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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
The method comprises a stage of radiating four laser light beams to a photosensitive synthetic resin to generate first laser light interference patterns perpendicular to each other and a stage of radiating four laser light beams to the photosensitive synthetic resin to generate second laser light interference pattern perpendicular to the first laser light interference patterns.例文帳に追加
感光性合成樹脂に4本のレーザ光を照射して相互に垂直である第一のレーザ光干渉パターンを生成すること、及び感光性合成樹脂に4本のレーザ光を照射して第一のレーザ光干渉パターンに対して垂直な第二のレーザ光干渉パターンを生成することを含む。 - 特許庁
In the mounting method of jointing a mounting pattern formed at the FPC and a terminal formed at an IC package, soldering is carried out after forming reverse warping corresponding to the warping of FPC with the reinforcing plate generated at the time of soldering.例文帳に追加
FPCに形成された実装パターンとICパッケージに形成された端子を半田付けで接合する実装方法において、半田付け時に発生する補強板付FPCの反りに対応する逆反りを補強板付FPCに形成してから半田付けする補強板付FPCとICパッケージの実装方法とする。 - 特許庁
The method can prevent an inorganic hard mask film from being damaged by the formation of a pattern by forming a multilayer mask layer, including the inorganic hard mask film, an organic mask film, an antireflection film, and a silicon containing photo resist film and dry-etching the antireflection film and the organic mask film using O_2 plasma.例文帳に追加
この方法は無機ハードマスク膜、有機マスク膜、反射防止膜及びシリコン含有フォトレジスト膜が積層された多層のマスク層を形成し、O_2プラズマで前記反射防止膜及び有機マスク膜を乾式エッチングしてパターンを形成することによって無機ハードマスク膜の損傷を防止することができる。 - 特許庁
The method includes a process in which after an ultraviolet curable resin is supplied to a mold, a roller with a spiral groove is rotated, and by forming a flow along a fine uneven pattern, bubbles adherent to the interface between the mold and an ultraviolet curable resin coated film layer is discharged effectively.例文帳に追加
成形型上に紫外線硬化型樹脂を供給した後、螺旋状溝付ローラーを回転させ、微細凹凸パターンに沿った流動を与えることにより、前記成形型と紫外線硬化型樹脂塗膜層の界面に付着した気泡を効果的に排出する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
To take a format of a dynamic patterning device into consideration in such a manner that pattern data is not restricted by a parameter which is necessary in a static patterning device environment, and unnecessary in a dynamic patterning device environment in a system and method for generating patterning data used by the dynamic patterning device.例文帳に追加
動的パターニングデバイスにより使用されるパターンデータを発生するためのシステムおよび方法において、パターンデータが、静的パターニングデバイス環境で必要であり、動的パターニングデバイス環境では不必要なパラメータによって制約されないようにし、使用される動的パターニングデバイスの形式が考慮されるようにする。 - 特許庁
This antenna forming method is characterized by forming a masking 4 for shielding an antenna pattern formed of a metal film 2, on the metal film 2 provided on a base material 1, and then chipping an exposed portion of the metal film 2 by blasting to form the antenna consisting of the metal film 2.例文帳に追加
本発明のアンテナの形成方法は、ベース基材1上に設けられた金属膜2に、その金属膜2から形成されるアンテナパターンを遮蔽するマスキング4を施した後、ブラスト加工により、金属膜2の露出している部分を削り取り、金属膜2からなるアンテナを形成することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method, which in a short time, manufacture a resin molded product which can transfer a mold transfer surface in which a detailed concavo-convex pattern is formed on a resin molded body surface with high precision without using a complicated drive unit for driving while maintaining a high pressure of carbon dioxide gas.例文帳に追加
