the substrate, pattern exposure 22 is then performed on a surface of the layer so as to form the slopes on the opposite side of the substrate with respect to a lateral side of the layer, and film hardening treatment is performed after developing the layer.例文帳に追加

製造方法は、上記基板の上記素子上の紫外線吸収層16の上に所望の色の上記レジスト層を形成後、この層の表面に現像後にこの層の側面に対し上記基板の反対側に上記斜面が形成されるようパターン露光22し、この層を現像後に硬膜処理を行なう。 - 特許庁

In this method, an exciting light capable of causing a self- fluorescence is emitted to the contact lens having a part changed in thickness in the circumferential direction of the lens, and the lens attitude is inspected or discriminated by the luminance pattern of a lens fluorescent image formed by the self-fluorescence caused by the emission of such an exciting light.例文帳に追加

レンズ周方向において厚みが変化する部位を有するコンタクトレンズに対して、自家蛍光を生ぜしめ得る励起光を照射し、かかる励起光の照射によって生じる自家蛍光にて形成されるレンズ蛍光像の輝度パターンより、レンズ姿勢を検査乃至は判定するようにした。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin having a repeat unit represented by general formula (I) and a repeat unit represented by general formula (II), and (B) a compound which generates an acid by irradiating with an active ray or radiation, and the pattern forming method using the positive photosensitive composition is also provided.例文帳に追加

(A)一般式(I)で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To solve the problem in a conventional method for manufacturing an ink jet recording head that the ejection characteristics deteriorate due to fine scum (residue of development) produced through pattern exposure of ink ejection opening (nozzle) and can not follow up higher image quality and higher definition required by a modern printer.例文帳に追加

従来のインクジェット記録ヘッドの製造方法においては、インク吐出口(ノズル)のパターン露光における微細なスカム(現像残渣)が生成されるため、吐出特性が低下し、近年のプリンタに要求される益々の高画質化、高精細化に追随できないため、スカムの生成をなくする製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加

本発明は、SiCを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、SiC基板1の{0001}面に、アライメントマーク2を形成する工程と、アライメントマーク2に基づき、転写マスクとSiC基板1との位置合わせを行いSiC基板1上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

In the mask layout pattern verification method of a semiconductor integrated circuit, predetermined rectangular data is selected by examining the number of vertexes and the presence of a long side for data to be verified, the coordinates of four vertexes are extracted for the selected rectangular data, and the long side direction and the coordinate of the center of the rectangular data are calculated.例文帳に追加

半導体集積回路のマスクレイアウトパターン検証方法において、検証対象データに対して頂点数と長辺の存在を調べることにより、所定の矩形データを選別し、選別された矩形データに対して、4頂点の座標を抽出し、矩形データの長辺方向及び中心座標を算出する。 - 特許庁

To provide a packaging method of a semiconductor chip for preventing short-circuiting in wiring without correcting misalignment even if there is the positional misalignment between a substrate-side terminal of a substrate and a connection terminal of a semiconductor chip to a certain degree when packaging the semiconductor chip onto the substrate, and for facilitating the data processing of a discharge pattern.例文帳に追加

基板上に半導体チップを実装するに際して、基板の基板側端子と半導体チップの接続端子との間にある程度の位置ズレがある場合でも、位置ズレを補正することなく配線のショートを防止し、吐出パターンのデータ処理を容易にした、半導体チップの実装方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the housing includes: a step to provide a mold in which a fine uneven pattern for imparting the matte effect is formed; a step to provide a sheet and arrange the sheet in the mold; and a step in which a molding material is injected into the mold and a base material layer is molded on the sheet.例文帳に追加

本発明のハウジングの製造方法は、艶消し効果を付与する微細凹凸模様が形成された金型を提供するステップと、薄板を提供し、前記薄板を前記金型内に配置するステップと、前記金型内に成形材料を注入して、前記薄板の上に基材層を成形するステップと、を含む。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board of high reliability having an insulating layer which is superior in insulation reliability, has high thermal resistance and toughness, is superior in copper wire adhesion, and can form a fine roughened surface suitable for forming a fine pattern, and to provide a method for manufacturing a multilayer printed board which can manufacture the printed board easily at a low cost.例文帳に追加

絶縁信頼性に優れ、高耐熱性で、靱性が強く、銅線密着性が良好で、かつファインパターンの形成に適した微細粗化表面を形成可能な絶縁層を有する信頼性の高い多層プリント配線板及びそれを容易にかつ安価に製造し得る多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a long-time operation including starts and stops and high durability in an operation pattern including a lot of starts and stops by providing a fuel cell power generation method capable of preventing deterioration due to the corrosion of an electrode in starting a fuel cell without damaging the fuel cell.例文帳に追加

