「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(443ページ目) - Weblio英語例文検索

The flexible printed wiring board 1 has constitution which is provided with a solder resist 6 which is coated and formed with a screen-printing method on a region containing the component mounting portion 5 of a conductor pattern 4, and a coverlay film 8 which is stuck so that the periphery of an opening 11 is overlapped with an upper part of the periphery of a solder resist 6.例文帳に追加

本発明のフレキシブルプリント配線板１は、導体パターン４の部品実装部５を含む領域にスクリーン印刷法により被覆形成されたソルダーレジスト部６と、開口部１１の外周部がソルダーレジスト部６の周縁部の上部に重なるように貼着されたカバーレイフィルム８と、を備えた構成を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the panel with the pattern comprises the steps of casting and filling the curable base material in the mold, then heating to cure the material, then press injecting the pressure medium in the gap 6 to elastically deform the mold 5 in a bent state, and separating the cured material from the mold 5.例文帳に追加

および上記の型体に、硬化性の基材を流し込んで充填した後、該基材を加熱して硬化させ、次いで該間隙６に加圧媒体を圧入して該加飾型５を湾曲状に弾性変形させ、硬化した該基材と該加飾型５とを離反させることを特徴とする模様付きパネルの製造方法。 - 特許庁

A mask generating part 13 of a device for image recording generates a plurality of mask patters according to a printing mode out of a pseudo-periodical mask arrangement with a high scattering property of dot visually as desirable so to arrange a recording element and a non-recording element when binarized at an optional level as a thinning out pattern in a method for a multi-pass recording.例文帳に追加

画像記録装置のマスク生成部１３は、マルチパス記録法における間引きパターンとして、任意のレベルで二値化された際に記録画素と非記録画素の配置が視覚的に好ましくなるようなドットの分散性の高い疑似周期的マスク配列から、印字モードに応じて複数のマスクパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of achieving improvement of exposure latitude, PEB temperature dependency and profile and reduction of scum, in a process of producing a semiconductor such as IC and in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、露光ラチィチュード、ＰＥＢ温度依存性改良、プロファイル改良、スカム低減について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask with steps, a photomask which is greatly improved in size precision of an auxiliary pattern by coating even a substrate, obtained by forming a shifter-dug step part on a transparent substrate by etching, with photosensitive resin so that the surface is smooth and the film thickness is uniform, or a photomask with a Levenson type phase shift.例文帳に追加

段差を持つフォトマスクや、透明基板にエッチングによってシフター掘り込みの段差部を形成した基板にも、表面平滑で、且つ膜厚を均一に感光性樹脂を塗布し、補助パターンの寸法精度を格段に向上させるようにしたフォトマスク、又はレベンソン型の位相シフトのフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a film carrier tape for electronic component mounting which enables rapid and accurate quality inspection such as the electrical disconnection and short circuit of a wiring pattern without raising resolving power, even if stain exists on the surface of the film carrier tape for electronic component mounting, and to provide an inspection device therefor.例文帳に追加

配線パターンの電気的な断線、短絡などの品質検査を、分解能を上げることなく、しかも、電子部品実装用フィルムキャリアテープの表面のシミが存在していても、迅速で正確な品質検査を実施することができる電子部品実装用フィルムキャリアテープの検査方法およびそのための検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of ensuring precision in data detection from a printed matter including a copy original for the creation of a data embedded image by dot on/off, embedding a sufficient amount of data, and adding a background pattern formed by dot arrangement simply, and to provide an image processing method and a program thereof.例文帳に追加

ドットオンオフによるデータ埋め込み画像の作成に対して、コピー原稿を含む印刷物からのデータ検出の精度を確保し、十分なデータ量を埋め込み、かつドット配置が形成する背景模様を簡単に付加することができる画像処理装置、画像処理方法、及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic transfer master disk capable of stably forming a highly accurate master substrate when a master disk having a recessed/projected pattern is subjected to electrocasting to form a master disk, and to provide a magnetic recording medium to which good preformat information is magnetically transferred.例文帳に追加

凹凸パターンを有した原盤に電鋳を施してマスター基板を作成するにあたり、高精度なマスター基板を安定して形成することのできる磁気転写用マスターディスクの製造方法を提供するとともに、良好なプリフォーマット情報が磁気転写された磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a toothbrush implanted with needle-like bristles manufacturable in a simple process reducing a fraction defective, and a toothbrush manufacturing method using defective bristles failing in adjusting the length for manufacturing the toothbrush, more firmly fixing the bristles for the toothbrush to the toothbrush, and freely adjusting an implanting bristle pattern and the quantity of bristles.例文帳に追加