二酸化炭素気体の高圧を維持しながら駆動させるための複雑な駆動装置を用いずに、短時間で、樹脂成形体表面に微細な凹凸パターンが形成された金型転写面を高精度に転写できる樹脂成形品を製造する製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a wiring substrate and a production method thereof which allow for miniaturization of wiring patterns formed on both sides of a wiring substrate having a through-hole, enhancement of the connection reliability of a portion adjacent to the inner wall of the through-hole, and improvement of the impedance properties of the wiring pattern in the same layer.例文帳に追加
スルーホールを有する配線基板の両面に形成される配線パターンの微細にし、スルーホール内壁面に隣接する部分の接続信頼性を向上させ、同一層内における配線パターンのインピーダンス特性を向上させることが可能な配線基板および配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mold for molding quartz glass hardly allowing deficiencies, cracks, etc., from occurring, excellent in durability, and giving a molded quartz glass article free from contamination and surface roughness even when having a fine pattern or shape; and a method for easily manufacturing such a mold for molding quarts glass at a low cost.例文帳に追加
微細な模様や形状を有する場合であっても、欠落や割れ等が生じにくく、耐用性に優れ、かつ、石英ガラス成形体に汚染や表面の荒れを生じさせることがない石英ガラス成形用型、および、このような石英ガラス成形用型を、容易かつ低コストで得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁
The edge defect detecting method of the invention is provided with the process of enhancing the edge defects at edges E1-E3 in a plurality of the directions D1-D3 in the pattern P, and obtaining edge defect enhancement values by applying an edge defect enhancement filter to a captured image.例文帳に追加
本発明のエッジ欠陥検出方法は、撮像画像にエッジ欠陥強調フィルタを適用することにより、パターンPにおける複数の方向D1〜D3にそれぞれ沿った各エッジE1〜E3に係るエッジ欠陥を強調し、エッジ欠陥強調値を取得するエッジ欠陥強調工程を備える。 - 特許庁
To provide a wet processing method and a wet processing device that simplify a configuration and reduce processing costs when the pattern of a circuit etc., is formed on the substrate of silicon etc., and prevent dirt of photoresist, a metal film, etc., peeled from the silicon substrate from re-sticking on the silicon substrate.例文帳に追加
シリコン等の基板上に回路等のパターンを生成する場合において、構成の簡略化及び処理コストの低減化を実現し、シリコン基板から剥離したフォトレジスト及び金属膜などの汚れがシリコン基板上に再付着するのを防止し得るウエット処理方法及びウエット処理装置を提供する。 - 特許庁
The color filter is characterized by having a transparent substrate, the pixel parts arranged on the transparent substrate with a specified pattern of plural colors with an inkjet method and liquid repellent parts formed between the pixel parts and having a contact angle with a liquid larger than that of the transparent substrate.例文帳に追加
本発明は、透明基板と、この透明基板上にインクジェット方式により複数色を所定のパターンで設けられた画素部と、上記画素部間に形成され、かつ上記透明基板よりも液体との接触角が大きい撥液性部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより上記目的を達成する。 - 特許庁
To provide stacking scheduling device and method for scheduling a stacking pattern at the high degree of freedom by easily changing the importance of a stacking rule and adding the stacking rule at the time of three- dimensionally stacking the plural loads of different sizes to the palette of a limited space or the like.例文帳に追加
サイズの異なる複数の荷姿を限られたスペースのパレット等へ3次元的に積み付ける際、積付ルールの重要度の変更や、積付ルールの追加を容易に行うことにより、自由度の高い積付パターンのスケジューリングを可能とする積付スケジューリング装置および方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加
選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むHBT層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、HBT素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁
The method tests for continuity, by fitting the second press fit connector 38 of a testing jig 39 mounted on a testing printed circuit board 40 to the first press fit connector 14 mounted on the board 20 and connecting the testing conductor pattern of the printed circuit board selectively to the respective output land of the testing jig.例文帳に追加
その検査方法は、検査用プリント回路板40に実装された検査用治具39の第2プレスフィットコネクタ38をプリント回路板20上に実装された第1プレスフィットコネクタ14に嵌合させ、プリント回路板の検査用導体パターンを検査用治具の出力ランドの各々に選択的に接続して導通検査する。 - 特許庁