燃料電池の起動時における電極の腐食による劣化を回避し、燃料電池にダメージを与えない燃料電池発電方法を提供することにより、起動停止を含んだ長時間運転、起動停止を多く含んだ運転パターンにおける高い耐久性を実現することを目的とする。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method of extracting the parameters of an exposure light intensity distribution function optimal for correcting exposure data on a proximity effect so as to form a pattern of high dimensional accuracy, in accordance with exposure data corrected on a proximity effect on the basis of an exposure light intensity distribution function.例文帳に追加

露光強度分布関数に基づいて近接効果補正処理を行った露光データに従って露光を行う荷電粒子ビーム露光方法に関し、露光データの近接効果補正処理に最適な露光強度分布関数のパラメタを抽出し、寸法精度の高いパターンを作成することができるようにする。 - 特許庁

To provide an imaging/printing system, an imaging apparatus a print performance exhibition state reporting method, and a computer readable medium which enable free selection of print area designation frames of various sizes keeping an aspect ratio of a print area unequivocally determined by vertical and horizontal sizes of a print form and a selected print pattern.例文帳に追加

印刷用紙の縦横のサイズ、選択されたプリントパターンにより一義的に決まるプリント領域のアスペクト比を保った複数のサイズのプリント領域指定枠を自由に選択すること等を可能とした撮像/印刷システム、撮像装置、印刷性能発揮状態報知方法、及びコンピュータ読み取り可能な媒体を提供する。 - 特許庁

The method further includes the steps of then, removing the plated resist layer 3, thereafter forming an etching resist layer 7 of the thickness capable of coating the bump 4 and the register mark 5, aligning and exposure developing a predetermined wiring pattern on the etching resist layer 7 to the register mark 5, and etching to form circuit wiring 9.例文帳に追加

次いで、めっきレジスト層3を除去した後、バンプ4および位置合わせ用ターゲット5を被覆できる厚さのエッチングレジスト層7を形成し、エッチングレジスト層7に所定の配線パターンを位置合わせ用ターゲット5に対して位置合わせをして露光現像し、エッチングして回路配線9を形成する。 - 特許庁

In this rotation angle detecting method for detecting the rotation angle of a pattern image in the image using Zernike moment, learning patterns different respectively in the image conditions, and the rotation angles found based on the learning patterns are stored preliminarily, and the rotation angle is detected in response to the image condition in the input image.例文帳に追加

ツェルニケ・モーメントを用いて画像中のパターン画像の回転角度を検出する回転角度検出方法であって、画像状態が夫々異なる学習パターンと該学習パターンから求めた回転角度をあらかじめ記憶しておき、入力画像の画像状態に応じて回転角度を検出する。 - 特許庁

The doping method comprises: a stage where a solid surface is formed on a substrate; a stage where a dopant solution is made adjacent to the solid surface via a hollow member holding the dopant solution; and a stage where, with the substrate as either electrode, voltage is applied to the dopant solution, and the dopant is doped to the solid into a pattern shape.例文帳に追加

基板上に固体の表面を形成する工程と、ドーパント溶液を保持した中空部材を介してドーパント溶液を固体の表面に隣接させる工程と、基板を一方の電極として前記ドーパント溶液に電圧を印加して、固体にドーパントをパターン状にドーピングする工程とを含むドーピング方法を提供する。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.例文帳に追加

絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段102によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段103により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁

After an organic film pattern such as photo-resist is formed in the surface layer, impurity ions are implanted, the organic film is carbonized to provide a graphite film which is used as a mask for selective doping by a thermal diffusion method, and a surface roughening is prevented while impurity atoms are suppressed from being desorbed from the surface due to out-diffusion.例文帳に追加

表面層にフォトレジスト等の有機膜パターンを形成後、不純物イオンを注入し、その有機膜を炭化させたグラファイト膜をマスクとして熱拡散法による選択ドーピングをおこなうことにより、表面荒れを防ぐとともに不純物原子の外方拡散による表面からの脱離を抑制する。 - 特許庁

例文

To provide a method for automatically forming a character group having no unreadable characters for each character quality which is highly deformed in various manners as compared with an original character sample group when the learning character sample group is not enough for learning in character recognition by statistic pattern recognition.例文帳に追加

統計的パターン認識による文字認識において、学習用文字サンプル群だけでは十分な学習ができない場合に、元の文字サンプル群より変形の強度・様態が極めて多様・広範囲でありながら人間に読めない字を含まない文字集団を文字品質別に自動作成する方法を提供する。 - 特許庁




  
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