製造工程が簡単で不良率が減少された針状毛が植毛された歯ブラシと、長さ調節に失敗した不良毛を歯ブラシの製造に利用でき、歯ブラシ用毛を歯ブラシに一層堅固に固定でき、植毛される毛のパターンと毛の数量を自由に調節できる歯ブラシの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor sensor provided with a cover plate, which does not require detailed positioning of the cover wafer upon exposing an electrode pad by processing the cover wafer after mounting the cover wafer in a wafer state, and preventing damage to a wiring pattern and the electrode pad and occurrence of residues of the cover wafer.例文帳に追加

カバー板を備えた半導体センサの製造方法において、ウェハ状態でカバーウェハを搭載した後にカバーウェハを加工して電極パッドを露出させる際にカバーウェハの詳細な位置合わせを必要とせず、かつ、配線パターン及び電極パッドの損傷及びカバーウェハの残渣物の発生を防止する。 - 特許庁

This forming method of a chip breaker includes a process of forming a three-dimensional shaped chip breaker pattern 24 on the surface 26 of the hard sintered body made of diamond and/or cubic boron nitride by revolving and moving a beam spot P around an illumination axis at high speed, using a Femtosecond pulsed laser 30.例文帳に追加

本発明のチップブレーカの形成方法は、フェムト秒パルスレーザ３０を用いて、そのビームスポットＰをビームの照射軸周りに高速で公転させながら移動させることでダイヤモンド及び／又は立方晶窒化硼素からなる硬質焼結体表面２６に三次元形状のチップブレーカパターン２４を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for patterning on the surface of the rock wool board comprises the steps of forming the stripe-like grooves 2 on the surface of the rock wool board 1 by cutting, and thereafter continuously pressing the stripe-like rugged part by the patterning roll 5 having the pins 4 of different diameters and protruding lengths and implanted thereto to form the rugged pattern 6.例文帳に追加

ロックウール基板１の表面にストライプ状の凹溝２を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部に直径、突出長さの異なるピン４を植設した模様付けロール５で連続的に押圧して凹凸模様６を形成することを特徴とするロックウールボードの表面模様付け方法にある。 - 特許庁

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料１３Ｂを露光、現像してパターン層１５を形成する方法において、基板１１の上に感光性レジスト材料１３Ｂを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層１３Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method and a device for spraying particulate capable of definitely suppressing the spraying of the particulate over a portion that is not required and stably forming an arbitrary spraying pattern that is clear-cut even if the particulate is being sprayed at a high speed over a fiber assembly conveyed with a conveyance belt.例文帳に追加

搬送ベルトにより搬送されてくる繊維集合体上に粉粒体を高速で撒布しても、撒布の不要な部分への粉粒体の撒布を確実に抑えると共に、鮮明な輪郭を有する任意の撒布パターンを安定して形成できる、粉粒体の撒布方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor test circuit for remarkably reducing an amount of a scanning test pattern and shortening a full scanning test time by modifying the constitution of an inside scanning chain at any time without increasing a test terminal and remarkably shortening a once-scanning shift action period in an LSI full scanning design, and to provide its test method.例文帳に追加

ＬＳＩのフルスキャン設計において、テスト端子を増加させずに、内部スキャンチェーンの構成を随時変更し、１回のスキャンシフト動作期間の大幅な短縮を行うことで、スキャンテストパターン量の大幅な削減とフルスキャンテスト時間の短縮を可能とする半導体テスト回路及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

The method is characterized that a wiring pattern is formed by forming a resist coating film where a circuit is expected to be formed after a 1st thin metal coating film is formed on a surface of an insulating substrate, removing the resist coating film after etching, and then forming the 2nd metal coating film by carrying out electrolytic plating.例文帳に追加

絶縁基板の表面に薄い第一金属皮膜を形成した後、回路の形成を予定する部分にレジスト皮膜を形成し、次いで、エッチング除去を行った後、レジスト皮膜を除去し、次いで、電解メッキを行うことにより第二金属皮膜を形成して、配線パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography, for forming a resist underlayer film capable of reducing reflectance, having high etching resistance, high heat resistance and solvent resistance, and free of the occurrence of twist particularly in the etching of a substrate; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a pad oxide film on a semiconductor substrate, forming a silicon nitride film on the pad oxide film, and providing a resist pattern containing at least one droplet capturing area in plan view, in an area that serves as a scribe line on the silicon nitride film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上にパッド酸化膜を形成する工程と、パッド酸化膜上にシリコン窒化膜を形成する工程と、シリコン窒化膜上のスクライブラインとなる領域に平面から見て少なくとも１つの水滴捕獲領域を含むレジストパターンを設ける工程とを有している。 - 特許庁