The screening method contains a step to select an agent for the treatment of male pattern alopecia from treating agent candidate compounds by using an activity inhibition against at least one substance selected from active TGF-β1 and TGF-β1 activation factor.例文帳に追加
前記目的を解決するために、本発明の男性型脱毛治療薬のスクリーニング方法は、活性型TGF−β1およびTGF−β1活性化因子の少なくとも一方に対する活性阻害を指標として、治療薬候補化合物から男性型脱毛症治療薬を選択する工程を含むスクリーニング方法である。 - 特許庁
In the plasma etching method, a substrate W having a mask pattern formed on a surface is etched in a plasma chamber wherein a target material 30 for sputtering is installed, and plasma of an oxygen-based gas is generated in the plasma chamber in or after the etching of the substrate to ash a surface of a target material 30.例文帳に追加
本発明に係るプラズマエッチング方法は、スパッタ用のターゲット材30が設置されたプラズマチャンバ内で、表面にマスクパターンが形成された基板Wをエッチングし、基板のエッチングの途中またはエッチング後に、プラズマチャンバ内で酸素系ガスのプラズマを発生させて、ターゲット材30の表面をアッシングする。 - 特許庁
To provide a method of applying a liquid resist ink for uneven pattern formation which can minimize the consumption of the liquid resist ink and apply the liquid resist ink evenly on a substrate, and further, can check the behavior of the liquid resist ink finding its way all around to the back of the substrate which need not be coated.例文帳に追加
本発明は、液状レジストインキの使用量を少量に抑え、基板上に均一に液状レジストインキを塗布することを可能とし、しかも塗布が不要な基板の裏側部分にまで液状レジストインキが回り込むことが無い凹凸パターン形成用液状レジストインキの塗布方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the software includes a configuration information management 126 for performing processing to grasp a present network configuration; a configuration modification pattern searching part 127 for searching for a new network configuration in accordance with the fault handling method; and a configuration modification instruction part 128 for transmitting to a network device information (instruction) indicative of a modified network configuration.例文帳に追加
また、現在のネットワーク構成を把握する処理を行う構成情報管理部126、障害対応方法に応じた新たなネットワーク構成を検索する構成変更パターン検索部127、および変更後のネットワーク構成を示す情報(命令)をネットワーク装置に送信する構成変更命令部128を含む。 - 特許庁
In the method for forming the organic EL thin film, a screen mask in which a photosensitive agent 3 having a prescribed pattern is formed in a wire mesh 2 is arranged above a substrate 4 to prevent the wire mesh 2 from coming into contact with the substrate 4, and a raw material solution containing an organic EL material is sprayed by a microsprayer 10.例文帳に追加
ワイヤメッシュ2に所定のパターンを有する感光剤3を形成してなるスクリーンマスクを、基板4の上方に、ワイヤメッシュ2が基板4に接触しないように設け、上方からマイクロスプレー10により有機EL材料を含む原料液を噴霧する有機EL薄膜の形成方法である。 - 特許庁
To provide an IC card substrate of a both-surface conduction pattern type, which is simpler in manufacturing process than a system having copper foil on both its surface and reducible in cost, and is not much lowered in radio wave detection characteristic when compaired with a system having conductive paste on its both surfaces, and its manufacturing method.例文帳に追加
両面を銅箔とした方式のものに比べて製造工程が簡単で、コスト低減が可能であり、しかも、両面を導電ペーストとした方式のものに比べて電波の検出特性がそれほど低下することのない両面導電パターン型のICカード用基板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁
This method includes the processes to form a fluid melt by heating a resin material; discharge the melt into a first nip 18 as a contact part between an embossing roll 20 and a back roll 22; press the melt to the embossing roll 20 and the back roll 22; and form a self-supporting film with an embossed pattern on the surface.例文帳に追加
本発明の方法は、樹脂材料を加熱して流動性メルトを形成し、エンボスロール20と背面ロール22との間の接触部である第一のニップ18にメルトを放出し、エンボスロール及び背面ロールにメルトをプレスし、表面にエンボスパターンを有する自立フィルムを形成することを含む。 - 特許庁