This method comprises steps of: depositing a copper-containing metallic thin film on a base material; selectively exposing the metallic thin film; and applying etching to the exposed part or the unexposed part by the use of the etching agent to which the additive for prevention of secular change is added to form the desired pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に銅を含む金属薄膜を形成する工程と、その金属薄膜を選択的に露光する工程と、露光された部位又は露光されない部位を経時変化防止用添加剤が添加されたエッチング剤でエッチングして所望のパターンを形成する工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a substrate for wiring circuit formation capable of improving the adhesiveness between an insulating layer and a conductive pattern and preventing delamination in metal thin layer, and to provide a wiring circuit substrate for which the substrate is employed and a method of forming a metal thin layer for forming the metal thin layer.例文帳に追加

絶縁層と導体パターンとの間の密着性の向上を図ることができ、しかも、金属薄層における層間剥離を防止することのできる、配線回路形成用基板、それが用いられる配線回路基板、その金属薄層を形成するための金属薄層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed board which can manufacture a circuit pattern with higher accuracy than that of a resist to be printed and formed by silk printing, or can use a high viscosity resist as the resist is printed on copper surface of the printed board by a gravure printing roll to be then etched or plated.例文帳に追加

グラビア印刷用ロールによりプリント基板の銅表面へレジストを印刷してその後、エッチングするか又はメッキするものであるので、シルク印刷によりレジストのパターンを印刷形成するよりも高精細な回路パターンを製作することができ、又、高粘度レジストを用いることができるプリント基板の製造方法。 - 特許庁

In the method for the electron beam exposure, exposure is repeated on the periphery of an adjoining pattern drawn by using a partial collective exposure mask by using an electron beam exposure mask having proximity effect correction openings arranged such that the size of the openings varies periodically at a predetermined ratio in the order of arrangement.例文帳に追加

開口部の大きさが配列順に所定の割合で周期的に変化するように配列された近接効果補正用の開口部を有する電子ビーム露光用マスクを用いて、部分一括露光用マスクを用いて描画した隣接するパターンの周辺部に重ねて露光することを特徴とする電子ビーム露光方法による。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can ensure satisfactory flame retardance without using a halogen-based flame-retardant and can obtain a cured product having a satisfactory elongation at break, a prepreg using the same, a metal-clad laminate, a sealing medium, a photosensitive film, a resist pattern-forming method, and a printed wiring board.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、十分な伸び率を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the electronic part includes steps of cutting a wiring board having a base substrate, a wiring pattern 18 formed on the first surface of the base substrate and a reinforcement member 20 provided on the second surface of the base substrate, and cutting the wiring board along a line which intersects with the periphery of the reinforcement member 20.例文帳に追加

電子部品の製造方法は、ベース基板と、ベース基板の第１の面に設けられた配線パターン１８と、ベース基板の第２の面に設けられた補強部材２０とを有する配線基板に切断加工を行って、配線基板を、補強部材２０の外周と交差する線に沿って切ることを含む。 - 特許庁

To provide a master disk defect measuring device which can be easily installed in a master disk cutting machine and can acquire, store and process a position and a scale of the defect generated in a rugged pattern of an optical master disk as data of a small amount of information and to provide an master disk defect measuring method.例文帳に追加

原盤カッティング機への設置が容易で、且つ光ディスク原盤の凹凸パターンに生じたディフェクトの位置及び大きさを情報量の少ないデータで取得、格納、及び処理することが可能な原盤ディフェクト測定装置、及び原盤ディフェクト測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To keep an interlayer insulating film as wide as possible while performing a damascene process by the use of an existing metal wiring pattern mask and to make a space between pieces of metal wiring wide enough for preventing them from interfering with each other so as to provide a method of forming the metal wiring of a semiconductor device and capable of preventing it from malfunctioning.例文帳に追加

既存の金属配線パターンマスクを用いてダマシン工程を実施しながら層間絶縁膜の幅を最大限確保し、金属配線間の間隔を広めて相互干渉を防止することにより、半導体素子の誤動作を防止することが可能な半導体素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern correcting method, a low-viscosity film 41 is irradiated with laser light in the state wherein the defective portion is not irradiated with the laser light to form a mask 40 having a hole 40a, the mask 40 is stuck to a substrate 14, and correction liquid 20 is applied to the defective portion 13a through the hole 40a.例文帳に追加

このパターン修正方法では、レーザ光が欠陥部１３ａに照射されない状態で低粘着フィルム４１にレーザ光を照射して孔４０ａの開いたマスク４０を形成し、マスク４０を基板１４に密着させ、孔４０ａを介して欠陥部１３ａに修正液２０を塗布する。 - 特許庁