To provide a paste impartion apparatus capable of suppressing the thickness at ends in the width direction of a paste pattern from being made thiner than the thickness at a center part and suppressing the thickness at the center part from being thick excessively when paste is imparted to an electronic component, and to provide a method for manufacturing the electronic component.例文帳に追加
電子部品にペーストを付与した場合において、ペーストパターンの幅方向の端部の厚みが中央部に比べて薄くなることを抑制することが可能であるとともに、中央部の厚みが厚くなりすぎることを抑制することが可能なペースト付与装置および電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a simple and easy-to-prevail device for manufacturing a printed wiring board without raising cost, and a method for manufacturing with a sufficient yield a high-density and highly precise printed wiring board having the uniform precision of a conductor pattern on its top and bottom surfaces without reducing productivity.例文帳に追加
製造装置の製造コスト高騰を招くことなく簡便かつ普及が容易なプリント配線板の製造装置を提供し、生産性を低下させることなく上下面の導体パターン精度を均一にし、高密度・高精度のプリント配線板を歩留まりよく生産することを目的とするものである。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein laser processing can be carried out without controlling the laser energy depending on whether an inner wiring pattern is present or not, and without causing a penetration failure to an outer metal foil which serves as a power feeder layer for electrolytic plating when a through-hole filled with metal is provided on a multilayer printed wiring board.例文帳に追加
多層プリント配線板に金属が充填されたスルーホールを形成する際に、内層配線パターンの有無によるレーザエネルギーのコントロールを不要にし、且つ、電解めっきの給電層となる外層金属箔の貫通不良の懸念のないレーザ加工を可能とした多層プリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁
In the method of manufacturing a conductor pattern, a step of printing mask portions on a board by using a printing material containing a solvent-soluble resin as a main component, a step of laminating a conductive member upon the whole surface of the substrate, and a step of removing the printing material with a solvent, are successively performed in this order.例文帳に追加
支持体上に溶剤溶解性の樹脂を主成分とする印刷材料でマスク部分を印刷する工程と、導電性部材を全面に積層する工程と、前記印刷材料を溶剤で除去する工程とをこの順に有することを特徴とする導電性パターン製造方法。 - 特許庁
In an image display method, proper texture patterns are produced to each color in the multi color image by using a continuously variable screening tool, the tool is produced by a mixture pattern from a set of reference screens, the reference screens correspond to, for example, selected reference colors in a color space not depending on a machine.例文帳に追加
連続可変スクリーニングツールを用いてマルチカラー画像における各色に対し固有のテクスチャパターンを生成し、連続可変スクリーニングツールは1組の基準スクリーンからの混和パターンによって生成され、これら基準スクリーンは例えば、機械に依存しない色空間における選択された基準色に対応付けられる。 - 特許庁
To provide a print pattern for inspecting an optical sensor judging ink ejection in which ink ejection can be judged accurately and surely at all times at the time of screening inspection of the optical sensor being used as an ink ejection judging device, and to provide a system and a method for inspecting an optical sensor judging ink ejection.例文帳に追加
インク吐出判定装置として使用される光学式センサの選別検査において常に正確かつ確実な判定を行うことを可能とするインク吐出判定用光学式センサ検査用印刷パターン、インク吐出判定用光学式センサ検査システム及びインク吐出判定用光学式センサ検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a coloring pigment masterbatch reduced in coloration loss more than that in the conventional, being capable of giving a patterned appearance of a low dispersion, and being capable of forming a composition giving a clearly pattern-colored molding when it is added in a small amount even to a molding material containing a filler injurious to coloration and to provide a method for producing the masterbatch.例文帳に追加
従来以上に着色ロスが少なく、バラツキの少ない模様外観が得られ、着色性を阻害するフィラーを含む成形材料に対しても、少量添加で、明瞭な模様着色の成形品を得ることができる着色顔料マスターバッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
In this method, an exciting light capable of causing a self- fluorescence is emitted to the contact lens having a part changed in thickness in the circumferential direction of the lens, and the lens attitude is inspected or discriminated by the luminance pattern of a lens fluorescent image formed by the self-fluorescence caused by the emission of such an exciting light.例文帳に追加
レンズ周方向において厚みが変化する部位を有するコンタクトレンズに対して、自家蛍光を生ぜしめ得る励起光を照射し、かかる励起光の照射によって生じる自家蛍光にて形成されるレンズ蛍光像の輝度パターンより、レンズ姿勢を検査乃至は判定するようにした。 - 特許庁
The positive photosensitive composition contains (A) a resin having a repeat unit represented by general formula (I) and a repeat unit represented by general formula (II), and (B) a compound which generates an acid by irradiating with an active ray or radiation, and the pattern forming method using the positive photosensitive composition is also provided.例文帳に追加
(A)一般式(I)で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
To solve the problem in a conventional method for manufacturing an ink jet recording head that the ejection characteristics deteriorate due to fine scum (residue of development) produced through pattern exposure of ink ejection opening (nozzle) and can not follow up higher image quality and higher definition required by a modern printer.例文帳に追加
従来のインクジェット記録ヘッドの製造方法においては、インク吐出口(ノズル)のパターン露光における微細なスカム(現像残渣)が生成されるため、吐出特性が低下し、近年のプリンタに要求される益々の高画質化、高精細化に追随できないため、スカムの生成をなくする製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加
本発明は、SiCを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、SiC基板1の{0001}面に、アライメントマーク2を形成する工程と、アライメントマーク2に基づき、転写マスクとSiC基板1との位置合わせを行いSiC基板1上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁
In the mask layout pattern verification method of a semiconductor integrated circuit, predetermined rectangular data is selected by examining the number of vertexes and the presence of a long side for data to be verified, the coordinates of four vertexes are extracted for the selected rectangular data, and the long side direction and the coordinate of the center of the rectangular data are calculated.例文帳に追加
半導体集積回路のマスクレイアウトパターン検証方法において、検証対象データに対して頂点数と長辺の存在を調べることにより、所定の矩形データを選別し、選別された矩形データに対して、4頂点の座標を抽出し、矩形データの長辺方向及び中心座標を算出する。 - 特許庁
To provide a packaging method of a semiconductor chip for preventing short-circuiting in wiring without correcting misalignment even if there is the positional misalignment between a substrate-side terminal of a substrate and a connection terminal of a semiconductor chip to a certain degree when packaging the semiconductor chip onto the substrate, and for facilitating the data processing of a discharge pattern.例文帳に追加
基板上に半導体チップを実装するに際して、基板の基板側端子と半導体チップの接続端子との間にある程度の位置ズレがある場合でも、位置ズレを補正することなく配線のショートを防止し、吐出パターンのデータ処理を容易にした、半導体チップの実装方法を提供する。 - 特許庁
To improve production efficiency by reducing time for acquiring exposure point data, in a method for acquiring the exposure point data, which is used for exposing an exposure pattern onto a substrate by a micromirror based on the exposure point data and is acquired from an original image data according to deformation or the like of the substrate.例文帳に追加
露光点データに基づいてマイクロミラーにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データであって、基板の変形などに応じて原画像データから取得される露光点データの取得方法において、その露光点データの取得時間を短縮し、生産効率の向上を図る。 - 特許庁
To provide a boiler steel pipe for a rifle tube, a steel plate for the boiler steel pipe, and its manufacturing method capable of eliminating seizure, cost-up, etc., which are likely with a conventional rifle tube with its inside surface furnished with a spiral pattern manufactured through a cold drawing process using a die or a plug.例文帳に追加