A joining pattern is formed by printing resin-coated metal particles 10 each comprising a metal particle 1 having a melting point of 250°C or below and an average diameter of 0.1-20 μm and a resin layer 2 covering it and having a melt viscosity of 500 Pa*s or less at 200°C on a circuit board 40 by using an electrophotography method.例文帳に追加

２５０℃以下の融点を有する平均粒径０．１〜２０μｍの金属粒子１と、これを被覆する２００℃における溶融粘度が５００Ｐａ・ｓ以下の樹脂層２からなる樹脂被膜金属粒子１０を、回路基板４０上に電子写真法を用いて印刷して接合パターンを形成する。 - 特許庁

Performance selecting condition inference processing B106 infers the next selection candidate performance method in accordance with game panel information (command receiving frequency, change pattern appearance probability, etc.), stored in a game information database B104 and performance selection result information, and it additionally stores the result in a selecting condition database B107.例文帳に追加

演出選択条件推論処理（Ｂ１０６）は、遊技情報データベース（Ｂ１０４）に格納された遊技台情報（コマンド受信回数、変動パターン出現確率等）等と演出選択結果情報に基づいて、次回の選択候補演出方法を推論し、その結果を選択条件データベース（Ｂ１０７）に追加格納する。 - 特許庁

The method of manufacturing the liquid crystal display includes supplying the liquid crystal by at least one dispenser, controlling a dropping amount of the liquid crystal by matching it with a pattern width of a sealant formed on any one roll film base material and being continuously bonded by a roll laminator comprising rollers on one side or both the sides.例文帳に追加

液晶の供給を少なくとも１台のディスペンサより行い、液晶の滴下量を何れかのロールフィルム基材上に形成されたシール材のパタン幅に合わせて制御し、片側ないし両側にローラーを具備したロールラミネーターにより連続して貼合する事を特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 特許庁

This method for forming the fine structural pattern has an arranging process for arranging a large number of plastic particles on a predetermined substrate, a plating process for precipitating a predetermined metal element on the substrate and the gaps between the plastic particles and a process for dissolving the plastic particles in an organic solvent.例文帳に追加

本方法は、所定の基板上に、多数のプラスチック粒子を配列させる配列工程と、前記基板上及び前記プラスチック粒子どうしの隙間に、所定の金属元素を析出させるめっき工程と、前記プラスチック粒子を有機溶剤に溶解させる工程を有する微細パターンの形成方法である。 - 特許庁

To provide a method for tuning a lithography system so as to be capable of forming a different pattern image in a different lithography system employing a known process which does not necessitate the process of trial and error which is carried out so as to optimize the settings of a process and a lithography system for individual lithography systems.例文帳に追加

それぞれの個別リソグラフィシステム用にプロセス及びリソグラフィシステム設定を最適化するように実行される試行錯誤のプロセスを必要としない既知のプロセスを使用して、異なるリソグラフィシステムで異なるパターンを結像できるようにリソグラフィシステムをチューニングするための方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for determining a periodic unevenness correction pattern capable of correcting periodic unevenness of a rotary polygon mirror with high accuracy in each mode, when an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam by a rotary polygon mirror operates in two or more modes with different scanning pitches or the like, and to provide a light beam scanner.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置が走査ピッチが異なる等の複数のモードで動作する場合、各モード毎に回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できるようにした周期的むら補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, an organic EL layer 3 including a red light-emitting layer 36R, a green light-emitting layer 36G and a blue light-emitting layer 36B formed by an ink-jet method is formed on the electrode 28 at the opening 26x of the pattern 26 and a metal electrode 42 and a sealing layer 44 are formed on the EL layer 3.例文帳に追加

さらに、有機絶縁層パターン２６の開口部２６ｘの透明電極２８上にインクジェット法で形成された赤色発光層３６Ｒ、緑色発光層３６Ｇ及び青色発光層３６Ｂを含む有機ＥＬ層３が形成され、その上に金属電極４２及び封止層４４が形成されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a buildup type multilayer printed circuit board by which a roughening process of a resin surface is omitted, and disconnection at pattern forming in thinning of 30 μm or less, and an increase in a transmission loss by a roughened surface involved in making a frequency higher are suppressed, in manufacturing the printed circuit board.例文帳に追加

ビルドアップ型多層プリント配線板を製造するに際し、樹脂表面の粗化工程を省略すると共に、３０μｍ以下の細線化におけるパターン形成時の断線や、高周波化に伴う伝送損失の粗面による増大を抑制することが可能な、ビルドアップ型多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a pattern and the electronic parts are disclosed.例文帳に追加