ライフルチューブ用ボイラ鋼管およびボイラ鋼管用鋼板ならびにその製造方法に関するものであって、従来ダイスまたはプラグを用いた冷間引き抜きにより製造されていた内面に螺旋模様のついたライフルチューブの問題点である焼き付きの発生、コストアップ等を解決することを目的とする。 - 特許庁
This method includes a process of forming a reflection preventing film on the base substrate, a process of forming a photoresist having a prescribed pattern on this reflection preventing film, a first etching process for etching the reflection preventing film with this photoresist as a mask, and a second etching process for etching the base substrate with the reflection preventing film as a mask.例文帳に追加
下地基板上に反射防止膜を形成する工程と、この反射防止膜上に所定パターンを有するフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストをマスクとして反射防止膜をエッチングする第1のエッチング工程と、反射防止膜をマスクとして下地基板をエッチングする第2のエッチング工程とを有する。 - 特許庁
In the substrate inspection method, phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate is acquired by successively irradiating the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts with pattern illumination, and height data classified by the projection parts in relation to the substrate is extracted by using the acquired phase data classified by the projection parts.例文帳に追加
本発明の基板検査方法によると、複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得し、取得された投影部別位相データを用いて基板に対する投影部別高さデータを抽出する。 - 特許庁
An ink layer with a specified pattern of pinholes is formed by applying an ink coating liquid with 10-18" viscosity by a Zern cup measuring method using a gravure coating process with a gravure printing plate having 170-220 mesh and a groove depth of 45-70 in such a manner that the coating build-up is 1.0-1.8 g/m2.例文帳に追加
ザーンカップ測定法による粘度が10ないし18秒インク塗布液を、塗布量1.0ないし1.8g/m^2で、メッシュ170ないし220メッシュ及び溝の深度45ないし70のグラビア版を用いてグラビア塗工法により塗工して所定のパターンのピンホールを有するインク層を形成する。 - 特許庁
To provide a focusing method for optical image receiving facility that utilizes frequencies different between the optical image receiving facility (e.g. a CRT display device) and a CCD camera, allowing the CCD camera to photograph a specific pattern displayed on the optical image receiving facility and causing an interference onto a monitor screen of the optical image receiving facility thereby permitting focusing.例文帳に追加
受像設備(例えばCRT表示装置)とCCDカメラとの間の異なる周波数を利用して、該CCDカメラによって該受像設備における特定パターンを撮影すると共に、干渉現象を発生させ、それによって焦点合わせを行う光学受像設備の焦点合わせ方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the color filter has the color filter formed by using a transfer sheet 2A, transferring a transfer layer 22A on a sheet-like base material 1, having an ionizing radiation 6 irradiated in the form of a pattern, thereafter, repeatedly forming a color filter layer 7A by a developing ionizing radiation process, and forming a black matrix, as needed.例文帳に追加
転写シート2Aを用い、シート状基材1上に転写層22Aを転写しておき、電離放射線6をパターン状に照射し、その後、現像する電離放射線プロセスにより、カラーフィルター層7Aを形成することを繰り返し行ない、必要に応じブラックマトリックスを形成してカラーフィルターを得る。 - 特許庁
The method for charging a paste comprises the steps of fixing a film 3 formed with recess pattern grooves 4 on its surface onto a stage 2, then filling the paste 5 in the grooves 4 of the film 3 and thereafter sliding a squeegee 6 on the surface of the film 3 in a state in which the squeegee 6 is inclined to the grooves 4.例文帳に追加
そしてこの目的を達成するために本発明は表面に凹状のパターン溝4を形成したフィルム3をステージ2上に固定し、次に前記フィルム3のパターン溝4内にペースト5を充填し、その後前記フィルム3表面上に前記パターン溝4に対して傾斜した状態でスキージ6を摺動させるものである。 - 特許庁
This layout design method includes: an error discrimination step S6 for discriminating an error of the layout wiring after a power source is wired in a grid pattern; and a stack via erasure step S20 for, when there is a layout wiring error, designating an erasure range based on error coordinates, to remove a stack via in the erasure range.例文帳に追加
本発明のレイアウト設計方法は、格子状の電源配線を配置し、配置配線した後、配置配線のエラーを判定するエラー判定ステップS6と、配置配線のエラーがある場合には、エラー座標に基づき削除範囲を指定し、当該削除範囲のスタックビアを取り除くスタックビア削除ステップS20とを有する。 - 特許庁
To provide a photomechanical process for a planographic printing plate capable of giving an image with high resolution, adaptable to a direct pattern forming method with a laser, capable of giving an image particularly even in a light room, producing no waste liquid and very excellent in ink/water responsiveness and printing durability.例文帳に追加
平版印刷版の製版技術において、高解像性を有する画像を得ることができ、かつレーザによる直接描画方法に対応し、また特に明室下でも画像を得ることができ、廃液が発生することがなく、インキ/水応答性、耐刷性に非常に優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a drive signal formation device for delivery head, a printer and a drive signal formation method for delivery head which can keep smaller a memory capacity of a storage means for storing the number of pattern of waveform data used even if this number gets more and prevent a big load from being imposed on a central processing unit.例文帳に追加
使用する波形データのパターン数が多くなっても、それを記憶する記憶手段の記憶容量を小さく済ますことができ、しかも中央処理装置に大きな負荷がかかることのない吐出ヘッド用駆動信号生成装置、印刷装置及び吐出ヘッド用駆動信号生成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method by which such a printed wiring board can be manufactured that fine irregularities can be formed easily on the surface of a circuit through a simple step and, even when a fine pattern having narrow line widths and line intervals is formed, the deficit, such as the edge chipping, etc., of the circuit can be suppressed.例文帳に追加
回路の表面に簡易な工程にて容易に微細な凹凸を形成することができ、更に、ライン幅及びライン間隔が狭いファインパターンを形成する場合であっても、回路の表面に凹凸を形成するにあたり、回路の角落ち等の欠損を抑制することができるプリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁
A projection method for projecting position information to a projection plane projected by the projector has a first step for projecting projection data to the projection plane 430 by visible light and a second step for projecting an image pattern 400 with gradation different in accordance with a coordinates position of the projection plane 430 to the projection plane 430 by infrared light.例文帳に追加
プロジェクタにより投影される投影面に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面430に投影データを投影する第1のステップと、投影面430の座標位置に応じて階調の異なる画像パターン400を赤外光で投影面430に投影する第2のステップとを有する。 - 特許庁
To provide a method for measuring the alignment of a photolithographic step capable of correcting the error range of a pattern image to be transferred to the contraction and the expansion of the image, by measuring the aligning state to each short region on a wafer so as to be more effective and reliable.例文帳に追加
ウェハ上の各ショート領域に対するアライン状態を計測し、これをもとにアラインを補正することにより、転写されるパターンイメージの収縮膨張に対する誤差範囲をより効果的且つ信頼性のあるように補正することができるフォトリソグラフィー工程のアライン計測方法を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing a stamper for optical recording media in which a photoresist film formed on a glass master disk by coating is exposed with modulated laser light and developed to form a prescribed rugged pattern and a stamper is manufactured by electroforming, the surface of the glass master disk is subjected two or more times to HMDS coating for carrying out silylation before coating with a resist.例文帳に追加
ガラス原盤上に塗布されたフォトレジスト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定の凹凸パターンを形成した後、電鋳によりスタンパを製造する光記録媒体用スタンパの製造方法において、レジスト塗布前にガラス原盤表面のシリル化を行うHMDS塗布を複数回行う。 - 特許庁
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