（Ａ）酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するポリイミド前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体、（Ｂ）活性化学線照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）アルコール性水酸基を２価以上含む化合物及び（Ｄ）溶剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品。 - 特許庁

(2) The method for producing the colored and patterned nonwoven fabric is characterized in that the partial colored pattern is formed and fixed at least on one surface of the nonwoven fabric composed of the synthetic fiber having the bonds among the fibers strengthened by the uniformly arranged partial concave parts, and the resultant nonwoven fabric is colored by the dye.例文帳に追加

(2) 均等に配置された部分凹部により繊維間の結合が強化された合成繊維からなる不織布の少なくとも片面に、顔料および／または染料で部分着色模様を形成して固着した後、該不織布を染料で着色することを特徴とする前記着色模様不織布の製造方法。 - 特許庁

In a clock regenerator and a clock regeneration method, a clock synchronized with an input signal is generated, and a head bit of synchronous data in a specified pattern added to the head of each packet contained in an input signal is detected, and when the head bits of the synchronous data are detected, the phase of the clock is reset to the initial phase.例文帳に追加

クロック再生装置及びクロック再生方法において、入力信号に同期したクロックを生成し、入力信号に含まれる各パケットの先頭に付加された所定パターンの同期データの先頭ビットを検出し、同期データの先頭ビットを検出したときに、クロックの位相を初期位相にリセットするようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for semiconductor laser that can correct a horizontal deviation angle of a far field pattern (FFP) of semiconductor laser's emission light and realize a desirable emission light property when the horizontal deviation angle arises in the FFP of the semiconductor laser's emission light by making up semiconductor laser, e.g., with an off substrate in semiconductor laser manufacture.例文帳に追加

半導体レーザの製造において、例えばオフ基板によって半導体レーザを構成したことにより半導体レーザの出射光のファーフィールドパターン（ＦＦＰ）に水平ズレ角が発生する場合に、このＦＦＰの水平ズレ角を修正し、所望の出射光特性を実現する半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

This micro-bead automatic identifying method comprises a step of acquiring an image of a circular surface of the cylindrical micro-bead having the identification pattern and a plurality of reference points formed on the circular surface, and a step of acquiring information about both sides and/or tilting of the micro-bead based on the positions of the reference points in the acquired image.例文帳に追加

識別パターンと複数の基準点を円形面に形成した円柱形のマイクロビーズの円形面の画像を取得するステップと、取得された画像において、基準点の位置に基づき、マイクロビーズの裏表及び／又は傾きに関する情報を取得するステップと、を含むマイクロビーズ自動識別方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源１６からの露光光で、照明系ＩＬ１，ＩＬ２を介してレチクルステージ系ＲＳＴに保持されているレチクルＲ１を照明し、レチクルＲ１のパターンの像を投影光学系ＰＬを介してウエハステージ系ＷＳＴに保持されているウエハＷ１上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing has the part body forming process in which the molded articles are each irradiated with the laser beam to cut it into a required shape and to form a plurality of the part bodies, and the fitting and arranging process in which a plurality of the part bodies are each fitted and arranged so as to turn them into a specified pattern in a receiving tray.例文帳に追加

本発明の製造方法は、前記成型品それぞれに、レーザー光を照射して所望形状に切断し、複数の部分体を形成する部分体形成工程と、受皿内において、前記複数の部分体を所定の模様となるようにそれぞれ嵌合配置する嵌合配置工程とを有している。 - 特許庁

To provide a photo-curable paint for a film and a method for forming a decorative coating using the same, wherein defective curing of a coating is not caused and a coating can be formed in a short time and a decorative effect can be realized by generating a rough pattern in the coating itself upon curing the coating.例文帳に追加

塗膜の硬化不良等の問題を生じず、短時間で塗膜を形成することができるとともに、塗膜を硬化させる際に塗膜自体に凹凸を発生させて装飾効果を発揮させることのできる光硬化性塗料、及び該塗料を使用した装飾性塗膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming a plating resist to a metal plate as a lead for electrolytic plating, and then irradiating laser or partially etching to the metal plate of the part to be finally becoming a terminal for connecting the chip, forming a wiring pattern by the electrolytic plating, forming an insulating film on it, and removing the metal plate by etching at the end.例文帳に追加

電解メッキ用リードとしての金属板にメッキレジストを形成後、最終的にチップ接続用端子となる部分の金属板に、レーザー照射もしくは、部分エッチングを行い、電解メッキにより配線パターンを形成し、その上に絶縁膜を形成し、最後に金属板をエッチングにより除去する。 - 特許庁